專(zhuān)利名稱(chēng)：一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域，本發(fā)明涉及一種金屬型金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，能源的消耗量越來(lái)越大，煤和石油等不可再生資源的儲(chǔ)存量日益減少，這促使人們對(duì)新能源(如核能、太陽(yáng)能、風(fēng)能、生物質(zhì)能、地?zé)崮?、海洋能、氫能?的不斷探索。其中，作為地球上許多能量的來(lái)源，太陽(yáng)能在新能源的研究中占據(jù)了重要的地位，太陽(yáng)能電池就是太陽(yáng)能應(yīng)用的一個(gè)核心代表。提高太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)化效率是目前太陽(yáng)能電池研究的一個(gè)主要目標(biāo)，除了對(duì)電池基片材料的選擇、基片制作工藝的改善外，制作性能優(yōu)異的太陽(yáng)能電池電極也能對(duì)電池的轉(zhuǎn)化效率帶來(lái)很好的效果。目前，電極印刷是采用傳統(tǒng)的絲網(wǎng)印刷，其印刷過(guò)程中采用的絲網(wǎng)為絲網(wǎng)+感光膠形式的網(wǎng)板，其存在以下問(wèn)題:1、絲網(wǎng)板的絲網(wǎng)層具有編織的經(jīng)緯節(jié)點(diǎn)，在印刷過(guò)程中，其對(duì)印刷漿料的作用會(huì)導(dǎo)致印刷后的電池片細(xì)柵線線徑不均；2、傳統(tǒng)的絲網(wǎng)板下表面覆有感光聚合物，感光聚合物質(zhì)軟、硬度小，易損傷。這些因素都直接或間接的影響最終太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)化效率。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明主要是提供一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作方法，解決現(xiàn)有電極印刷網(wǎng)板存在的上述缺陷。(二)技術(shù)方案
為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，包括以下步驟:
S1:采用蝕刻法在金屬板的一面蝕刻出凹槽結(jié)構(gòu)；
S2:將蝕刻后的金屬板采用激光切割工藝在金屬板另一面相應(yīng)的位置切割出網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。其中，在步驟SI前，還包括選材、板材前處理過(guò)程，所述板材為不銹鋼板、鎳板或鎳基合金板，所述金屬板的厚度為25 75um，所述前處理主要包括板面清潔處理。其中，步驟SI具體包括:將經(jīng)過(guò)前處理的選定金屬板一面均勻涂布一種感光干膜，另一面覆蓋一層保護(hù)膜；
將涂布有感光干膜的一面按曝光文件進(jìn)行曝光，使得太陽(yáng)能電池的電極掩模圖形轉(zhuǎn)移到感光干膜上；隨后去除保護(hù)膜，對(duì)曝光處理后的貼膜金屬板經(jīng)顯影、清洗、烘干處理，將未曝光的干膜反應(yīng)溶解掉，留下太陽(yáng)能電池的電極掩模板圖形；
蝕刻顯影后貼膜金屬板，將干膜顯影掉的圖形區(qū)域部分蝕刻為凹槽；
將蝕刻完畢的金屬板進(jìn)行退膜、清洗、干燥等處理。
其中，所述保護(hù)膜也為感光干膜，對(duì)該層感光干膜全曝光，形成保護(hù)層。其中，所述步驟S2具體包括:將蝕刻處理后的金屬板置于激光切割機(jī)上切割，切割面為蝕刻面的反面，激光切割的開(kāi)口位置與蝕刻的凹槽位置相對(duì)應(yīng)，切割的開(kāi)口落在蝕刻的凹槽內(nèi)部。其中，所述太陽(yáng)能網(wǎng)板的蝕刻凹槽深度占鋼片厚度的60°/Γ70%，蝕刻凹槽的細(xì)柵線寬度為25um 100um,主柵線寬為Imm 2mm。(三)有益效果
上述技術(shù)方案所提供的一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，包括以下步驟:S1:采用蝕刻法在金屬板的一面蝕刻出凹槽結(jié)構(gòu)；S2:將蝕刻后的金屬板采用激光切割工藝在金屬板另一面相應(yīng)的位置切割出網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。通過(guò)該方法制作出的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板掩模部分平整，無(wú)傳統(tǒng)的網(wǎng)板的經(jīng)緯節(jié)點(diǎn)，下漿更均勻，使得印刷得到的電極柵線線徑尺寸均勻。


