專利名稱：具有改進(jìn)的耐久性的成像元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有改進(jìn)的耐久性的成像元件，并且特別地涉及包含多種潤滑劑的耐磨和抗刮傷層。
背景技術(shù)：
磨損缺陷是單獨(dú)地具有幾微米寬和亞微米到微米深的缺陷。它們能夠作為整體形成，并且有時(shí)被稱為“咬合痕”，它們通常在照相膠片的前面和后面被觀察到，特別是與印刷電路板(PCB)光掩模一起使用的那些。它們由污物粒子的低壓滑動(dòng)接觸或者與成像產(chǎn)品接觸的粗糙表面所引起。這些缺陷可能僅僅是外觀上的，不妨礙產(chǎn)品的使用，但即使這樣也是完全不受歡迎的，因?yàn)檫@將導(dǎo)致工藝很差的印象。圖像信息是以顯影銀的形式包含在照相膠片內(nèi)的，雖然對(duì)于其他成像元件，其可能是重氮化合物的形式。如果咬合痕很嚴(yán)重，可能會(huì)失去某些圖像信息，使媒介無用。
刮痕也是微米級(jí)寬度的缺陷，但是往往比咬合痕更深，并且傾向于單獨(dú)地存在。它們還可能在成像介質(zhì)的兩個(gè)面上形成，特別是在PCB光掩模上形成，并且由較高壓力的滑動(dòng)或者物體與成像產(chǎn)品接觸時(shí)的挖掘接觸所引起。此外，如果失去在圖像內(nèi)包含的部分信息，導(dǎo)致介質(zhì)變得無用，則這類缺陷是尤其嚴(yán)重的。
卡盤(chucking)磨損類似于如上所述的刮痕，但是引起所述缺陷的污物粒子傾向于在薄膜的小的區(qū)域上以隨機(jī)移動(dòng)的方式移動(dòng)。當(dāng)這樣的粒子被包含在膠片疊層內(nèi)，在運(yùn)輸膠片盒時(shí)沒有使用真空包裝而導(dǎo)致膠片滑動(dòng)時(shí)，這樣的粒子將引起這類損傷。因?yàn)榱Ｗ涌赡茉谄渥约旱穆窂缴线\(yùn)動(dòng)，因此這種缺陷也被稱為重復(fù)的刮痕缺陷。
照相磨損(Photoabrasion)是在處理之前或者在處理期間在照相膠片上產(chǎn)生的缺陷。刮痕或者磨損缺陷對(duì)膠片造成這樣一種程度的損害，以至于鹵化銀晶體在沒有光的作用下也變成可顯影的。這種缺陷作為在預(yù)期沒有圖像的區(qū)域中顯影的銀的線條或者一系列線條而顯現(xiàn)。這可能使照相膠片對(duì)于其預(yù)定目的無用。
因此能夠看到，在成像元件的前面或者后面存在耐磨性和抗刮傷性保護(hù)涂層通常是必要的。
黑和白高反差鹵化銀物質(zhì)被廣泛地用作用于復(fù)制到其他感光性物質(zhì)上的學(xué)光接觸的原型。例如，在印刷工業(yè)中，頁分離(separations)借助于圖象設(shè)定器曝光到膠片上，其然后通過紫外(UV)接觸曝光被復(fù)制(曝光)到印刷版上。然后將曝光的印刷版處理，產(chǎn)生用于在印刷機(jī)上印刷的油墨-接受圖像。有時(shí)通過裁切和粘貼來自各種來源的圖像和文本來物理地組裝頁面，然后可以借助于照相機(jī)將組裝的頁面復(fù)制到另一張膠片上。在該膠片中的刮痕缺陷將除去圖像，導(dǎo)致印刷版不能使用，而照相磨損缺陷將導(dǎo)致在印版上出現(xiàn)不希望有的線條。
這類處理的另一個(gè)實(shí)例是PCBs的制造，其中通過照相繪圖儀將電子電路線路設(shè)計(jì)曝光到膠片中間物上，該中間物被稱為照相工具(phototool)或者光掩模。在接觸-印像機(jī)上，光掩模緊緊鄰近于包銅的、抗蝕劑-覆蓋的PCB基材定位。為了改進(jìn)接觸的緊密性，通常從所述接觸框架中抽空空氣。借助于接觸框架內(nèi)的光源提供入射輻射，例如紫外光，并且由光掩模接收并且通過掩模的開口直接傳輸?shù)焦庵驴刮g劑層。所述掩模是照相膠片，并且掩模中的開口相當(dāng)于膠片上圖像的最小密度區(qū)域。
傳輸?shù)妮椛湟鸸庵驴刮g劑性能的變化，例如硬化或者溶解，使得暴露于輻射的區(qū)域與借助于掩模層被遮掩的區(qū)域物理地不同。在曝光之后，對(duì)光致抗蝕劑進(jìn)行處理，以從希望將銅蝕刻去掉的區(qū)域中將光致抗蝕劑除去，使得得到的結(jié)構(gòu)具有銅暴露的區(qū)域和被光致抗蝕劑掩蔽的區(qū)域。然后將銅的暴露的區(qū)域蝕刻掉，蝕刻之后，從PCB中除去殘留的光致抗蝕劑，以暴露印刷線圖案。
PCB光掩模具有最需要滿足耐久性要求，因?yàn)椴煌诖蠖鄶?shù)其他的照相膠片，顯影圖像在PCB光致抗蝕劑的成像中被使用許多次。例如，一旦被處理的圖像設(shè)定器膠片可能被使用一次，來生產(chǎn)印刷版，而PCB光掩模在其使用壽命中可能被使用一千次，但是因?yàn)楣魏廴毕葸@可能被限制在更典型的一百次。因此，與大多數(shù)成像元件相比，光掩模通常由厚得多的最外層保護(hù)，即1.5微米的數(shù)量級(jí)，這可能導(dǎo)致潤滑劑的使用效率低。
