專利名稱：白色涂膜層及其形成方法、以及印刷電路板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及白色涂膜層及其形成方法、以及使用其的印刷電路板。尤其本發(fā)明涉及可以適合作為用于安裝發(fā)光二極管(LED)等發(fā)光部件的印刷電路板用阻焊膜使用的高反射率的白色涂膜層及其形成方法、以及使用其的印刷電路板。
背景技術(shù)：
印刷電路板通常通過蝕刻除去貼合于層疊板上的銅箔的不需要部分而形成有電路布線，通過焊接而將電子部件配置在印刷電路板的規(guī)定位置上。這樣的印刷電路板中，使用在基材上涂布并固化而形成的阻焊膜作為焊接電子部件時的電路的保護(hù)膜。該阻焊膜可防止焊接時焊料附著在不必要的部分，并且可防止電路導(dǎo)體直接暴露于空氣中時引起的由氧氣、濕分導(dǎo)致的劣化。此外，阻焊膜還具有作為電路基板的永久保護(hù)膜的功能。因此要求阻焊膜具有密合性、電絕緣性、耐焊接熱性能、耐溶劑性、耐化學(xué)藥品性等各特性。近年來，將便攜式終端、個人電腦、電視等的液晶顯示器的背光燈、照明器具的光源等以低電力發(fā)光的LED直接安裝于被覆形成有阻焊膜的印刷電路板上的用途在增加。因此，為了有效利用LED的光，就需要具有高反射率的阻焊膜的印刷電路板。因此，近年來，變更本來為綠色的阻焊膜的顏料，而逐漸采用使用了白色氧化鈦的阻焊膜。特別是如專利文獻(xiàn)1那樣提出了通過使用特定的氧化鈦從而提高了劣化特性的阻焊膜。此外，這種組合物由于可獲得高反射率的涂膜圖案，所以還被要求作為顯示器用途等的反射板用材料。然而，該組合物所帶來的反射率的提高存在一定的限度，難以實現(xiàn)進(jìn)一步的高反射率化?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開2007-322546號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題本發(fā)明的目的在于，提供一種可以適合作為搭載有LED等發(fā)光部件的印刷電路板的阻焊膜等使用的高反射率的白色涂膜層、其形成方法及使用其的印刷電路板。用于解決問題的方案本發(fā)明人等進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在制造印刷電路板中所用的白色且高反射率的阻焊膜時，為了得到具有目標(biāo)膜厚的阻焊膜，與通過一次涂布而形成單一層相比，通過反復(fù)進(jìn)行涂布和固化來形成涂膜的層疊體，反射率格外提高。S卩，例如，本發(fā)明如下所述。(1) 一種白色涂膜層，其特征在于，其是由使用含有氧化鈦的白色固化性組合物而形成的涂膜構(gòu)成的白色涂膜層，該白色涂膜層通過層疊2層以上所述涂膜而成。(2)根據(jù)⑴所述的白色涂膜層，其特征在于，白色涂膜層的總膜厚為60 μ m以下。
(3)根據(jù)⑴或⑵所述的白色涂膜層，其特征在于，形成各涂膜的所述白色固化性組合物相同或不同。(4)根據(jù)(1) (3)中任一項所述的白色涂膜層，其特征在于，所述白色涂膜層為阻焊膜。(5) 一種印刷電路板，其特征在于，其具有(4)所述的阻焊膜。(6) 一種白色涂膜層的形成方法，其特征在于，其是使用了含有氧化鈦的白色固化性組合物的白色涂膜層的形成方法，該方法中，使用所述白色固化性組合物在基材上形成涂膜，并在該涂膜上使用所述含有氧化鈦的白色固化性組合物而形成2層以上的涂膜。發(fā)明的效果本發(fā)明的白色涂膜層由于為高反射率，因此作為例如印刷電路板用阻焊膜使用， 由此能夠提供可有效利用LED等的光的印刷電路板。此外，除了阻焊膜以外，本發(fā)明的白色涂膜層還可以廣泛用作例如顯示器用反射板等。
