鐳雕治具的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種鐳雕治具，包括基座及支撐板，所述支撐板豎直設置在所述基座上，所述支撐板一側轉動設置治具上模及治具下模，所述治具上模上設置治具下模且二者之間有間隙，面殼通過所述治具上模與治具下模之間的間隙夾緊。本實用新型中治具上模及治具下?？赊D動，在鐳雕過程中不用重復裝取治具，減少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重復裝取治具的時間，提高了生產(chǎn)效率。
【專利說明】鐳雕治具

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種鐳雕工具，尤其涉及一種鐳雕治具。

【背景技術】
[0002]鐳雕也叫激光雕刻或者激光打標，是一種利用光學原理進行表面處理的工藝。其加工原理為利用激光器發(fā)射的高強度聚集激光束于角點處，使材料氧化從而對其進行加工，打標的效應是通過表層物質(zhì)的蒸發(fā)露出深層物質(zhì)，或者通過光能導致表層物質(zhì)的化學物理變化出痕跡，或者是通過管光能燒掉部分物質(zhì)而刻出痕跡，或者是通過光能燒掉部分物質(zhì)，顯示所刻蝕的圖形、文字。
[0003]在針對手機外殼進行鐳雕的具體應用中，由于考慮到手機外殼的顏色搭配及美觀度，在同一個產(chǎn)品上經(jīng)常會存在幾種顏色，現(xiàn)有技術中針對該種顏色搭配的方式是，通過制作兩個或以上部件后再裝配的方式進行顏色搭配，該種處理工藝雖然可生產(chǎn)出符合需要的外殼。在實現(xiàn)上述的處理工藝時，需要設計一種結構更簡單、成本造價低的鐳雕工具。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型所要解決的技術問題是:提供一種結構簡單、提高鐳雕效率的鐳雕治具。
[0005]為解決上述技術問題，提供一種鐳雕治具，包括基座及支撐板，所述支撐板豎直設置在所述基座上，所述支撐板一側轉動設置治具上模及治具下模，所述治具上模上設置治具下模且二者之間有間隙，面殼通過所述治具上模與治具下模之間的間隙夾緊。
[0006]其中，所述支撐板上設置轉軸，所述治具上模連接在所述轉軸上，所述支撐板上還設置弧形滑槽，所述治具下模上設置有所述滑槽相適配的導柱，所述導柱插入滑槽內(nèi)并沿所述滑槽滑動。
[0007]其中，所述弧形滑槽開設在轉軸的上方，所述弧形滑槽的內(nèi)凹面朝向轉軸，所述弧形滑槽的弧度為180°。
[0008]其中，所述弧形滑槽開設在轉軸的一側，所述弧形滑槽的內(nèi)凹面朝向轉軸，所述弧形滑槽的弧度為180°。
[0009]本實用新型的有益效果在于:采用在基座上設置支撐板、治具上模以及治具下模，治具上模與治具下模留有夾緊面殼的間隙，并且治具上模及治具下?？赊D動，在鐳雕過程中不用重復裝取治具，減少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重復裝取治具的時間，提聞了生廣效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型一優(yōu)選實施例鐳雕治具的部分結構示意圖；
[0011]圖2是本實用新型一優(yōu)選實施例的工藝流程圖。
[0012]標號說明:
[0013]1-基座，2-支撐板，3-治具下模，4-治具上模，5-面殼，6_固定螺絲，7_螺絲墊片。