已經(jīng)研究了各種方法來克服成像元件和特別是照相膠片可能遇到的各種損傷。US3,121,060描述了使用高級(jí)脂肪醇和高級(jí)脂肪酸的蠟狀的酯，代表實(shí)例是改性鯨蠟油，作為未曝光形式的照相膠片的潤滑劑，以降低通過膠片暗匣時(shí)的摩擦和提供更持久的潤滑。其中沒有公開將這些酯用于防止刮痕或者磨損。
US6,346,369中公開了一種成像元件，其包括抗刮傷最外層，該最外層覆蓋成像層或者在與成像層相反的一側(cè)，其由具有限定的物理性能的延性聚合物組成。據(jù)公開，所述元件具有對(duì)永久性刮痕的形成的抗性，這種刮痕可能在成像產(chǎn)品的制造和使用期間出現(xiàn)。公開了硅氧烷、脂肪酸和特別是巴西棕櫚蠟潤滑劑被用于在抗刮傷層上涂覆外涂層。其中沒有公開所述元件能夠提供耐磨性。
JP 63005339公開了感光材料，其載體的兩個(gè)側(cè)面上包括層，其中最外層的每一個(gè)包含有機(jī)基聚硅氧烷、含氟化合物和包含聚環(huán)氧乙烷單元的非離子表面活性劑的至少一種，其中在這些層的至少一個(gè)中存在所有上述三種物質(zhì)。所表達(dá)的目的是控制靜電電荷。
JP 63008642描述了具有良好的抗靜電性能的感光材料，其包括包含有機(jī)聚硅氧烷和非離子表面活性劑的最外層，所述材料具有良好的潤滑作用。
JP 01107255描述了這樣一種材料，其中硅氧烷基化合物被包含在不同于最外層的至少一個(gè)層中，并且最外層包含不同的潤滑劑，然而其也可以是硅氧烷化合物，降低滑動(dòng)摩擦的材料。JP 03132754公開了具有良好的潤滑性能和抗刮傷性的感光材料，通過將高級(jí)脂肪酸酰胺或者酯和硅氧烷化合物兩者一起引入背襯層的最外面表面層中，其能夠防止在處理之后的不均勻干燥。沒有公開借此可以獲得耐磨作用。
US5,019,491、5,702,864和6,482,580都描述了硅氧烷在成像元件最外層中的應(yīng)用，其中硅氧烷與另一種潤滑劑或者相似的附加物一起用于該相同的層。
上述文獻(xiàn)沒有公開在最外層中提供耐磨性的潤滑劑與在中間層中提供抗刮傷性的潤滑劑的成像元件中的組合。
本發(fā)明要解決的問題要解決的問題是發(fā)現(xiàn)一種成像元件，其具有提高的耐久性，特別是在抗刮傷性和耐磨性(特別是耐照相磨損性)方面的耐久性，其保持性能和制造的容易性，并且特別地涉及用于制造PCBs或者用于生產(chǎn)印刷版的元件，在這些元件中因磨損和刮傷引起的問題是特別尖銳的。

發(fā)明內(nèi)容
按照本發(fā)明，提供了一種成像元件，其包括載體，在該載體上依次具有至少一個(gè)成像層、至少一個(gè)包含提供抗刮傷性的潤滑劑的中間層和至少一個(gè)包含提供耐磨性的不同的潤滑劑的最外層。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了處理成像元件的方法，其包括用堿性顯影液將如上所述的元件顯影。
本發(fā)明的有利效果本發(fā)明的元件具有改進(jìn)的耐久性，特別是在耐磨性(特別是耐照相磨損性)和抗刮傷性方面具有改進(jìn)的耐久性。這在生產(chǎn)PCBs和印刷版中是特別有利的，因?yàn)槠渲幸唤?jīng)處理的膠片被使用許多次，因此任何磨損或者刮傷都可能是重要的問題。
發(fā)明的詳細(xì)說明用于本發(fā)明中的耐磨層是在成像元件的前面和/或背面上的最外層(可互換地稱為“表面涂層”)。耐磨性通過潤滑劑來提供，其通常是硅氧烷基材料，例如在以下文獻(xiàn)中公開的那些美國專利3,294,537、3,489,567、3,080,317、3,042,522、4,004,927、5,288,602、4,047,958、4,675,278、英國專利955,061和1,143,118、JP 63008642、01234843、03123341、04174836和EP-A-0534218。優(yōu)選地，所述潤滑劑是低聚的或者聚合的硅氧烷潤滑劑，其具有各種相連的官能基團(tuán)，并且可以與另一種化合物共聚，并且具有以下通式(I) 其中，每個(gè)R1獨(dú)立地是未被取代的或者被取代的具有1到8個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)或者未被取代的或者被取代的具有1到8個(gè)碳原子的烷氧基基團(tuán)，R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的或者被取代的烷基、環(huán)烷基、烷氧基烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基烷基、縮水甘油氧基烷基或者芳基，并且n和m各自表示0到大約2,500的正整數(shù)，條件是m和n不能兩者是0。在那些基團(tuán)上的任何取代基是不妨礙硅氧烷作為潤滑劑的功能的那些。