具體實施例方式以下，對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。本發(fā)明的白色涂膜層的特征在于，具有層疊了由含有氧化鈦的白色的固化性組合物形成的2層以上的涂膜的層結(jié)構(gòu)。為了使用含有氧化鈦的白色固化性組合物而得到具有目標(biāo)膜厚的白色涂膜層，與通過一次涂布而形成單一層相比，通過反復(fù)進(jìn)行涂布和固化來形成涂膜的層疊體，反射率格外提高。即，例如在制作厚度30 μ m的阻焊膜的情況下，與通過一次涂布及固化來形成由單一層構(gòu)成的30 μ m的白色涂膜層的情況相比，通過采用例如反復(fù)進(jìn)行3次涂布和固化來形成總膜厚為30 μ m的涂膜的層疊體的方法，可見反射率的格外提高。認(rèn)為這是由于，涂膜中的氧化鈦的分布在厚度方向上并不均勻，涂膜的下方較密，涂膜的上方較疏，通過將其制成2層以上的層結(jié)構(gòu)，產(chǎn)生折射率的差，從而反射率格外提高。本發(fā)明中，白色涂膜層的總膜厚優(yōu)選為5 60 μ m，更優(yōu)選為10 50 μ m，進(jìn)一步優(yōu)選為10 30 μ m。此外，作為層結(jié)構(gòu)，只要為2層以上即可，但更優(yōu)選為2層以上且5層以下。從反射率的觀點出發(fā)，白色涂膜層的層數(shù)越多越優(yōu)選，但層增加時，工序數(shù)增加，所以過多的層數(shù)并不實用。此外，總膜厚較薄時，白色涂膜層難以達(dá)到高反射率，另一方面，總膜厚過厚時，在后面工序的部件安裝等中產(chǎn)生不良情況。本發(fā)明的白色涂膜層由于如上所述反射率高，所以例如可以適合作為安裝有LED 等發(fā)光元件的印刷電路板的阻焊膜使用。以往的高反射率的阻焊膜通過在組成中大量配合氧化鈦來提高白色度并確保反射率，但為了保護(hù)本來的目標(biāo)印刷電路板，而含有用于確保耐熱性、耐化學(xué)藥品性、電絕緣性、長期可靠性等所需要的成分，由于這些成分的影響現(xiàn)狀以上水平的反射率的提高策略達(dá)到頂峰。根據(jù)本發(fā)明，使用這種公知的白色固化性組合物時，能夠進(jìn)一步提高反射率。本發(fā)明中使用的白色固化性組合物是含有氧化鈦的組合物，其他成分可以根據(jù)用途而適當(dāng)選擇。例如阻焊膜是作為保護(hù)層而形成于印刷電路板的最外層的膜，作為其類型， 有通過進(jìn)行圖案印刷并加熱而固化的熱固化型；同樣地進(jìn)行圖案印刷并照射來自放電燈的紫外線而固化的紫外線固化型；以及，整面涂布并隔著負(fù)型的光掩模而進(jìn)行曝光、顯影從而圖案化后熱固化的顯影型。本發(fā)明的白色涂膜層在用作阻焊膜時，可以使用含有氧化鈦、以及根據(jù)熱固化型、紫外線固化型或顯影型的類型的各種成分的白色固化性組合物。此外，構(gòu)成本發(fā)明的白色涂膜層即層疊體的各涂膜可以由相同的白色固化性組合物形成，也可以由不同的白色固化性組合物形成。氧化鈦本發(fā)明的白色固化性組合物含有氧化鈦。氧化鈦可以是金紅石型氧化鈦，也可以是銳鈦礦型氧化鈦，但優(yōu)選使用金紅石型氧化鈦。銳鈦礦型氧化鈦由于具有光催化活性，特別是由于從LED照射的光，有時會引起絕緣性樹脂組合物中的樹脂的變色。與此相對，與銳鈦礦型氧化鈦相比，金紅石型氧化鈦在紫外線區(qū)域與可見光區(qū)域的邊界附近具有吸收。因此，雖然從白色度和整個可見光區(qū)域的反射率的觀點來看比銳鈦礦氧化鈦差，但由于基本上不具有光活性，所以能夠獲得穩(wěn)定的白色涂膜。金紅石型氧化鈦對熱也穩(wěn)定。因此，在安裝有LED的印刷電路板的涂膜層中使用金紅石型氧化鈦作為白色顏料時，能夠長期維持高反射率。作為金紅石型氧化鈦，可以使用公知的金紅石型氧化鈦。金紅石型氧化鈦的制造方法有硫酸法和氯法這兩種，本發(fā)明中，可以使用通過任一種制造方法制造的金紅石型氧化鈦。