專利名稱：抗強洗與煮沸膜系的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種抗強洗與煮沸膜系，主要應(yīng)用于光學(xué)薄膜加工。
背景技術(shù)：
光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。主要應(yīng)用在光在傳播路徑過程中，附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層，通過分層介質(zhì)膜層時的反射、折射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或是光的偏振分離等各特殊形態(tài)的光。目前，光學(xué)膜系加工的產(chǎn)品，經(jīng)3次以上的洗凈或是5分鐘的煮沸膜就會脫落，此現(xiàn)象嚴重影響品質(zhì)；舊膜系結(jié)構(gòu)為H4與Al2O3組成的層狀膜系，其中Al2O3為兩性氧化物，易·與堿發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，而洗劑的PH值約12，故用此結(jié)構(gòu)加工的產(chǎn)品經(jīng)過多次洗凈時，Al2O3層易被洗劑腐蝕從而出現(xiàn)脫膜。同時Al2O3膜相對較松軟，其抗煮沸與熱沖擊能力較弱，特別是高溫時更易出現(xiàn)邊緣掉膜。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)、材質(zhì)不同的抗強洗與煮沸膜系。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是一種抗強洗與煮沸膜系，包括從上而下依次設(shè)置的七層膜，所述第一層、第三層、第五層和第七層為MgF2薄膜層，所述第二層、第四層和第六層為H4鍍膜層。進一步的，所述第一層厚度為16. 25nm,所述第二層厚度為35. 43nm,所述第三層厚度為21. 34nm,所述第四層厚度為76. 9nm,所述第五層厚度為8nm,所述第六層厚度為47. 76nm,所述第七層厚度為95. 44nm。進一步的，所述七層膜通過熱處理復(fù)合為一體。本發(fā)明具有以下優(yōu)點采用多層MgF2薄膜層和多層H4鍍膜層復(fù)合一體結(jié)構(gòu)，能夠在保證反射率的情況下提高其抗強洗性能和抗煮沸性能，其中MgF2為氟化物，化學(xué)性穩(wěn)定，受酸堿的影響小，穩(wěn)定性極強，特別是溫度在280度以上時，它與H4的結(jié)合層致密堅硬，抗擦拭與煮沸能力明顯比Al2O3提升2倍以上。


圖I為本發(fā)明實施例的構(gòu)造示意圖。圖中，I-第一層，2-第二層，3-第三層，4-第四層，5-第五層，6-第六層，7-第七層。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明做進一步的闡述。
傳統(tǒng)舊膜系結(jié)構(gòu)如表I所示。表I
權(quán)利要求
1.一種抗強洗與煮沸膜系，包括從上而下依次設(shè)置的七層膜，其特征是，所述第一層、第三層、第五層和第七層為MgF2薄膜層，所述第二層、第四層和第六層為H4鍍膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的抗強洗與煮沸膜系，其特征是，所述第一層厚度為16.25nm,所述第二層厚度為35. 43nm，所述第三層厚度為21. 34nm，所述第四層厚度為76. 9nm，所述第五層厚度為8nm,所述第六層厚度為47. 76nm,所述第七層厚度為95. 44nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的抗強洗與煮沸膜系，其特征是，所述七層膜通過熱處理復(fù)合為一體。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種抗強洗與煮沸膜系，包括從上而下依次設(shè)置的七層膜，所述第一層、第三層、第五層和第七層為MgF2薄膜層，所述第二層、第四層和第六層為H4鍍膜層。本發(fā)明采用多層MgF2薄膜層和多層H4鍍膜層復(fù)合一體結(jié)構(gòu)，能夠在保證反射率的情況下提高其抗強洗性能和抗煮沸性能，其中MgF2為氟化物，化學(xué)性穩(wěn)定，受酸堿的影響小，穩(wěn)定性極強，特別是溫度在280度以上時，它與H4的結(jié)合層致密堅硬，抗擦拭與煮沸能力明顯比Al2O3提升2倍以上。
文檔編號B32B9/04GK102896827SQ201210428509
公開日2013年1月30日 申請日期2012年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月1日
發(fā)明者田儒平, 雷洪濤, 易燈良, 李成 申請人:福建福光光電科技有限公司