專利名稱：一種表面硬化膜結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種表面硬化膜的結(jié)構(gòu)，具體涉及一種可應(yīng)用于觸控屏幕、光學(xué)膜片、按鍵、鏡片等產(chǎn)品上，以提升該基板的環(huán)境穩(wěn)定性與機(jī)械強(qiáng)度的基板表面硬化膜結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
隨著光電、微機(jī)電以及光學(xué)組件產(chǎn)品逐漸走向輕薄化、可攜帶性以及多元應(yīng)用的潮流趨勢(shì)下，塑料基板所具有的質(zhì)量輕及高可塑特性，已漸漸取代過去采用玻璃或其它基板所制作的組件；然而，塑料基板使用一段時(shí)間后，塑料基板表面容易產(chǎn)生刮痕與磨損，進(jìn)而影響相關(guān)組件的質(zhì)量與壽命。過去為了提升塑料基板的應(yīng)用價(jià)值，必須在基板表面設(shè)置硬化膜(HardCoating)，以改善塑料基板的環(huán)境穩(wěn)定性與機(jī)械強(qiáng)度；然而在現(xiàn)有的硬化膜使用技術(shù)領(lǐng)域中，可以作為硬化膜的材料有很多種，包含類鉆碳膜(Diamond Like Carbon ;DLC)、硅基化合物(Silicon-BasedCompound)及金屬氧化物等；其中以二氧化娃硬化膜，為具有較低的折射率(約1.46)及較為優(yōu)異的硬度，已廣泛地應(yīng)用在各種以塑料基板為主的組件的光學(xué)鍍膜上。對(duì)于目前制作二氧化硅硬化膜的技術(shù)上，許多塑料原材生產(chǎn)及相關(guān)上游塑料加工產(chǎn)業(yè)仍以浸潰法(Dipping)將基板浸于特定溶液中以達(dá)到沉積二氧化硅硬化膜的技術(shù)為主流，但是，由于浸潰法容易受到塑料基板本身形狀的影響，使得二氧化硅硬化膜的均勻性不佳，降低制作相關(guān)組件下游制程的優(yōu)良率，且基板所浸泡的特定溶液中需要用高含量的溶劑加以稀釋，以便于浸潰成型；然而，特定溶液中因溶劑含量高導(dǎo)致固含量較低，當(dāng)浸潰成型溶劑揮發(fā)后，形成于塑料基板表面的二氧化硅硬化膜較薄，導(dǎo)致整體硬度較低(約為HB)。另一種現(xiàn)有基板硬化結(jié)構(gòu)如圖1及圖2所示，該基板11先與PMMA (聚甲基丙烯酸甲脂)層12共擠出，使該基板11表面形成有PMMA (聚甲基丙烯酸甲脂)層12，再將PMMA層12表面設(shè)置硬化膜13，此硬化結(jié)構(gòu)雖可達(dá)到3H硬度；然而，多層結(jié)構(gòu)的設(shè)置成型程序較多且成本較高。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，提供一種可應(yīng)用于觸控屏幕、光學(xué)膜片、按鍵、鏡片等產(chǎn)品上，以提升基板的環(huán)境穩(wěn)定性與機(jī)械強(qiáng)度的基板表面硬化膜結(jié)構(gòu)。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述硬化膜結(jié)構(gòu)為設(shè)置在基板上的表面硬化膜，在所述基板至少一面設(shè)置有UV層，在所述UV層上附著有耐磨涂層，所述耐磨涂層的厚度為5 50 μ m。其中優(yōu)選的技術(shù)方案是，所述UV層與耐磨涂層設(shè)置在基板上表面。[0009]優(yōu)選的技術(shù)方案還有，所述UV層與耐磨涂層設(shè)置在基板下表面。優(yōu)選的技術(shù)方案還有，所述UV層與耐磨涂層設(shè)置在基板上表面及下表面。進(jìn)一步優(yōu)選的技術(shù)方案還有，所述耐磨涂層的厚度為30~40μm。進(jìn)一步優(yōu)選的技術(shù)方案還有，所述基板為壓克力板。進(jìn)一步優(yōu)選的技術(shù)方案還有，所述基板為PC板。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于:由于在基板至少一表面設(shè)置有UV層并涂布有耐磨涂層，而耐磨涂層的厚度為5 50 μ m,由于表面的UV層與耐磨涂層使整體基板表面達(dá)到硬化耐磨作用，從而提升了基板的環(huán)境穩(wěn)定性與機(jī)械強(qiáng)度，可應(yīng)用于觸控屏幕、光學(xué)膜片、按鍵、鏡片等產(chǎn)品上。