這里，硫酸法是指如下制法以鈦鐵礦石、鈦渣(titanium slag)作為原料，將其溶解到濃硫酸中而將鐵成分以硫酸鐵的形式分離，將溶液水解而得到氫氧化物的沉淀物，將其在高溫下燒成后取出金紅石型氧化鈦。另一方面，氯法是指如下制法以合成金紅石、天然金紅石作為原料，使其在約1000°C的高溫下與氯氣和碳反應(yīng)而合成四氯化鈦，將其氧化后取出金紅石型氧化鈦。其中，通過氯法而制造的金紅石型氧化鈦特別是因熱所導(dǎo)致的樹脂的劣化(黃變)的抑制效果顯著，本發(fā)明中更優(yōu)選使用。作為市售的金紅石型氧化鈦，例如可以使用TIPAQUE R-820、TIPAQUE R-830、 TIPAQUE R-930、TIPAQUE R-550、TIPAQUE R-630、TIPAQUE R-680、TIPAQUE R-670、TIPAQUE R-680、TIPAQUE R-670、TIPAQUE R-780、TIPAQUE R-850、TIPAQUE CR-50、TIPAQUE CR-57、 TIPAQUE CR-80、TIPAQUECR-90、TIPAQUE CR-93、TIPAQUE CR-95、TIPAQUE CR-97、TIPAQUE CR-60,TIPAQUE CR-63,TIPAQUE CR-67,TIPAQUE CR-58,TIPAQUE CR-85,TIPAQUE UT771(石原產(chǎn)業(yè)株式會社制)、Ti-Pure R-100、Ti-Pure R-IOl、Ti-Pure R-102、Ti-Pure R-103、 Ti-Pure R-104、Ti-Pure R-105、Ti-Pure R_108、Ti_Pure R-900、Ti-Pure R_902、Ti_Pure R-960、Ti-Pure R-706,Ti-Pure R_931(Du Pont Kabushiki Kaisha制)、R-25、R_21、R_32、 R-7E、R-5N、R-61N、R-62N、R-42、R-45M、R-44、R-49S、GTR-100, GTR-300、D-918、TCR-29、 TCR-52、FTR-700 (堺化學(xué)工業(yè)株式會社制)等。其中，更優(yōu)選使用通過氯法而制造的TIPAQUE CR-50、TIPAQUE CR-57、TIPAQUE CR-80、TIPAQUE CR-90、TIPAQUE CR-93、TIPAQUE CR-95、TIPAQUE CR-97、TIPAQUE CR-60、 TIPAQUE CR-63、TIPAQUE CR-67、TIPAQUE CR-58、TIPAQUE CR-85、TIPAQUE UT771(石原產(chǎn)業(yè)株式會社制)、Ti-Pure R-100, Ti-Pure R-101、Ti_Pure R-102,Ti-Pure R-103,Ti-Pure R-104、Ti-Pure R-105、Ti-Pure R-108、Ti-Pure R-900、Ti-Pure R-902、Ti-Pure R-960、 Ti-Pure R-706> Ti-Pure R-931(Du Pont Kabushiki Kaisha 帝[J)。此外，作為銳鈦礦型氧化鈦，可以使用公知的銳鈦礦型氧化鈦。作為市售的銳鈦礦型氧化鈦，可以使用 TITON A-110、TITON TCA-123E、TITON A-190、TITON A-197、TITONSA-I、TITON SA-IL (堺化學(xué)工業(yè)株式會社制)、TA-100、TA-200、TA-300、TA-400、TA-500、 TP-2 (Fuji Titanium Industry Co. , Ltd.