優(yōu)選地，每個(gè)R1是相同的，并且是未被取代的烷基基團(tuán)，更優(yōu)選具有1到3個(gè)碳原子，特別是甲基基團(tuán)，或者烷氧基基團(tuán)，優(yōu)選具有1或者2個(gè)碳原子。此外優(yōu)選R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的烷基基團(tuán)，優(yōu)選甲基或者乙基，m是0并且n是2到大約2000的整數(shù)，更優(yōu)選2-500，特別是5-50。
因此有用的通式(I)的硅氧烷包括商業(yè)上可得到的硅氧烷油，例如三烷基和三烷氧基末端封端的二烷基聚硅氧烷，例如二甲基聚硅氧烷、二乙基聚硅氧烷、三甲氧基末端封端的二甲基聚硅氧烷和三乙氧基末端封端的二甲基聚硅氧烷。通式(I)的硅氧烷通常具有的分子量為大約100到大約150,000、優(yōu)選大約10,000到大約20,000，并且在25℃下的粘度為2到大約100,000厘沲、優(yōu)選200到800厘沲。
用于本發(fā)明中的最優(yōu)選的潤滑劑是由Dow Corning制造的聚二甲基硅氧烷，名稱DC-200TM，粘度為350厘沲，并且平均分子量為13,700，并且具有以下通式 其中n平均為183。
這類硅氧烷、特別是聚二烷基硅氧烷的制備和性能是眾所周知的，并且描述在例如以下文獻(xiàn)中Reuben Gutoffs論文，題目“硅氧烷流體制造”，刊登于“工業(yè)和工程化學(xué)”，第49卷，第1807-1811頁。
通常將耐磨性潤滑劑，例如通式(I)的聚硅氧烷，加入載運(yùn)介質(zhì)或者粘合劑，載運(yùn)介質(zhì)或者粘合劑方便地是明膠，在適合的分散劑存在下形成作為水分散體的元件的最外層，所述分散劑優(yōu)選是非離子分散劑，例如聚乙二醇醚，例如TergitolTM15-S-5，烷基或者芳烷基聚醚醇，皂草苷或者鈉磺基琥珀酸的二辛酯，或者陰離子表面活性劑，例如Alkanol XCTM。優(yōu)選，耐磨性潤滑劑在水分散體中的濃度為大約8到大約20％，優(yōu)選大約10到大約15％，分散劑的濃度為大約1到大約5％，并且粘合劑的濃度為大約5到大約10％。
耐磨性潤滑劑可以以對(duì)于預(yù)定目的有效的任何濃度使用，適合的濃度，以每平方米成像元件的mg表示，為大約5到大約100mg/m2、優(yōu)選大約15到大約75mg/m2、更優(yōu)選大約35到大約65mg/m2。
雖然耐磨性潤滑劑，例如聚硅氧烷，通常是最外層中的主要潤滑劑，但是還可以在該層中加入另一種潤滑劑或者相似的附加物，只要其不不利地影響主要潤滑劑的耐磨性能。
抗刮傷層是在成像元件的前面和/或背面上的最外面的表面涂層、耐磨性層下面的中間層。抗刮傷性由至少一種潤滑劑提供，其不同于用于耐磨性層的那種。這可以是例如高級(jí)脂肪酸或者其衍生物，或者高級(jí)醇或者其衍生物。例如，所述潤滑劑可以是高級(jí)脂肪酸的金屬鹽，高級(jí)脂肪酸酯，高級(jí)脂肪酸酰胺，高級(jí)脂肪酸的多元醇酯，如以下文獻(xiàn)中公開的美國專利2,454,043、2,732,305、2,976,148、3,206,311、3,933,516、2,588,765、3,121,060、3,502,473和3,042,522,英國專利1,263,722、1,198,387、1,430,997、1,466,304、1,320,757、1,320,565和1,320,756，以及德國專利1,284,295和1,284,294。
優(yōu)選，其是長鏈脂肪酸的高級(jí)脂肪酸酯，例如棕櫚酸、硬脂酸、油酸、亞油酸、亞麻酸或者tauric酸，并且特別是棕櫚酸酯，例如棕櫚酸鯨蠟酯(十六烷酸十六基酯)。本發(fā)明中，優(yōu)選的是使用“Spermalube”，其是由鯨產(chǎn)生的潤滑劑的合成仿制品，并且包含十二酸十四基酯、十四酸十六基酯、棕櫚酸鯨蠟基酯、己酸十八烷基酯和十二烷酸十六基酯的混合物。通常其是膠乳或者分散體的形式。在水分散體中，抗刮傷潤滑劑通常的濃度為大約8到大約20％，優(yōu)選大約10到大約15％，分散劑的濃度為大約1到大約5％，并且粘合劑的濃度為大約5到大約10％。
在中間層中的抗刮傷潤滑劑通常的濃度，以每平方米成像元件mg表示，為大約5到大約100mg/m2、優(yōu)選大約10到大約75mg/m2、更優(yōu)選大約15到大約30mg/m2。
雖然抗刮傷潤滑劑，例如脂肪酸或者脂肪醇，通常是中間層中的主要的潤滑劑，但是也可以將另一種潤滑劑或者相似的附加物加入該層，條件是其不不利地影響脂肪酸或者脂肪醇潤滑劑的抗刮傷性能。
按照本發(fā)明使用的潤滑劑總量可以與傳統(tǒng)地使用的非常相似，但是在表面涂層和中間層中的不同潤滑劑的特定組合導(dǎo)致對(duì)磨損和刮傷兩者的有效保護(hù)。