圖1是現(xiàn)有基板表面硬化結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是現(xiàn)有基板表面硬化結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)立體圖；圖3是本實(shí)用新型表面硬化膜結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本實(shí)用新型表面硬化膜結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)立體圖。圖中:1、基板；2、UV層；3、耐磨涂層;4、納米粒子;11、上表面；12、下表面。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而不能以此來限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。如圖3、4所不,本實(shí)用新型是一種表面硬化膜結(jié)構(gòu),該基板1至少一表面設(shè)有UV層2 (固化硬質(zhì)層)，在UV層2上涂布設(shè)有耐磨涂層3，而耐磨涂層3的厚度為5 50 μ m,如圖所示的實(shí)施例中，UV層2與耐磨涂層3設(shè)置于基板I上表面11及下表面12 ;當(dāng)然也可視使用者所需設(shè)置于基板I上表面11，或者設(shè)置于基板I下表面12。其中，基板1可以為壓克力板或者PC (聚碳酸酯)板等塑料基板，耐磨涂層3的厚度較佳者為30~40μm,耐磨涂層3中設(shè)有納米粒子4 (可以為二氧化硅)，以增加該耐磨涂層2的硬度。在基板1表面設(shè)置有UV層2與耐磨涂層3，由于UV層2與耐磨涂層3可使整體基板I表面達(dá)到硬化及耐磨的作用，可達(dá)到至少3H硬度，以提升基板I的環(huán)境穩(wěn)定性與機(jī)械強(qiáng)度，可應(yīng)用于觸控屏幕、光學(xué)膜片(例如棱鏡片、擴(kuò)散板、偏光片等)、按鍵(例如電器產(chǎn)品的按鍵)、鏡片(例如眼鏡、相機(jī)鏡頭等)或電器產(chǎn)品的外殼等產(chǎn)品上，以達(dá)到耐磨防刮的功效，并增加產(chǎn)品的質(zhì)量與使用壽命。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述硬化膜結(jié)構(gòu)為設(shè)置在基板上的表面硬化膜，在所述基板至少一面設(shè)置有UV層，在所述UV層上附著有耐磨涂層，所述耐磨涂層的厚度為5 50 μ m0
2.如權(quán)利要求1所述的表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述UV層與耐磨涂層設(shè)置在基板上表面。
3.如權(quán)利要求1所述的表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述UV層與耐磨涂層設(shè)置在基板下表面。
4.如權(quán)利要求1所述的表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述UV層與耐磨涂層設(shè)置在基板上表面及下表面。
5.如權(quán)利要求1、2、3或4所述的表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述耐磨涂層的厚度為30 40 μ m。
6.如權(quán)利要求1、2、3或4所述的表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基板為壓克力板。
7.如權(quán)利要求1、2、3或4所述的表面硬化膜結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述基板為PC板。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種表面硬化膜結(jié)構(gòu)，該硬化膜結(jié)構(gòu)為設(shè)置在基板上的表面硬化膜，在基板至少一面設(shè)置有UV層，在UV層上附著有耐磨涂層，耐磨涂層的厚度為5~50μm，UV層與耐磨涂層設(shè)置在基板的上表面和/或下表面。由于在基板至少一表面設(shè)置有UV層并涂布有耐磨涂層，而耐磨涂層的厚度為5~50μm，由于表面的UV層與耐磨涂層使整體基板表面達(dá)到硬化耐磨作用，從而提升了基板的環(huán)境穩(wěn)定性與機(jī)械強(qiáng)度，可應(yīng)用于觸控屏幕、光學(xué)膜片、按鍵、鏡片等產(chǎn)品上。
文檔編號(hào)B32B27/06GK202965374SQ201220518768
公開日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2012年10月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月10日
發(fā)明者周永南 申請(qǐng)人:江陰通利光電科技有限公司