一種可鋼化藍(lán)色低輻射節(jié)能玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種藍(lán)色可鋼化低輻射節(jié)能玻璃，該玻璃膜層結(jié)構(gòu)依次為：玻璃基板、第一層打底層氮化硅層、第二層鎳鎘層、第三層功能層銀層、第四層保護(hù)層鎳鎘層、第五層介質(zhì)層氧化鋅鋁層、第六層減反射層氧化鈦層、第七層氮化硅層。本實(shí)用新型制備的低輻射玻璃，具有藍(lán)色玻璃的亮麗外觀，自然光透過率、反射率適宜，最重要的是本實(shí)用新型制備的低輻射玻璃具備異地加工的潛力，能夠先鍍膜，后切割、鋼化加工，極大的提高了生產(chǎn)效率。
【專利說明】一種可鋼化藍(lán)色低輻射節(jié)能玻璃
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種低輻射玻璃，特別涉及一種藍(lán)色可鋼化低輻射節(jié)能玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002]低輻射節(jié)能玻璃(L0W-E玻璃)，其生產(chǎn)工藝是在優(yōu)質(zhì)浮法基片上鍍制多層以銀(Ag)為功能層的多層膜系。目前，離線低輻射節(jié)能玻璃加工方式分為兩種:一種是先將浮法原片切割、磨邊，然后再鋼化鍍膜，制成中空玻璃。一種是直接在浮法原片上鍍膜，然后根據(jù)需要采用切割、磨邊鋼化等方式進(jìn)行加工。
[0003]現(xiàn)有的技術(shù)生產(chǎn)外觀藍(lán)色玻璃，大多是通過浮法玻璃加入適量金屬鈷(Co)離子來獲得，這種浮法玻璃優(yōu)點(diǎn)是可異地加工生產(chǎn)，缺點(diǎn)是節(jié)能性不如低輻射玻璃。而通過鍍膜調(diào)節(jié)顏色達(dá)到外觀藍(lán)色的玻璃，其優(yōu)點(diǎn)是節(jié)能性能好，能得到質(zhì)感更好的玻璃外觀，缺點(diǎn)是不能實(shí)現(xiàn)異地加工，生產(chǎn)效率相對較低。并且，藍(lán)色浮法玻璃是通過吸收其它可見光，只能透過藍(lán)光而呈現(xiàn)藍(lán)色，所以透過色比較藍(lán)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中藍(lán)色鈷玻璃不具有低輻射節(jié)能效果，而現(xiàn)有的仿藍(lán)色外觀的低輻射玻璃難以異地加工的缺陷，提供一種藍(lán)色低輻射玻璃。本實(shí)用新型提供一種藍(lán)色可鋼化低輻射節(jié)能玻璃，其能夠在異地進(jìn)行磨邊、鋼化等加工生產(chǎn)。
[0005]本實(shí)用新型提供了以下技術(shù)方案:
[0006]一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，該玻璃膜層結(jié)構(gòu)依次為:玻璃基板、第一層打底層氮化硅層、第二層鎳鎘層、第三層功能層銀層、第四層保護(hù)層鎳鎘層、第五層介質(zhì)層氧化鋅鋁層、第六層減反射層氧化鈦層、第七層氮化硅層。
[0007]所述低輻射鍍膜玻璃采用離線磁控濺射鍍膜制成。
[0008]所述第一層打底層氮化桂(SiNx)厚度在IOnm到50nm之間，
[0009]所述第二層鎳鎘(NiCr)的厚度在2nm到8nm之間，
[0010]所述第三層功能層(Ag)層的厚度在4nm到9nm之間，
[0011]所述第四層保護(hù)層鎳鎘(NiCr)的厚度范圍在2nm到7nm之間，
[0012]所述第五層介質(zhì)層氧化鋅招(AZO)的厚度范圍在Onm到15nm之間，
[0013]所述第六層減反射層氧化鈦(TiOx)厚度在5nm到25nm之間，
[0014]所述第七層氮化桂(SiNx)的厚度范圍在15nm到45nm之間。
[0015]第一層打底介質(zhì)層提高膜層對表面的附著力；第二層鎳鎘NiCn提升Ag層在膜層中的附著力，提高Ag層的抗氧化能力；第三層功能層，Ag層可以反射掉大部分太陽能中的熱輻射，起到低輻射節(jié)能效果；第四層保護(hù)層，鎳鎘NiCr或鎘Cr層能夠保護(hù)功能層Ag層不被后續(xù)鍍膜過程和其后的加工過程所氧化，喪失功效；第五層介質(zhì)層氧化鋅鋁，可以隔絕氧氣和其他物質(zhì)，保護(hù)內(nèi)部膜層免受侵蝕，提高膜系耐化學(xué)腐蝕和機(jī)械摩擦的性能，同時可以起到調(diào)節(jié)顏色的作用。第六層減反射層氧化鈦的主要功能是保護(hù)膜層。第七層氮化硅具有很強(qiáng)的抗腐蝕、抗機(jī)械劃傷、抗高溫的性能能夠保護(hù)內(nèi)層膜系。
[0016]采用上述順序膜層鍍制的低輻射玻璃，調(diào)節(jié)膜層厚度，可以改變膜層之間對可見光的透射、吸收和反射比例。光學(xué)原理已知不同的薄膜材料組合時，可以使可見光通過膜層后，反射光發(fā)生干涉現(xiàn)象。發(fā)明人在不經(jīng)意間發(fā)現(xiàn)選用上述膜層材料，按照一定的順序進(jìn)行鍍膜，在上述膜層厚度范圍內(nèi)，調(diào)節(jié)薄膜的厚度，能夠使各個波長段的自然光得到適宜的反射、透射比，玻璃表現(xiàn)出時尚的藍(lán)色的外觀。
[0017]進(jìn)一步，在此范圍內(nèi)，調(diào)節(jié)膜系的各層厚度，還可以進(jìn)一步的增強(qiáng)藍(lán)色光波的反射比例，降低其他波段光的反射，從而呈現(xiàn)出更加時尚美麗的藍(lán)色，具備與浮法原片中添加鈷離子得到的藍(lán)玻類似的外觀色彩，為商用藍(lán)色低輻射玻璃的制造提供了另一種解決方法。本實(shí)用新型制備得到的玻璃還具有良好的低輻射性能，突出的表現(xiàn)為太陽光中的紅外線反射增強(qiáng)，自然光可見光部分透過比例好，與一般的低輻射玻璃相比更具優(yōu)異節(jié)能效果。同時更重要的是本實(shí)用新型制備的低輻射玻璃具備異地加工的潛力，能夠先鍍膜，后切割、鋼化加工。解決了藍(lán)色鍍膜低輻射玻璃的異地加工問題，極大的提高了藍(lán)色低輻射玻璃的生產(chǎn)效率。