本發(fā)明的成像元件可以具有許多不同的類型，這取決于它們預(yù)定的特定用途。這類元件包括，例如，照相元件，靜電照相元件，光熱照相元件，電熱照相元件，電介質(zhì)記錄和熱-染料-轉(zhuǎn)移成像元件。關(guān)于各種各樣的不同的成像元件的組成和功能的詳細(xì)內(nèi)容提供在美國專利5,340,676和其中描述的參考文獻(xiàn)中，并且本發(fā)明可以有效地與其中描述的任何成像元件一起使用。
成像元件可以包括各種各樣的載體。關(guān)于本發(fā)明中使用的載體的詳細(xì)內(nèi)容包含在以下文獻(xiàn)中Research Disclosure，條目36544，1994年9月，和Research Disclosure，條目38597，1996年9月，以下簡稱“Research Disclosures”。
典型的載體包括硝酸纖維素薄膜、乙酸纖維素薄膜、聚乙烯醇縮醛薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜或者聚烯烴薄膜，例如聚乙烯或者聚丙烯，玻璃、金屬、紙和聚合物涂布紙。本發(fā)明優(yōu)選的載體是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。載體的厚度通常為大約25到大約250微米，優(yōu)選大約95到大約180微米。
本發(fā)明的成像元件可以是簡單的黑白元件，其包括帶有感光鹵化銀乳膠層的載體，并且可以是多層形式。
在優(yōu)選的實(shí)施方案中，本發(fā)明成像元件是黑白照相元件，例如照相膠片、照相紙或者照相玻璃板，其中成像層的至少一個(gè)是輻射-敏感的鹵化銀乳膠層。
用于本發(fā)明成像元件的感光鹵化銀乳膠可以包含粗粒的、普通的或者細(xì)粒的鹵化銀晶體，或者其混合物，并且可以包括例如氯化銀、溴化銀、溴碘化銀、氯溴化銀、氯碘化銀、氯溴碘化銀以及其混合物，但是優(yōu)選包含氯溴化物。乳膠可以是例如片狀的顆粒感光鹵化銀乳膠，并且可以是負(fù)性或者直接正性乳膠。它們可以主要地在鹵化銀顆粒的表面上或者在鹵化銀顆粒的內(nèi)部形成潛像。
這類乳膠層通常包括成膜親水膠體，這些中最通常使用的是明膠，其特別優(yōu)選用于本發(fā)明。有用類型的明膠包括堿處理明膠(牛骨頭或者皮明膠)、酸處理的明膠(豬皮明膠)和明膠衍生物，例如乙?；髂z和鄰苯二甲酸化明膠。可以單獨(dú)使用或者與明膠結(jié)合使用的其他親水膠體包括右旋糖酐、阿拉伯樹膠、玉米醇溶蛋白、酪蛋白、果膠、膠原衍生物、火棉膠、瓊脂、木薯粉和白蛋白。其他有用的親水膠體是水溶性的聚乙烯基化合物，例如聚乙烯醇、聚丙烯酰胺和聚乙烯基吡咯烷酮。關(guān)于鹵化銀乳膠的詳細(xì)內(nèi)容包含在Research Disclosures以及其中列出的參考文獻(xiàn)中。
親水膠體可以包括聚合物，例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺或者甲基丙烯酰胺，例如丙烯酸烷基酯，例如丙烯酸甲酯和丙烯酸丁酯，2-(甲基丙烯酰氧基)乙基乙酰乙酸酯或者2-丙烯酰氨基-2-甲基丙磺酸鈉鹽?？梢允褂蒙鲜鰡误w的適合的共聚物，例如丙烯酸甲酯、2-丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸鈉鹽和2-(甲基丙烯酰氧基)乙基乙酰乙酸酯(88∶5∶7重量)的共聚物，和/或丙烯酸丁酯、2-丙烯酰氨基-2-甲基丙磺酸鈉鹽和2-(甲基丙烯酰氧基)乙酰乙酸乙酯(90∶4∶6重量)的共聚物?？梢允褂蒙鲜鼍酆衔锘蛘吖簿畚锏膬煞N或多種的共混物，特別是丙烯酸甲酯和丙烯酸丁酯的共混物。
除以上描述的乳膠層、中間層和最外層之外，本發(fā)明的元件可以包括一個(gè)或多個(gè)成像元件中的普通的輔助層，例如消暈層，如在“Research Disclosures”中公開的，其可以包括親水膠體和以上描述的聚合物。消暈層可以提供在載體的任何側(cè)面上，以便降低光散射，并且可以包括可以用作非光譜增感染料的任何染料，其可以吸收在限制的或者寬的波長范圍內(nèi)的反射和散射光。
適合的染料列在以上公開的Research Disclosures中，并且可以是例如merostyryl、吡唑、吡咯或者噻吩，或者優(yōu)選oxonol染料，更特別是五甲炔花青oxonol染料。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，消暈染料包括在親水膠體下層中。所述染料還可以溶解在或者分散在下層中。
可以包括在成像領(lǐng)域中普通的其他附加物，如ResearchDisclosures中所述，例如穩(wěn)定劑或者防陰翳劑，例如氮雜茚、三唑、四唑、噻唑、咪唑鹽和多羥基化合物；薄膜硬化劑例如醛、氮丙啶、異唑、丙烯?；?、三嗪、環(huán)氧化物或者吖丙啶類型，或更優(yōu)選乙烯基砜類型，特別是1，3-乙烯基磺?；?2-丙醇；防著色劑，防色斑劑，吸收物質(zhì)，例如濾光染料，涂布助劑，增塑劑，表面活性劑，聚結(jié)助劑和抗微生物劑。