制)、TITANIX JA-1、TITANIX JA-3、TITANIX JA-4、TITANIX JA-5、TITANIX JA-C (TAYCA CORPORATION 制)、KA-10、KA-15、KA-20、 KA-30 (Titan Kogyo,Ltd.制)、TIPAQUEA_100、TIPAQUE A_220、TIPAQUE W-10 (石原產(chǎn)業(yè)株式會社制)等。氧化鈦的配合率只要是在本發(fā)明的白色涂膜層的用途中通常所采用的范圍即可。 例如，該配合率在干燥的涂膜中優(yōu)選為5 80質(zhì)量％，更優(yōu)選在涂膜中為10 70質(zhì)量％。 該配合量在涂膜中少于5質(zhì)量％時，得不到充分的反射率。此外，即使在涂膜中添加超過80 質(zhì)量％的量的氧化鈦，也看不到反射率的大的上升。熱固化型白餼組合物熱固化型白色組合物中，除氧化鈦以外，例如可以含有熱固化性樹脂、固化劑、固化催化劑。作為熱固化性樹脂，只要是通過加熱而固化并顯示出電絕緣性的樹脂即可，例如可列舉出環(huán)氧化合物、氧雜環(huán)丁烷化合物、三聚氰胺樹脂、有機(jī)硅樹脂等。作為固化劑，可列舉出多官能酚化合物、聚羧酸及其酸酐、脂肪族或芳香族的伯胺或仲胺、聚酰胺樹脂、多巰基化合物等。此外，作為上述環(huán)氧化合物，例如作為環(huán)氧當(dāng)量為170以下、為液態(tài)、粘度為2000mPa· s以上的環(huán)氧化合物，可列舉出TEPIC-VL， TEPIC-PASB26 (日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)株式會社制)，EX-611、EX-612、EX-614 (Nagase ChemteX Corporation 制)、EXA_8;35LV(DIC 公司制)、ZX-1059、YH-434、YH_434L(東都化成公司制)、 807, YL983U,604(japan epoxy resin制)等。這些環(huán)氧化合物可以單獨使用或組合2種以上使用。作為固化催化劑，是在環(huán)氧化合物和/或氧雜環(huán)丁烷化合物等與上述固化劑的反應(yīng)中可以作為固化催化劑的化合物、或者不使用固化劑時可作為聚合催化劑的化合物，例如可列舉出叔胺、叔胺鹽、季鐺鹽、叔膦、冠醚絡(luò)合物及膦葉立德(phosphoniumylide)等， 可以從它們中任意單獨使用或組合2種以上使用。紫外線固化型白餼組合物紫外線固化型白色組合物中，除氧化鈦以外，例如可以含有光固化性樹脂、光聚合引發(fā)劑。作為光固化性樹脂，只要是通過活性能量線照射而固化并顯示出電絕緣性的樹脂即可，特別優(yōu)選使用分子中具有1個以上的烯屬不飽和鍵的化合物。作為具有烯屬不飽和鍵的化合物，可列舉出光聚合性低聚物、及光聚合性乙烯基單體等。作為光聚合引發(fā)劑，例如可列舉出苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻異丁醚、苯偶酰甲基縮酮等苯偶姻化合物和其烷基醚類；苯乙酮、2，2_ 二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、二乙氧基苯乙酮、2，2_ 二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1，1- 二氯苯乙酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2-甲基-144-(甲基硫代) 苯基]-2-嗎啉代-丙烷-1-酮等苯乙酮類；甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、1-氯蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌類；噻噸酮、2，4_ 二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2，4_ 二氯噻噸酮、 2-甲基噻噸酮、2，4_ 二異丙基噻噸酮等噻噸酮類；苯乙酮二甲基縮酮、苯偶酰二甲基縮酮等縮酮類；二苯甲酮、4，4_雙甲基氨基二苯甲酮等二苯甲酮類等。
