利用等離子體預(yù)處理的rgb印刷方法及用于其的等離子體裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法及用于其的等離子體裝置，更具體地涉及，其中，包括如下步驟:a)在無機(jī)基板上形成有機(jī)隔斷；b)利用等離子體對(duì)基板表面進(jìn)行親水化處理，上述基板表面形成有上述有機(jī)隔斷；c)利用等離子體對(duì)上述親水化處理的基板表面進(jìn)行疏水化處理；以及d)在上述疏水化處理的基板上的有機(jī)隔斷之間，噴墨打印RGB有機(jī)溶劑。通過利用本發(fā)明的等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法及大氣壓等離子體裝置，從而在噴墨打印RGB有機(jī)溶劑時(shí)，可簡單有效地防止溶劑之間的相互干擾及彌散，進(jìn)而可顯著提高利用RGB有機(jī)溶劑的顯示器裝置的品質(zhì)。
【專利說明】利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法及用于其的等離子體裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法及用于其的等離子體裝置，更具體地涉及，其中，包括如下步驟:a)在無機(jī)基板上形成有機(jī)隔斷；b)利用等離子體對(duì)基板表面進(jìn)行親水化處理，上述基板表面形成有上述有機(jī)隔斷；c)利用等離子體對(duì)上述親水化處理的基板表面進(jìn)行疏水化處理；以及d)在上述疏水化處理的基板上的有機(jī)隔斷之間，噴墨打印RGB有機(jī)溶劑。
[0002]通過利用本發(fā)明的等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法及大氣壓等離子體裝置，從而在噴墨打印RGB有機(jī)溶劑時(shí)，可簡單有效地防止溶劑之間的相互干擾及彌散，進(jìn)而可顯著提高利用RGB有機(jī)溶劑的顯示器裝置的品質(zhì)。
【背景技術(shù)】
[0003]如圖1所示，通常在顯示器基板上噴墨打印RGB有機(jī)溶劑的步驟中，首先利用聚合物(polymer)或者光刻膠(PR, photoresist)物質(zhì)等各種物質(zhì),在基板上形成隔斷,之后將彼此不同的有機(jī)溶劑噴射在上述隔斷之間。
[0004]但是，此過程中會(huì)隔著隔斷發(fā)生有機(jī)溶劑之間的互相干擾，并且在隔斷等中發(fā)生溶劑彌散的現(xiàn)象，同時(shí)發(fā)生有機(jī)溶劑無法穩(wěn)定地存放在各個(gè)位置的基板中，從而最終降低整個(gè)顯示器裝置的品質(zhì)。
[0005]由此，在本發(fā)明中開發(fā)了防止方法，其在整個(gè)顯示器制造工藝中，對(duì)噴墨打印RGB有機(jī)溶劑時(shí)，發(fā)生的打印溶劑之間的干擾現(xiàn)象可簡單有效地進(jìn)行防止。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種RGB印刷方法及用于其的裝置，其在將RGB有機(jī)溶劑噴墨打印于顯示器基板上的步驟中，有效地抑制打印溶劑之間產(chǎn)生干擾及溶劑在隔斷等中發(fā)生彌散的現(xiàn)象，并且使各種RGB有機(jī)溶劑在基板中存放下來，從而可顯著提高利用RGB有機(jī)溶劑的顯示器裝置的品質(zhì)。
[0007]為實(shí)現(xiàn)上述目的的本發(fā)明提供一種利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，其包括如下步驟:a)在無機(jī)基板上形成有機(jī)隔斷；b)利用等離子體對(duì)基板表面進(jìn)行親水化處理，上述基板表面形成有上述有機(jī)隔斷；c)利用等離子體對(duì)上述親水化處理的基板表面進(jìn)行疏水化處理；以及d)在上述疏水化處理的基板上的有機(jī)隔斷間，噴墨打印RGB有機(jī)溶劑。
[0008]通過上述印刷方法打印RGB有機(jī)溶劑時(shí)，其具有如下特征:有機(jī)隔斷具有疏水性，因此可抑制有機(jī)溶劑的彌散，并且有機(jī)隔斷之間的基板具有親水性，因此可使有機(jī)溶劑存放于基板中。
[0009]此時(shí),上述有機(jī)隔斷可由高分子(polymer)或者光刻膠(photoresist)物質(zhì)形成，并且在上述親水化處理時(shí)利用大氣壓等離子體，同時(shí)作為工藝氣體使用氧氣(02)、干凈的干燥空氣(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4),并且在上述疏水化處理時(shí)使用大氣壓等離子體，并且，優(yōu)選地，將類似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、鉿(HF)等的含氟的化合物使用為工藝氣體。
[0010]同時(shí)，為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供用于RGB印刷預(yù)處理的大氣壓等離子體裝置，其包括:a)大氣壓等離子體模塊,其由陰極(cathode)、陽極(anode)、夕卜殼(housing)構(gòu)成；