所述乳膠優(yōu)選是化學(xué)增感的，例如用硫和金增感，并且優(yōu)選也用染料進(jìn)行光譜增感，按照通常作法，通常使用三核部花青染料。
可以存在多于一種類型的光譜增感的鹵化銀顆粒，由此在乳膠層中可以存在對(duì)不同的光譜區(qū)增感的顆粒。該涂層可以通過共混兩種或多種包含具有要求的光譜靈敏度的乳膠熔體來制備，能夠生產(chǎn)多波長敏感性產(chǎn)品，并且通過材料和庫存減少兩者產(chǎn)生生產(chǎn)成本方面的優(yōu)點(diǎn)。在一個(gè)層內(nèi)結(jié)合不同的乳膠顆?？梢栽诙鄬訄D形成核系統(tǒng)的工藝靈敏度中獲得改進(jìn)，如EP-A-0682288中所述。
鹵化銀顆粒可以用單獨(dú)的或者混合的銠、釕、銥、鋨或者其他族VIII金屬摻雜，摻雜水平優(yōu)選為10-9到10-3、優(yōu)選10-6到10-3摩爾金屬/摩爾銀。所述顆?？梢允菃畏稚⒒蛘叨喾稚⒌摹?yōu)選的族VIII金屬是銠和/或銥，并且可以方便地使用五氯銠酸銨。
潛像形成層可以包含能夠提供高反差顯影的成核劑，并且可以例如如以下文獻(xiàn)中所述美國專利4,988,604、4,994,365和5,288,590、EP-A-0333435、EP-A-1008902和EP-A-1229328。
例如可以使用具有以下通式的芳基亞磺酰氨基苯基酰肼成核劑 其中，BG是適合于保護(hù)(肼)基團(tuán)、但是必要時(shí)可以容易地除去的保護(hù)基團(tuán)；A1和A2之一是氫原子，另一個(gè)是氫原子、?；鶊F(tuán)或者烷基-或者芳基-磺?；鶊F(tuán)，該基團(tuán)的任何一個(gè)可以是被取代的；V和W獨(dú)立地是被取代的或者未被取代的亞芳基基團(tuán)；r是1到6；和R選自S-R’，其中R’是未被取代的或者被取代的包含至少三個(gè)亞乙基氧基單元的一價(jià)基團(tuán)，和帶正電荷的被1到3個(gè)未被取代的或者被取代的烷基基團(tuán)取代的吡啶殘基，以及其締合的陽離子。
優(yōu)選，A1和A2的每一個(gè)是氫原子，BG是甲?；琕和W各自是未被取代的或者被取代的苯基基團(tuán)，r是1并且R是基團(tuán)S-R’，其中R’是包含四個(gè)亞乙基氧基單元、被烷基基團(tuán)取代的一價(jià)基團(tuán)。
本發(fā)明的成像元件還可以包含助促進(jìn)劑化合物，以提高超高對(duì)比和促進(jìn)活性?？蛇x擇地，助促進(jìn)劑化合物可以存在于顯影液中，如EP-A-1229328中所述。
一種這樣的助促進(jìn)劑是胺，其(1)包含至少一個(gè)仲或者叔氨基基團(tuán)，和(2)具有至少一、優(yōu)選至少三、并且最優(yōu)選至少四的正辛醇/水分配系數(shù)(logP)。
優(yōu)選這類胺在其結(jié)構(gòu)內(nèi)包含這樣的基團(tuán)，該基團(tuán)包含至少三個(gè)重復(fù)的亞乙基氧基單元，如美國專利4,975,354中所述。這些單元優(yōu)選直接連接于叔氨基基團(tuán)的氮原子。用于包含在本發(fā)明照相材料中的特別優(yōu)選的氨基化合物是具有至少三的分配系數(shù)并且具有由以下通式表示的結(jié)構(gòu)的雙叔胺R1R2N(CH2CH2O)nCH2CH2NR3R4其中，n是3到50的整數(shù)，并且更優(yōu)選10到50；R1、R2、R3和R4獨(dú)立地是具有1到8個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)，或者R1和R2合起來表示形成雜環(huán)所需的原子，和/或R3和R4合起來表示形成雜環(huán)所需的原子。
用于本發(fā)明成像元件中的或者用于其顯影劑中的特別優(yōu)選的助促進(jìn)劑是其中上述通式R1、R2、R3和R4各自是正丙基基團(tuán)并且n是14的助促進(jìn)劑，即具有以下結(jié)構(gòu) 適合作為助促進(jìn)劑化合物的特定的胺列在EP-A-0364166中，并且其他類型的助促進(jìn)劑描述在美國專利5,744,279和5,744,279中。
成核劑和任選地助促進(jìn)劑化合物可以被引入成像元件，例如鹵化銀乳膠層?？蛇x擇地，它們可以存在于成像元件的親水膠體層中，優(yōu)選這樣的親水層中，該層靠近乳膠層涂覆，在該乳膠層中希望存在成核劑的作用。然而，它們可以存在于這樣的成像元件中，該成像元件在乳膠和親水膠體層之間或者當(dāng)中分布，例如底涂層、中間層和外涂層。