顯影型白餼組合物顯影型白色組合物中，除氧化鈦及上述成分以外，例如可以含有含羧基樹脂。作為含羧基樹脂，只要是能夠利用弱堿水溶液進(jìn)行顯影的具有羧基的樹脂，就可以使用。其他的添加劑本發(fā)明的白色固化性組合物中，除上述成分以外，還可以含有有機(jī)溶劑、增稠劑、 添加劑類。作為有機(jī)溶劑，是用于組合物的調(diào)制、粘度調(diào)整的，例如可列舉出甲乙酮、環(huán)己酮等酮類；甲苯、二甲苯、四甲基苯等芳香族烴類；溶纖劑、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、卡必醇、 甲基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇單甲基醚、二丙二醇單甲基醚、二丙二醇二乙基醚、三丙二醇單甲基醚等二醇醚類；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乳酸丁酯、溶纖劑乙酸酯、丁基溶纖劑乙酸酯、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、二丙二醇單甲基醚乙酸酯、 碳酸丙烯酯(propylene carbonate)等酯類；辛烷、癸烷等脂肪族烴類；石油醚、石腦油、溶劑石腦油等。作為增稠劑，可列舉出微粉硅石、有機(jī)膨潤土、蒙脫石等。作為添加劑類，可列舉出有機(jī)硅系、氟系、高分子系等消泡劑·流平劑、咪唑系、噻唑系、三唑系等硅烷偶聯(lián)劑等。接著，以阻焊膜(熱固化型、光固化型及顯影型)為例，對本發(fā)明的白色涂膜層的形成方法進(jìn)行說明。關(guān)于熱固化型的阻焊膜，通常，通過絲網(wǎng)印刷法，使用所需圖案的絲網(wǎng)版以刮板刮到電路板等上，從而印刷熱固化型組合物，然后，通過對其進(jìn)行15 90分鐘左右的130 160°C左右的加熱，從而使其固化。其中所述電路板是對貼合在基材上的銅箔用蝕刻法而形成有電路的電路板。本發(fā)明中，形成含有氧化鈦的熱固化型的阻焊膜時，在該印刷工序中，通過減小絲網(wǎng)版的紗的絲的粗細(xì)，增加根數(shù)，或減小形成圖案的乳劑的厚度，或提高刮板的接觸角度或減慢速度，從而使所得到的阻焊膜的厚度比目標(biāo)厚度薄地印刷熱固化型組合物，形成第一層的涂膜。然后，通過加熱使其固化。該加熱由于不使其完全固化也沒有問題，所以能夠以所謂的干燥程度比較低的溫度、短時間進(jìn)行。但是，在最終層的印刷后必須使其充分固化。 接著通過同樣的方法重復(fù)進(jìn)行熱固化型組合物的印刷和固化而形成第二層以后的涂膜，得到具有目標(biāo)膜厚的層疊體(阻焊膜)。對于紫外線固化型的阻焊膜，通常通過與熱固化型同樣的方法印刷紫外線固化型組合物并照射紫外線，從而使其固化。此時，通常使用搭載有高壓汞燈、金屬鹵化物燈的帶式輸送機(jī)式的照射機(jī)，照射300 3000mJ/cm2左右的累計光量的紫外線而使其固化。本發(fā)明中，形成含有氧化鈦的紫外線固化型的阻焊膜時，通過與熱固化型同樣的手段，印刷紫外線固化型組合物并使所得到的阻焊膜的厚度比目標(biāo)厚度薄，形成第一層的涂膜。然后，通過紫外線的照射而使其固化。接著通過同樣的方法重復(fù)紫外線固化型組合物的印刷和固化，形成第二層以后的涂膜，得到具有目標(biāo)膜厚的層疊體(阻焊膜)。