b)第一氣體供應(yīng)及控制裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)親水化用氣體，并且控制氣體供應(yīng)量；c)第二氣體供應(yīng)及控制裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)疏水化用氣體，并且控制氣體供應(yīng)量；d)排氣裝置，其排出上述大氣壓等離子體模塊中的工藝氣體；e)冷卻裝置，其冷卻上述大氣壓等離子體模塊；以及f)電源裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)電源。
[0011]此時(shí)，優(yōu)選地，從上述第一氣體供應(yīng)及控制裝置中供應(yīng)的親水化用氣體包括氧氣
(02)、干凈的干燥空氣(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4),并且從上述第二氣體供應(yīng)及控制裝置中供應(yīng)的疏水化用氣體包括由類似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、鉿(HF)的含氟的化合物組成的工藝氣體。
[0012]本發(fā)明在將RGB有機(jī)溶劑噴墨打印于顯示器基板上的步驟之前，增加利用大氣壓等離子體裝置的親水化及疏水化工藝，從而通過增加非常單一的工藝來簡單有效地防止打印溶劑之間發(fā)生的干擾現(xiàn)象，進(jìn)而利用RGB有機(jī)溶劑可顯著提高顯示器裝置的品質(zhì)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法的流程圖。
[0014]圖2是表示根據(jù)本發(fā)明的用于RGB印刷預(yù)處理的大氣壓等離子體裝置的親水化模塊。
[0015]圖3是表示根據(jù)本發(fā)明的用于RGB印刷預(yù)處理的大氣壓等離子體裝置的疏水化模塊。
【具體實(shí)施方式】
[0016]以下參照附圖詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的利用等離子體預(yù)處理RGB印刷方法及用于其的等離子體裝置。
[0017]本發(fā)明的利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，其包括如下步驟:a)在無機(jī)基板上形成有機(jī)隔斷山)利用等離子體對(duì)基板表面進(jìn)行親水化處理，上述基板表面形成有上述有機(jī)隔斷；c)利用等離子體對(duì)上述親水化處理的基板表面進(jìn)行疏水化處理；以及d)在上述疏水化處理的基板上的有機(jī)隔斷之間，噴墨打印RGB有機(jī)溶劑。
[0018]通常，在將RGB有機(jī)溶劑噴墨打印于顯示器基板上的步驟中，利用聚合物(polymer)或者光刻膠(PR, photoresist)物質(zhì)等各種物質(zhì)形成隔斷,之后將彼此不同的有機(jī)溶劑噴射在上述隔斷之間。
[0019]但是，在此過程中會(huì)發(fā)生如下問題:隔著隔斷有機(jī)溶劑之間發(fā)生互相干擾，或者在隔斷上發(fā)生溶劑彌散的現(xiàn)象，并且發(fā)生有機(jī)溶劑無法穩(wěn)定地存放于各個(gè)位置的基板中。
[0020]在本發(fā)明中，為解決上述問題，如圖1所示，在噴墨打印步驟之前利用等離子體連續(xù)執(zhí)行親水化及疏水化處理，從而使其具有如下特征:有機(jī)隔斷具有疏水性，從而抑制有機(jī)溶劑的彌散，并且有機(jī)隔斷間的基板具有親水性，從而使有機(jī)溶劑存放在基板上。此時(shí)，上述有機(jī)隔斷可由高分子(polymer)或者光刻膠(photoresist)物質(zhì)等各種有機(jī)材料構(gòu)成。
[0021]上述親水化處理通?？衫么髿鈮旱入x子體工藝，并且作為工藝氣體可使用類似于氧氣(02)、干凈的干燥空氣(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4)的可進(jìn)行表面親水化的物質(zhì)。如此地對(duì)上述無機(jī)基板和有機(jī)隔斷整體進(jìn)行親水化處理后，會(huì)重新再對(duì)基板表面進(jìn)行疏水化處理，其同樣可使用通常的大氣壓等離子體工藝，但不同于親水化處理，作為工藝氣體可優(yōu)選地使用含氟的化合物，上述氟化物類似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、鉿(HF )表現(xiàn)出疏水化特性。
[0022]在上述疏水化處理過程中，表現(xiàn)疏水化特性的氟的化學(xué)反應(yīng)只與以C成分為基礎(chǔ)的有機(jī)物表面進(jìn)行反應(yīng)，由此只有有機(jī)隔斷表現(xiàn)出疏水化特性，而上述有機(jī)隔斷之間的無機(jī)基板仍然具有親水性?？偠灾?，有機(jī)隔斷具有疏水性，從而抑制有機(jī)溶劑的干擾及彌散，并且由于有機(jī)隔斷的基板具有親水性，從而使有機(jī)溶劑存放于基板中。
[0023]同時(shí)，如圖2、3所示，上述說明的用于RGB印刷預(yù)處理的大氣壓等離子體裝置包括如下構(gòu)成:a)大氣壓等離子體模塊，其由陰極、陽極、外殼構(gòu)成；b)第一氣體供應(yīng)及控制裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)親水化用氣體，并且控制氣體供應(yīng)量；c)第二氣體供應(yīng)及控制裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)疏水化用氣體，并且控制氣體供應(yīng)量；d)排氣裝置，其排出上述大氣壓等離子體模塊內(nèi)的工藝氣體；e)冷卻裝置，其冷卻上述大氣壓等離子體模塊；以及f)電源裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)電源。
