一種用白玻制備的湖水蘭色單銀low-e玻璃的制作方法
【專利摘要】一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設(shè)有TiOx底層介質(zhì)層、第一NiCrOx膜層、AZO平整層、Ag層、第二NiCrOx膜層、ZnSnO2介質(zhì)層、以及Si3N4頂層介質(zhì)層；所述第一NiCrOx膜層的厚度為1.6nm，所述Ag層的厚度為5.4nm，第二NiCrOx膜層的厚度為1.1nm。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，成本較低，可呈現(xiàn)鮮艷的湖水蘭色調(diào)。
【專利說明】 —種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃

【技術(shù)領(lǐng)域】
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[0001]本發(fā)明涉及一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃。

【背景技術(shù)】
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[0002]LOff-E玻璃，是一種高端的低輻射玻璃，是在玻璃基材表面鍍制包括銀層在內(nèi)的多層金屬及其它化合物組成的膜系產(chǎn)品。
[0003]隨著現(xiàn)代建筑的發(fā)展，人們審美觀念的提高，對(duì)幕墻玻璃的外觀色調(diào)與整體的建筑的協(xié)調(diào)性越來越受到人們的關(guān)注。而在眾多顏色中湖水蘭代表著高貴與典雅，設(shè)計(jì)師總試圖將湖水蘭應(yīng)用到建筑幕墻上，但目前的鍍膜廠家僅能局限于生產(chǎn)成本較高的湖水蘭的陽光控制膜玻璃。
[0004]故有必要對(duì)現(xiàn)有的單銀LOW-E玻璃作出改進(jìn)，以提供一種成本較低的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃。


【發(fā)明內(nèi)容】

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[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，其結(jié)構(gòu)簡單，成本較低，可呈現(xiàn)鮮艷的湖水蘭色調(diào)。
[0006]一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設(shè)有T1x底層介質(zhì)層、第一 NiCrOx膜層、AZO平整層、Ag層、第二 NiCrOx膜層、ZnSnO2介質(zhì)層、以及Si3N4頂層介質(zhì)層；所述第一 NiCrOx膜層的厚度為1.6nm,所述Ag層的厚度為5.4nm,第二 NiCrOx膜層的厚度為1.lnm。
[0007]本發(fā)明可通過如下方案進(jìn)行改進(jìn):
[0008]所述T1x底層介質(zhì)層的厚度為9nm。
[0009]所述AZO平整層的厚度為5.8nm。
[0010]所述ZnSnO2介質(zhì)層的厚度為12.6nm。
[0011]所述Si3N4頂層介質(zhì)層的厚度為3.5nm。
[0012]本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):1、本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，創(chuàng)造性地采用普通白色浮法玻璃作為玻璃基材，合理調(diào)整第一 NiCrOx膜層、Ag層、第二 NiCrOx膜層的厚度，鍍上相應(yīng)的膜層后，產(chǎn)生色澤鮮艷的湖水蘭的外觀效果，通過色度儀可以測得色度指標(biāo)b*達(dá)到-18，呈現(xiàn)鮮艷的湖水蘭色調(diào)，且成本較低。2、具有比傳統(tǒng)單銀LOW-E玻璃更低的輻射率。

【專利附圖】

【附圖說明】
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[0013]圖1為本發(fā)明結(jié)構(gòu)剖視圖。