[0018]本實(shí)用新型制備的LOW-E玻璃，通過調(diào)節(jié)外觀反射呈現(xiàn)藍(lán)色，其透過色比較中性，更加符合建筑視覺審美要求。所以，該實(shí)用新型既能實(shí)現(xiàn)具有較好質(zhì)感的藍(lán)色外觀，同時大大提高生產(chǎn)效率，滿足不同客戶需求。
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果:
[0020]該實(shí)用新型制造的低輻射玻璃的反射率R從8%到30%，b*范圍從-11到-20，透過率從40%到65%。注:b* (黃藍(lán)程度，其值越負(fù)顏色越藍(lán))
【專利附圖】

【附圖說明】:
[0021]圖1為鍍膜低輻射玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖
[0022]圖中標(biāo)記:1_玻璃基板，2-第一層打底層氮化硅層，3-第二層鎳鎘層，4-第三層功能層銀層，5-第四層保護(hù)層鎳鎘層，6-第五層介質(zhì)層氧化鋅鋁層，7-第六層減反射層氧化鈦層，8-第七層氮化桂層。
【具體實(shí)施方式】
[0023]在本實(shí)用新型中，a*，b*為心理色度，+ a*表示紅色，一 a*表示綠色，+ b*表示黃色，一 b*表示藍(lán)色，T%:透射百分比，a*t:透過光線的紅綠程度，b*t:透過清純的黃藍(lán)程度，尺％表示光線反射百分比，a*g:反射光線的紅綠程度，b*g:反射光線的黃藍(lán)程度，U factor表示傳熱系數(shù)，Sc表示遮陽系數(shù)。
[0024]下面結(jié)合試驗(yàn)例及【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。但不應(yīng)將此理解為本實(shí)用新型上述主題的范圍僅限于以下的實(shí)施例，凡基于本實(shí)用新型內(nèi)容所實(shí)現(xiàn)的技術(shù)均屬于本實(shí)用新型的范圍。
[0025]實(shí)施例1
[0026]利用真空離線磁控濺射鍍膜設(shè)備，在6mm優(yōu)質(zhì)浮法玻璃基板上，由內(nèi)到外依次鍍膜:第一層打底層氮化桂層厚度為16nm，第二層鎳鎘NiCr的厚度為7.3nm，第三層功能層Ag層的厚度為7.6nm，第四層保護(hù)層鎳鎘NiCr的厚度為4.7nm,第五層減介質(zhì)層氧化鋅鋁AZO的厚度為3.3nm，第六層減反射層氧化鈦TiOx厚度為18nm，第七層氮化硅SiNx的厚度為 21nm0
[0027]最終產(chǎn)品膜層結(jié)構(gòu)如圖1所示，圖中標(biāo)記依次為1-玻璃基板，2-第一層打底層氮化硅層，3-第二層鎳鎘層，4-第三層功能層銀層，5-第四層保護(hù)層鎳鎘層，6-第五層介質(zhì)層氧化鋅鋁層，7-第六層減反射層氧化鈦層，8-第七層氮化硅層。
[0028]實(shí)施例2-3
[0029]實(shí)施例2-3實(shí)施過程同實(shí)施例1，鍍膜層系厚度見下表，表中各層厚度單位均為納米。
[0030]表1Low-E藍(lán)色低輻射玻璃各層厚度
[0031]
【權(quán)利要求】
1.一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，該玻璃膜層結(jié)構(gòu)依次為:玻璃基板、第一層打底層氮化硅層、第二層鎳鎘層、第三層功能層銀層、第四層保護(hù)層鎳鎘層、第五層介質(zhì)層氧化鋅鋁層、第六層減反射層氧化鈦層、第七層氮化硅層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述低輻射鍍膜玻璃采用離線磁控濺射鍍膜制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一層打底層氮化硅層厚度在IOnm到50nm之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二層鎳鎘層的厚度在2nm到8nm之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三層功能層銀層的厚度在4nm到9nm之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第四層保護(hù)層鎳鎘層的厚度范圍在2nm到7nm之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第五層介質(zhì)層氧化鋅鋁層的厚度范圍在Onm到15nm之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第六層減反射層氧化鈦層厚度在5nm到25nm之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第七層氮化硅層的厚度范圍在15nm到45nm之間。
【文檔編號】B32B15/04GK203600723SQ201320616622
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年10月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月8日
【發(fā)明者】李建根, 徐伯永 申請人:四川南玻節(jié)能玻璃有限公司