本發(fā)明成像元件特別適合于借助于紅光或者紅外線激光二極管、發(fā)光二極管或者氣體激光器例如氦/氖或者氬激光器來曝光。
本發(fā)明的涂料組合物可以通過許多眾所周知的技術(shù)的任何一種來涂覆，例如浸涂、棒條涂布、刮涂、空氣刀涂、凹版涂布、逆輥涂布、擠壓涂布、滑動(dòng)涂布和幕涂。
包含在成像元件中的感光鹵化銀可以在曝光之后處理，以形成可見影像，這通過在顯影劑存在下使鹵化銀與含水堿性介質(zhì)締合來完成，所述顯影劑包含所述介質(zhì)或者元件中。當(dāng)成像元件包含引入的顯影劑時(shí)，所述元件可以在活化劑存在下被處理，該活化劑可以與否則缺乏顯影劑的組合物中的顯影劑相同。
顯影劑通常是水溶液，雖然也可以包含有機(jī)溶劑，例如二甘醇，以便于有機(jī)組分的溶解。顯影劑包含一種普通的顯影劑或者普通的顯影劑的混合物，例如多羥基苯，例如二羥基苯(氫醌)、氨基苯酚、對(duì)苯二胺、抗壞血酸、異抗壞血酸和其衍生物、吡唑烷酮、吡唑啉酮、嘧啶、連二亞硫酸鹽或者羥胺。優(yōu)選的是與抗壞血酸基系統(tǒng)混合使用氫醌和3-吡唑烷酮顯影劑。還可以使用具有超添加劑性能的輔助的顯影劑。顯影劑的pH可以用堿金屬氫氧化物和碳酸鹽、四硼酸鈉及其他堿式鹽調(diào)節(jié)。特定的說明性的顯影劑公開在以下文獻(xiàn)中化學(xué)和物理手冊，第36版，題目“照相制劑”，第30001頁及以下，以及“照相化學(xué)藥品和配方”，第6版，由Eastman Kodak公司出版(1963)。
參考以下實(shí)施例進(jìn)一步描述本發(fā)明，但是本發(fā)明不局限于這些實(shí)施例。
實(shí)施例1(對(duì)比)制備的薄膜涂層由聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(ESTARTM)載體組成，在該載體上涂覆消暈底層，成像乳膠層，中間層以及保護(hù)明膠表面涂層。使用雙乙烯基砜硬化劑將所述層硬化。
消暈底層所述底層由1.00克明膠/m2和1.00g/m2的丙烯酸甲基酯和丙烯酸丁基酯的共聚物組成。所述層還包含61.5mg/m2的胺助促進(jìn)劑，其具有結(jié)構(gòu)
220mg/m2的固體顆粒消暈染料，其具有結(jié)構(gòu) 和防色斑劑，Tiron，其以98mg/m2的覆蓋率加入。
成像乳膠層潛像形成乳膠層由70∶30氯溴化物立方單分散乳膠(0.215微米平均邊緣長度)組成，其用銠鹽摻雜，用硫和金化學(xué)增感，和用190毫克/Ag摩爾的三核部花青增感染料光譜增感，該增感染料具有結(jié)構(gòu) 該乳膠以3.15g/m2的銀覆蓋度在1.94g/m2明膠和1.155g/m2丙烯酸甲酯和丙烯酸丁酯的共聚物的基質(zhì)中涂覆。其他附加物包括2-巰基甲基-5-羧基-4-羥基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮雜茚、1-(3-乙酰氨基苯基)-5-巰基四唑和2，3-二氫-2-硫代-4-噻唑乙酸。該層還包含12.5g/m2的成核劑化合物，其具有結(jié)構(gòu)
中間層中間層以0.935g/m2的明膠涂覆量涂覆，并且該層包含162mg/m2的氫醌。
表面涂層表面涂層以0.565g/m2的明膠涂覆量涂覆。該層包含表面活性劑(LodyneTMS-100和TritonTMX200)，以便可以涂布，60mg/m2的潤滑劑“Spermalube”，和140g/m2在固體顆粒安全光保護(hù)染料，其具有結(jié)構(gòu) 所述“Spermalube”包含0.26％十二烷酸十四基酯21.26％十四烷酸十六基酯32.13％棕櫚酸鯨蠟基酯(十六烷酸十六基酯)28.43％己酸十八烷基酯，和8.01％十二烷酸十六基酯。
實(shí)施例2(對(duì)比)以與實(shí)施例1中的膠片同樣的方式制備膠片，除了60mg/m2的DC-200TM350CST，平均分子量為13,700的聚合的聚二甲基硅氧烷，被用于表面涂層，代替所述“Spermalube”。
實(shí)施例3(本發(fā)明)以與實(shí)施例1中的膠片同樣的方式制備膠片，除了將60mg/m2的DC-200TM用于表面涂層，并且中間層包含15mg/m2的“Spermalube”潤滑劑。
實(shí)施例4(本發(fā)明)以與實(shí)施例1中的膠片同樣的方式制備膠片，除了將60mg/m2的DC-200TM用于表面涂層，并且中間層包含30mg/m2的“Spermalube”潤滑劑。
將樣品曝光，然后在KODAKTMACCUMAXTM2000RA顯影劑(稀釋的1+2)中，在35℃下顯影45s，然后進(jìn)行普通的定影，洗滌和干燥。然后將膠片在50％RH、21℃下調(diào)節(jié)至少4h(過夜)。