[0024]此時(shí)，從上述第一氣體供應(yīng)及控制裝置中供應(yīng)的親水化用氣體可包括氮?dú)?N2)和氧氣(02)、干凈的干燥空氣(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4)的工藝氣體，并且從上述第二氣體供應(yīng)及控制中供應(yīng)的疏水化用氣體可包括由氮?dú)?N2)和類似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、鉿(HF)的含氟的化合物組成的工藝氣體。
[0025]通過上述說明中的利用本發(fā)明的等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，從而顯示器制造工藝中噴墨打印RGB有機(jī)溶劑的步驟中，可有效抑制打印溶劑之間產(chǎn)生的干擾和隔斷等中彌散溶劑的現(xiàn)象，并且可使各個(gè)RGB有機(jī)溶劑存放于基板上，從而可顯著提高利用RGB有機(jī)溶劑的顯示器裝置的品質(zhì)。
[0026]本發(fā)明并非限定于上述特定的實(shí)施例及說明，在所屬于本發(fā)明的【技術(shù)領(lǐng)域】，且具備一般知識(shí)的人員，可在不脫離請(qǐng)求范圍中請(qǐng)求的本發(fā)明的要點(diǎn)的情況下進(jìn)行各種變更，其變更所屬于本發(fā)明權(quán)利要求保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，其包括如下步驟: a)在無機(jī)基板上形成有機(jī)隔斷；b)利用等離子體對(duì)基板表面進(jìn)行親水化處理，上述基板表面形成有上述有機(jī)隔斷；c)利用等離子體對(duì)上述親水化處理的基板表面進(jìn)行疏水化處理；以及d)在上述疏水化處理的基板上的有機(jī)隔斷之間，噴墨打印RGB有機(jī)溶劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，其特征在于: 打印上述RGB有機(jī)溶劑時(shí)，上述有機(jī)隔斷具有疏水性，因此可抑制有機(jī)溶劑的彌散，并且有機(jī)隔斷之間的基板具有親水性，因此可使有機(jī)溶劑存放于基板上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，其特征在于: 上述有機(jī)隔斷由高分子(Polymer)或者光刻膠(Photoresist)物質(zhì)形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，其特征在于: 在上述親水化處理時(shí)，利用大氣壓等離子體，同時(shí)作為工藝氣體使用氧氣(02)、干凈的干燥空氣(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用等離子體預(yù)處理的RGB印刷方法，其特征在于: 上述疏水化處理時(shí)，使用大氣壓等離子體，并且將類似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、鉿(HF)的含氟的化合物使用為工藝氣體。
6.用于RGB印刷預(yù)處理的大氣壓等離子體裝置，其包括: a)大氣壓等離子體模塊，其由陰極(cathode)、陽極(anode)、夕卜殼(housing)構(gòu)成；b)第一氣體供應(yīng)及控制裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)親水化用氣體，并且控制氣體供應(yīng)量；c)第二氣體供應(yīng)及控制裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)疏水化用氣體，并且控制供應(yīng)量；d)排氣裝置，其排出上述大氣壓等離子體模塊內(nèi)的工藝氣體；e)冷卻裝置，其冷卻上述大氣壓等離子體模塊；以及f)電源裝置，其向上述大氣壓等離子體模塊供應(yīng)電源。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于RGB印刷預(yù)處理的大氣壓等離子體裝置，其特征在于: 從上述第一氣體供應(yīng)及控制裝置中供應(yīng)的親水化用氣體包括氧氣(02)、干凈的干燥空氣(CDA，Clean Dry Air )或者甲烷(CH4)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于RGB印刷預(yù)處理的大氣壓等離子體裝置，其特征在于: 從上述第二氣體供應(yīng)及控制裝置中供應(yīng)的疏水化用氣體包括由類似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、鉿(HF)的含氟的化合物組成的工藝氣體。
【文檔編號(hào)】B41M1/14GK103476594SQ201280018028
【公開日】2013年12月25日 申請(qǐng)日期:2012年3月27日 優(yōu)先權(quán)日:2011年4月12日
【發(fā)明者】李相老, 金允煥, 任贊株 申請(qǐng)人:（株）Sep