【具體實(shí)施方式】
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[0014]如圖所示，一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材1，所述玻璃基材I為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設(shè)有T1x底層介質(zhì)層2、第一 NiCrOx膜層3、AZO平整層4、Ag層5、第二 NiCrOx膜層6、ZnSnO2介質(zhì)層7、以及Si3N4頂層介質(zhì)層8 ；所述第一 NiCrOx膜層3的厚度為1.6nm,所述Ag層5的厚度為5.4nm,第二 NiCrOx膜層6的厚度為1.lnm。
[0015]進(jìn)一步地，所述T1x底層介質(zhì)層2的厚度為9nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源、以氬氣為濺射氣體、氧氣作反應(yīng)氣體射陶瓷鈦靶，最終在玻璃基材I上形成T1x底層介質(zhì)層2，其中，氬氧比為(400SCCM?420SCCM): (50SCCM?60SCCM)，氬氧比是該膜層的核心，決定了成膜的T1x的價(jià)態(tài)，X本專利提供的T1x的價(jià)態(tài)，X = 1.7?2.0。這決定了 T1x膜層的折射率在2.0?2.2之間，提高了玻璃基底的透過率。
[0016]再進(jìn)一步地，所述第一 NiCrOx膜層3，是本專利的核心，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鎳鉻合金、用氬氣作為濺射氣體、摻入少量氧氣制備而成，其中，氬氧比為:(400SCCM?420SCCM): (20?40SCCM)，最終形成第一 NiCrOx膜層3，可提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時(shí)抗高溫氧化性。
[0017]再進(jìn)一步地，所述AZO平整層4的厚度為5.8nm，用于平滑Ag層5。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn(AZO)靶、用氬氣作為濺射氣體、摻入少量氧氣制備而成，其中，氬氧比為:(400SCCM?420SCCM): (20?40SCCM)，最終形成AZO平整層4，為Ag層5作鋪墊，降低輻射率。
[0018]又進(jìn)一步地，所述Ag層5，為功能層，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射銀靶、用氬氣作為濺射氣體制備而成，氣體流量500?550SCCM，最終形成Ag層5。
[0019]再進(jìn)一步地，所述第二 NiCrOx膜層6，是本專利的核心，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鎳鉻合金、用氬氣作為濺射氣體、摻入少量氧氣制備而成，其中，氬氧比為:(400SCCM?420SCCM): (20?40SCCM)，可提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時(shí)抗高溫氧化性。
[0020]更進(jìn)一步地，所述ZnSnO2介質(zhì)層7的厚度為12.6nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源、氬氣作為濺射氣體、氧氣作反應(yīng)氣體濺射ZnSn (質(zhì)量百分比Zn: Sn = 50:50)靶制備而成，其中，氬氧比為(400SCCM?420SCCM): (450SCCM?500SCCM)，氬氧比是該膜層的核心，決定了成膜的質(zhì)量。
[0021]又進(jìn)一步地，所述Si3N4頂層介質(zhì)層8的厚度為3.5nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源、氬氣作為濺射氣體、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射硅鋁靶(硅鋁質(zhì)量百分比92:8)制備而成，氬氮比為(400SCCM?420SCCM): (450SCCM?500SCCM)，氬氮比是該膜層的核心，決定了成膜的質(zhì)量。
[0022]本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單，創(chuàng)造性地采用普通白色浮法玻璃作為玻璃基材，合理調(diào)整第一NiCrOx膜層、Ag層、第二 NiCrOx膜層的厚度，鍍上相應(yīng)的膜層后，產(chǎn)生色澤鮮艷的湖水蘭的外觀效果，通過色度儀可以測得色度指標(biāo)b*達(dá)到-18，呈現(xiàn)鮮艷的湖水蘭色調(diào)，且成本較低。另外，本發(fā)明具有比傳統(tǒng)單銀LOW-E玻璃更低的輻射率。
[0023]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非用來限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，凡依本發(fā)明專利范圍所做的同等變化與修飾，皆落入本發(fā)明專利涵蓋的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，其特征在于:所述玻璃基材為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設(shè)有T1x底層介質(zhì)層、第一 NiCrOx膜層、AZO平整層、Ag層、第二 NiCrOx膜層、ZnSnO2介質(zhì)層、以及Si3N4頂層介質(zhì)層；所述第一 NiCrOx膜層的厚度為1.6nm,所述Ag層的厚度為5.4nm,第二 NiCrOx膜層的厚度為1.lnm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述T1x底層介質(zhì)層的厚度為9nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述AZO平整層的厚度為5.8nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述ZnSnO2介質(zhì)層的厚度為12.6nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，其特征在于:所述Si3N4頂層介質(zhì)層的厚度為3.5nm。
【文檔編號(hào)】B32B9/04GK104339784SQ201410606423
【公開日】2015年2月11日 申請(qǐng)日期:2014年10月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月30日
【發(fā)明者】禹幸福, 陳圓 申請(qǐng)人:中山市亨立達(dá)機(jī)械有限公司