對(duì)所述膠片進(jìn)行耐久性試驗(yàn)，這通過在Taber線性抗磨性測定儀(5700型)(TABERTMINDUSTRIES(455 Bryant Street NorthTonawanda，New York 14120)制造)上磨蝕來進(jìn)行，其中使用CS-10“Wearaser”磨蝕頭，總負(fù)載為60個(gè)周期/min下1100g，進(jìn)行總共30個(gè)周期，并且重復(fù)試驗(yàn)3次。測量未磨損表面的密度(Dmax)，并且在代表性的磨損部分上測量磨損的區(qū)域15次。將磨損密度的平均值與Dmax對(duì)比，因此可以確定密度保留百分比，其中100％表示沒有損傷。還將所述膠片與商業(yè)上可得到的膠片，F(xiàn)uji IPR-175對(duì)比。
表I

表II

從以上可以看到，在對(duì)照實(shí)施例中，在表面涂層中加入“Spermalube”潤滑劑提供差的耐磨性，而用聚硅氧烷潤滑劑替代它產(chǎn)生了改進(jìn)的效果。然而，將聚硅氧烷潤滑劑加入表面涂層，并且將“Spermalube”加入中間層，進(jìn)一步改進(jìn)了耐磨性。能夠看出，商業(yè)上可得到的膠片具有很差的耐磨性。
然后用樣品進(jìn)行重復(fù)的刮傷試驗(yàn)，包括用80g載荷負(fù)載120°金剛石測頭，然后在膠片樣品上拖曳該測頭，以導(dǎo)致刮傷。在相同的刮痕上重復(fù)試驗(yàn)最多四次。沿著刮痕長度檢驗(yàn)損傷情況，即銀的完全除去，其中100％的標(biāo)記表示安全除去。
表III

表III中的結(jié)果顯示，在四次刮傷之后，在表面涂層中包含“Spermalube”或者聚硅氧烷的對(duì)照實(shí)施例導(dǎo)致銀的完全除去。當(dāng)聚硅氧烷存在于表面涂層中，并且“Spermalube”存在于中間層中時(shí)，與商業(yè)上可得到的膠片相比，抗重復(fù)刮傷性即使不是更好，也是相當(dāng)?shù)摹?br> 使用具有1100g負(fù)載的Taber線性抗磨性測定儀可以研究膠片對(duì)預(yù)處理磨損的敏感性。在沒有光的情況下將膠片磨損，然后如前面描述的進(jìn)行處理，這樣產(chǎn)生暗線或者一系列細(xì)線。重復(fù)測試兩次，并且測量每個(gè)小片的密度15次，以獲得平均密度測量值，高密度表示對(duì)預(yù)處理磨損具有差的抗性。
表IV

正如可以從表IV中清楚看到的，使用本發(fā)明元件的實(shí)施例，其中在表面涂層和中間層中具有兩種不同的潤滑劑，與單獨(dú)的潤滑劑和商業(yè)上可得到的膠片兩者相比，具有優(yōu)良的抗預(yù)處理磨損性。
實(shí)施例5-16使用與以上相同的物質(zhì)，制備三-或者四-層涂層。對(duì)于三層實(shí)施例，表面涂層用1.5g/m2的明膠覆蓋度涂覆，并且安全光染料、氫醌和潤濕劑如前面的描述，潤滑劑的量和類型在表V中給出。對(duì)于四層涂層，表面涂層被分成兩個(gè)層，其總厚度因此等于三層形式中的表面涂層。安全光染料和氫醌保留在新的中間層中，潤濕劑殘留在新的表面涂層中。明膠在新的表面涂層中的量是0.5g/m2，而在新的中間層中是1.0g/m2。
如在表V中所述，在表面涂層或者中間層中使用了相同的潤滑劑，其中“Spermalube”被縮寫為SP，并且聚二甲基硅氧烷DC-200TM被縮寫為DC。如前面所述，對(duì)膠片進(jìn)行照相磨損試驗(yàn)，除了使用850g的較輕的負(fù)荷，以便表IV和V中的值之間沒有相關(guān)性。
表V

如表V所示，沒有中間層的三層形式，如在實(shí)施例1到8中的情況，無論潤滑劑單獨(dú)使用還是混合使用，顯示差的或者很差的照相磨損抗性。
在表面涂層中沒有潤滑劑的四層形式(實(shí)施例9)中，同樣具有很差的照相磨損抗性。然而，可以看到，甚至在中間層中存在少量的“Spermalube”連同在表面涂層中的聚硅氧烷(實(shí)施例11)，與在中間層中沒有潤滑劑的實(shí)施例10相比，獲得了照相磨損抗性的改進(jìn)。應(yīng)當(dāng)注意到，只有使用本發(fā)明的元件，其中在表面涂層和中間層中具有兩種不同的潤滑劑，才能獲得低于0.03的可接受的密度。
在此提到的專利和出版物的全部內(nèi)容在此引入作為參考。
已經(jīng)參考優(yōu)選的實(shí)施方案詳細(xì)描述了本發(fā)明。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解，在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)可以進(jìn)行變化和修改。
權(quán)利要求
1.一種成像元件，其包括載體，在該載體上依次具有至少一個(gè)成像層、至少一個(gè)包含提供抗刮傷性的潤滑劑的中間層和至少一個(gè)包含提供耐磨性的不同的潤滑劑的最外層。
2.權(quán)利要求1的元件，其中提供耐磨性的潤滑劑是聚硅氧烷基潤滑劑。