圖1為本發(fā)明實(shí)施例中金屬板兩面貼膜的效果 圖2為本發(fā)明實(shí)施例中一種太陽(yáng)能電池電極網(wǎng)板花樣；
圖3為本發(fā)明實(shí)施例中貼膜金屬板曝光顯影后的示意 圖4為本發(fā)明實(shí)施例中曝光顯影后網(wǎng)板主細(xì)柵線交接處對(duì)應(yīng)區(qū)域的放大示意 圖5為本發(fā)明實(shí)施例中蝕刻后金屬板的示意 圖6為本發(fā)明實(shí)施例中激光切割后的金屬板示意 圖7為本發(fā)明實(shí)施例中激光切割面的局部開(kāi)口意 其中，10:金屬板；11:感光干I旲；12:感光干I旲；21:王棚線；22:細(xì)棚線；41:黑色區(qū)域；42:白色區(qū)域；71:白色區(qū)域；72:黑色區(qū)域；100:凹槽；110:凹槽結(jié)構(gòu)；101:開(kāi)口層。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式

作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。本發(fā)明實(shí)施例提供的一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，包括以下步驟:S1:采用蝕刻法在金屬板的一面蝕刻出凹槽結(jié)構(gòu)；S2:將蝕刻后的金屬板采用激光切割工藝在金屬板另一面相應(yīng)的位置切 割出網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。通過(guò)該方法制作出的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板掩模部分平整，無(wú)傳統(tǒng)的網(wǎng)板的經(jīng)緯節(jié)點(diǎn)，下漿更均勻，使得印刷得到的電極柵線線徑尺寸均勻。在步驟SI前，還包括選材、板材前處理過(guò)程，板材為不銹鋼板、鎳板或鎳基合金板，金屬板的厚度為25 75um，前處理主要包括板面清潔處理。將金屬板進(jìn)行一系列處理，使得金屬表面潔凈，便于對(duì)后續(xù)的處理，并提高后期處理的精度，從而保證成品的精度。步驟SI具體包括:將經(jīng)過(guò)前處理的選定金屬板一面均勻涂布一種感光干膜，另一面覆蓋一層保護(hù)膜；將涂布有感光干膜的一面按曝光文件進(jìn)行曝光，使得太陽(yáng)能電池的電極掩模圖形轉(zhuǎn)移到感光干膜上；隨后去除保護(hù)膜，對(duì)曝光處理后的貼膜金屬板經(jīng)顯影、清洗、烘干處理，將未曝光的干膜反應(yīng)溶解掉，留下太陽(yáng)能電池的電極掩模板圖形；蝕刻顯影后貼膜金屬板，將干膜顯影掉的圖形區(qū)域部分蝕刻為凹槽；將蝕刻完畢的金屬板進(jìn)行退膜、清洗、干燥等處理。優(yōu)選的保護(hù)膜也為感光干膜，對(duì)該層感光干膜全曝光，形成保護(hù)層。
具體的為通過(guò)壓膜機(jī)在金屬板兩面各壓貼一層感光干膜，如圖1所示，金屬板10表面壓貼有感光干膜11和12,將貼有感光干膜的金屬板置于LDI曝光機(jī)中曝光。其中一面按照太陽(yáng)能電池的電極掩模圖形的文件進(jìn)行曝光，將太陽(yáng)能電池的電極掩模圖形轉(zhuǎn)移到感光干膜上，圖2所示的就是一種太陽(yáng)能電池電極網(wǎng)板的掩模圖形花樣，其由若干條主柵線21及若干條細(xì)柵線22構(gòu)成，太陽(yáng)能網(wǎng)板的蝕刻凹槽深度占鋼片厚度的60% 70%，蝕刻凹槽的主柵線21寬為lmnT2mm，細(xì)柵線22寬度為25unTl00um。將曝光后的貼膜金屬板經(jīng)顯影、清洗、烘干等處理，其板面截面示意圖如圖3所示，即未曝光的干膜部分被顯影液反應(yīng)掉，圖4所示的是與太陽(yáng)能網(wǎng)板主柵線21、細(xì)柵線22連接處對(duì)應(yīng)區(qū)域的放大示意圖，黑色區(qū)域41為曝光的干膜區(qū)域，白色區(qū)域42為未曝光的干膜區(qū)域，顯影后，白色區(qū)域42的干膜被反應(yīng)掉而使得該區(qū)域的金屬表面裸露出來(lái)，蝕刻時(shí)，裸露在外的金屬表面被蝕刻為凹槽狀，其局部截面圖如圖5所示，即為凹槽結(jié)構(gòu)110。將蝕刻完畢的金屬板進(jìn)行退膜、清洗、干燥等處理。步驟S2具體包括:將蝕刻處理后的金屬板置于激光切割機(jī)上切割，切割面為蝕刻面的反面，即蝕刻時(shí)的受保護(hù)面，激光切割的開(kāi)口位置與蝕刻的凹槽位置相對(duì)應(yīng)，切割的開(kāi)口落在蝕刻的凹槽內(nèi)部。