【具體實施方式】
[0014]為詳細說明本實用新型的技術內(nèi)容、構造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖詳予說明。
[0015]本實用新型最關鍵的構思在于:在支撐板上設置可轉動的治具上模及治具下模，而面殼設置于治具上模及治具下模之間，鐳雕時，可轉動治具上模及治具下模，省去了重復裝取治具的時間，提高了生產(chǎn)效率。
[0016]參閱圖1，一種鐳雕治具，包括基座I及支撐板2，所述支撐板2豎直設置在所述基座I上，所述支撐板2 —側轉動設置治具上模4及治具下模3，所述治具上模4上設置治具下模3且二者之間有間隙，面殼5通過所述治具上模4與治具下模3之間的間隙夾緊。
[0017]從上述描述可知，本實用新型的有益效果在于:采用在基座上設置支撐板、治具上模以及治具下模，治具上模與治具下模留有夾緊面殼的間隙，并且治具上模及治具下?？赊D動，在鐳雕過程中不用重復裝取治具，減少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重復裝取治具的時間，提高了生產(chǎn)效率。
[0018]進一步的，所述支撐板2上設置轉軸，所述治具上模4連接在所述轉軸上，所述支撐板2上還設置弧形滑槽，所述治具下模3上設置有所述滑槽相適配的導柱，所述導柱插入滑槽內(nèi)并沿所述滑槽滑動。
[0019]進一步的，所述弧形滑槽開設在轉軸的上方，所述弧形滑槽的內(nèi)凹面朝向轉軸，所述弧形滑槽的弧度為180°。治具下模旋轉至指定位置時，支撐板與治具下模之間還可以通過固定螺絲6來定位，并且在螺帽與支撐板以及支撐板與治具下模的受壓面上墊上螺絲墊片7。
[0020]進一步的，所述弧形滑槽開設在轉軸的一側，所述弧形滑槽的內(nèi)凹面朝向轉軸，所述弧形滑槽的弧度為180°。
[0021]綜上，本實用新型采用在基座上設置支撐板、治具上模以及治具下模，治具上模與治具下模留有夾緊面殼的間隙，并且治具上模及治具下?？赊D動，在鐳雕過程中不用重復裝取治具，減少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重復裝取治具的時間，提高了生產(chǎn)效率。另外，在治具下模上設置的導柱與支撐板上設置的弧形滑槽匹配，能夠便于治具下模及治具上模的轉動。
[0022]請參閱圖2，本實施方式面殼的電鍍鐳雕工藝，其特征在于，包括如下步驟:
[0023]SI)制作面殼；
[0024]S2)在制得的面殼的表面的指定區(qū)域進行噴涂鍍膜；
[0025]S3)利用鐳雕治具夾持步驟S2)所得面殼，之后對面殼的噴涂鍍膜一側的區(qū)域按照需要的圖形進行鐳雕，隨后旋轉鐳雕治具對噴涂鍍膜另一側的區(qū)域按照需要的圖形進行鐳雕，所述鐳雕的工藝參數(shù)為:
[0026]儀雕速度為8OOmm/s_9OOmm/s ；
[0027]鐳雕功率為35w_45w。
[0028]從上述描述可知，本實用新型的有益效果在于:本實用新型在面殼表面噴涂鍍膜，之后對面殼的噴涂鍍膜一側的區(qū)域按照需要的圖形進行鐳雕，隨后旋轉鐳雕治具對噴涂鍍膜另一側的區(qū)域按照需要的圖形進行鐳雕，本實用新型工藝相對于現(xiàn)有技術不用重復裝取治具，減少了二次加工的不良性、提高了良品率，而且省去了重復裝取治具的時間，提高了生產(chǎn)效率。
[0029]進一步的，所述噴涂鍍膜的膜層包括底涂層及面涂層，所述底涂層的厚度為3um-5um,所述面涂層的厚度為8um_10um。面漆厚度過厚時，鐳雕時表層雕不干凈，鐳雕部位不能顯露想要的顏色；如面漆過薄，鐳雕時會雕傷底色，影響整體外觀效果。
[0030]進一步的，所述噴涂鍍膜的材料為樹脂。樹脂根據(jù)不同的顏色選擇。
[0031]進一步的，所述面殼采用模具注塑成型，所述面殼的材料包括ABS及PC中任意一種或兩者的組合。電鍍的材料為鋁。
[0032]以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的【技術領域】，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
【權利要求】
1.一種鐳雕治具，包括基座，其特征在于，還包括支撐板，所述支撐板豎直設置在所述基座上，所述支撐板一側轉動設置治具上模及治具下模，所述治具上模上設置治具下模且二者之間有間隙，面殼通過所述治具上模與治具下模之間的間隙夾緊。
2.根據(jù)權利要求1所述的鐳雕治具，其特征在于:所述支撐板上設置轉軸，所述治具上模連接在所述轉軸上，所述支撐板上還設置弧形滑槽，所述治具下模上設置有所述滑槽相適配的導柱，所述導柱插入滑槽內(nèi)并沿所述滑槽滑動。
3.根據(jù)權利要求2所述的鐳雕治具，其特征在于:所述弧形滑槽開設在轉軸的上方，所述弧形滑槽的內(nèi)凹面朝向轉軸，所述弧形滑槽的弧度為180°。
4.根據(jù)權利要求2所述的鐳雕治具，其特征在于:所述弧形滑槽開設在轉軸的一側，所述弧形滑槽的內(nèi)凹面朝向轉軸，所述弧形滑槽的弧度為180°。
【文檔編號】B41J2/435GK203937336SQ201420388916
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年7月15日 優(yōu)先權日:2014年7月15日
【發(fā)明者】高建民 申請人:深圳市中聯(lián)訊科技有限公司