3.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其中提供耐磨性的潤滑劑是具有以下通式(I)的聚硅氧烷 其中，每個(gè)R1獨(dú)立地是未被取代的或者被取代的具有1到8個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)或者未被取代的或者被取代的具有1到8個(gè)碳原子的烷氧基基團(tuán)，R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的或者被取代的烷基、環(huán)烷基、烷氧基烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基烷基、縮水甘油氧基烷基基團(tuán)或者芳基基團(tuán)，并且n和m各自表示0到2,500的正整數(shù)，條件是m和n兩者不能是0。
4.權(quán)利要求3的元件，其中在通式(I)中，每個(gè)R1是相同的并且是未被取代的具有1到3個(gè)碳原子的烷基基團(tuán)或者具有1或者2個(gè)碳原子的烷氧基基團(tuán)。
5.權(quán)利要求3和4任何一項(xiàng)的元件，其中R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的烷基基團(tuán)。
6.權(quán)利要求3到5任何一項(xiàng)的元件，其中m是0并且n是2-500的整數(shù)。
7.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其中提供耐磨性的潤滑劑具有350厘沲的粘度和13,700的平均分子量，并且具有通式 其中n平均為183。
8.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其中提供耐磨性的潤滑劑的濃度為大約35到大約65mg/m2。
9.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其中提供抗刮傷性的潤滑劑是高級(jí)脂肪酸或者其衍生物，或者高級(jí)醇或者其衍生物。
10.權(quán)利要求9的元件，其中所述潤滑劑是高級(jí)脂肪酸的金屬鹽、高級(jí)脂肪酸酯、高級(jí)脂肪酸酰胺或者高級(jí)脂肪酸的多元醇酯。
11.權(quán)利要求9和10任何一項(xiàng)的元件，其中所述潤滑劑是脂肪酸衍生物，所述脂肪酸選自棕櫚酸、硬脂酸、油酸、亞油酸、亞麻酸或者tauric酸。
12.權(quán)利要求11的元件，其中所述潤滑劑包括“Spermalube”。
13.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其中提供抗刮傷性的潤滑劑的濃度為大約15到大約30mg/m2。
14.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其中所述元件選自照相、靜電照相、光熱照相、電熱照相、電介質(zhì)記錄和熱-染料-轉(zhuǎn)移成像元件。
15.權(quán)利要求14的元件，其中所述元件是黑白照相元件，其中成像層的至少一個(gè)包括輻射敏感的鹵化銀乳膠層。
16.權(quán)利要求15的元件，其中鹵化銀乳膠包括銀氯溴化物乳膠。
17.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其中所述元件包括能夠在潛像形成層中提供高反差顯影的成核劑。
18.前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的元件，其包括助促進(jìn)劑。
19.處理前述權(quán)利要求任何一項(xiàng)的成像元件的方法，其包括將所述元件用堿性顯影液顯影。
全文摘要
本發(fā)明提供了成像元件，其包括載體，在載體上具有依次的至少一個(gè)成像層、至少一個(gè)包含提供抗刮傷性的潤滑劑的中間層和至少一個(gè)包含提供耐磨性的不同的潤滑劑的最外層，以及處理所述元件的方法。所述元件具有提高的耐久性，特別是在抗刮傷和耐磨(特別是照相磨損)性方面具有提高的耐久性，同時(shí)保持性能并且易于制造。優(yōu)選所述元件用于制造印刷電路板或者生產(chǎn)印刷版，其中磨損和刮傷的問題是特別尖銳的。
文檔編號(hào)B41M5/40GK1902545SQ200480039159
公開日2007年1月24日 申請日期2004年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2003年12月24日
發(fā)明者S·D·斯拉特 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司