具體情況如圖6所示，即在凹槽100的背面切割有開(kāi)口，其一種開(kāi)口情況如圖7所示，圖中白色區(qū)域71為開(kāi)口，黑色區(qū)域72為金屬面。如圖6所示，所述太陽(yáng)能網(wǎng)板的蝕刻凹槽深度h2占金屬板的厚度比為60%-70%，激光切割的開(kāi)口層101厚度hi占金屬板的厚度比為 30%-40%。由以上實(shí)施例可以看出，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，包括以下步驟:S1:采用蝕刻法在金屬板的一面蝕刻出凹槽結(jié)構(gòu)；S2:將蝕刻后的金屬板采用激光切割工藝在金屬板另一面相應(yīng)的位置切割出網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。通過(guò)該方法制作出的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板掩模部分平整，無(wú)傳統(tǒng)的網(wǎng)板的經(jīng)緯節(jié)點(diǎn)，下漿更均勻，使得印刷得到的電極柵線線徑尺寸均勻。以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和替換，這些改進(jìn)和替換也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，其特征在于，包括以下步驟: S1:采用蝕刻法在金屬板的一面蝕刻出凹槽結(jié)構(gòu)； S2:將蝕刻后的金屬板采用激光切割工藝在金屬板另一面相應(yīng)的位置切割出網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，其特征在于，在步驟SI前，還包括選材、板材前處理過(guò)程，所述板材為不銹鋼板、鎳板或鎳基合金板，所述金屬板的厚度為25 75um，所述前處理主要包括板面清潔處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，其特征在于，步驟SI具體包括:將經(jīng)過(guò)前處理的選定金屬板一面均勻涂布一種感光干膜，另一面覆蓋一層保護(hù)膜； 將涂布有感光干膜的一面按曝光文件進(jìn)行曝光，使得太陽(yáng)能電池的電極掩模圖形轉(zhuǎn)移到感光干膜上；隨后去除保護(hù)膜，對(duì)曝光處理后的貼膜金屬板經(jīng)顯影、清洗、烘干處理，將未曝光的干膜反應(yīng)溶解掉，留下太陽(yáng)能電池的電極掩模板圖形； 蝕刻顯影后貼膜金屬板，將干膜顯影掉的圖形區(qū)域部分蝕刻為凹槽； 將蝕刻完畢的金屬板進(jìn)行退膜、清洗、干燥等處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，其特征在于，所述保護(hù)膜也為感光干膜，對(duì)該層感光干膜全曝光，形成保護(hù)層。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，其特征在于，所述步驟S2具體包括:將蝕刻處理后的金屬板置于激光切割機(jī)上切割，切割面為蝕刻面的反面，激光切割的開(kāi)口位置與蝕刻的凹槽位置相對(duì)應(yīng)，切割的開(kāi)口落在蝕刻的凹槽內(nèi)部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，其特征在于，所述太陽(yáng)能網(wǎng)板的蝕刻凹槽深度占鋼片厚度的60°/Γ70%，蝕刻凹槽的細(xì)柵線寬度為25unTl00um，主柵線寬為。
全文摘要
本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板的制作新工藝，包括以下步驟S1采用蝕刻法在金屬板的一面蝕刻出凹槽結(jié)構(gòu)；S2將蝕刻后的金屬板采用激光切割工藝在金屬板另一面相應(yīng)的位置切割出網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。通過(guò)該方法制作出的金屬型太陽(yáng)能網(wǎng)板掩模部分平整，無(wú)傳統(tǒng)的網(wǎng)板的經(jīng)緯節(jié)點(diǎn)，下漿更均勻，使得印刷得到的電極柵線線徑尺寸均勻。
文檔編號(hào)B41C1/14GK103192588SQ20121000450
公開(kāi)日2013年7月10日 申請(qǐng)日期2012年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月9日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 趙錄軍, 張煒平 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司