此外，紫外線固化型的阻焊膜通過使紫外線、及根據(jù)情況而采用的短波長側(cè)的可見光到達(dá)涂膜的內(nèi)部而固化，但由于氧化鈦會吸收紫外線，所以難以在組合物中大量配合氧化鈦，但通過采用本發(fā)明的制造方法，由于形成較薄膜厚，所以紫外線照射時紫外線容易到達(dá)涂膜的內(nèi)部，能夠增加組合物中的氧化鈦，還能夠得到更高的反射率。因此，本發(fā)明的白色固化性組合物為紫外線固化型組合物的情況下，能夠比通常高地設(shè)定氧化鈦的含有率，例如即使在超過80質(zhì)量％的情況下，雖然看不到反射率的大的上升，但與通過以往的制造方法而獲得的膜相比，能夠?qū)崿F(xiàn)較高的反射率。形成顯影型的阻焊膜時，在印刷電路板上，并不是比所需部分大地印刷圖案，而是整面地涂布、印刷顯影型固化性組合物。涂布方法沒有特別限定，可以采用絲網(wǎng)印刷法、噴涂法、簾涂法、輥涂法等公知的方法。形成顯影型的阻焊膜時，通過所述涂布方法在印刷電路板上涂布顯影型固化性組合物后，為了使溶劑揮發(fā)，而將其在70 90°C左右的溫度下干燥5 60分鐘左右，從而形成涂膜。然后，使用所需圖案的負(fù)型的光掩模對其進(jìn)行曝光。此時，光源可以使用高壓汞燈、 金屬鹵化物燈等。此外，還有不使用光掩模而以激光線等直接進(jìn)行描繪的方法。接著，對曝光后的涂膜以適于阻焊膜的顯影液進(jìn)行顯影。如果是堿顯影型，則作為顯影液，可以使用碳酸鈉、碳酸鉀、氫氧化鈉、各種胺等的水溶液。此外，如果是溶劑顯影型，則作為顯影液，可以使用酯系溶劑、氯系溶劑等。最后通過在140 180°C左右的溫度下加熱30 90分鐘對顯影后的涂膜進(jìn)行固化。本發(fā)明中，在形成含有氧化鈦的顯影型的阻焊膜時，通過調(diào)整顯影型固化性組合物的涂布條件從而以比目標(biāo)厚度薄的膜厚進(jìn)行涂布、干燥(固化)、曝光、顯影及利用加熱的固化中的任意工序之后進(jìn)行顯影型固化性組合物的涂布。進(jìn)而，進(jìn)一步對其進(jìn)行干燥 (固化)、曝光、顯影、利用加熱的固化中的任意工序后，對其重復(fù)進(jìn)行顯影型固化性組合物的涂布。在干燥(固化)工序后開始的重復(fù)中，由于只要是能耐受涂布的狀態(tài)之前的干燥則沒有問題，所以也可以縮短干燥時間。但是，在最終層的涂布之后必須使其充分干燥。然后，對其進(jìn)行最終的曝光及顯影，利用加熱進(jìn)行固化。此外，在使包括最初涂布的層在內(nèi)的、 并非最外層的層固化后，進(jìn)一步重復(fù)進(jìn)行印刷并使其干燥時，由于并非最外層的層已經(jīng)固化，所以能夠以比較低的溫度、短時間進(jìn)行。但是，在最外層的涂布后必須使其充分干燥、并固化。本發(fā)明中，也可以使用不同種類(熱固化型、紫外線固化型、顯影型)的組合物來制造阻焊膜。但是，在通過顯影型組合物而形成的涂膜上使用熱固化型、紫外線固化型組合物來層疊涂膜時，期望在顯影型固化性組合物的涂膜的顯影后、或者利用加熱的固化后進(jìn)行。如果在顯影型固化性組合物的涂膜的干燥后及曝光后之類的顯影工序的前階段，對其涂布熱固化型、紫外線固化型組合物并進(jìn)行干燥，則在對熱固化型、紫外線固化型組合物的涂膜進(jìn)行干燥時所受到的熱會導(dǎo)致顯影型固化性組合物的涂膜進(jìn)行固化，可能在顯影工序中無法剝離顯影型組合物的涂膜的未曝光部的圖案。另外，本說明書中“涂膜”是指所有將本發(fā)明的含有氧化鈦的白色固化性組合物涂布到基材或涂膜上并干燥后的膜、對其進(jìn)行曝光后的膜、顯影后的膜、通過光或熱使其固化后的膜。
實施例以下，示出實施例及比較例，對本發(fā)明進(jìn)行具體說明，當(dāng)然本發(fā)明并不限定于此。
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顯影型固化件組合物作為顯影型固化性組合物(以下，稱為“顯影型SR”)，使用含有氧化鈦、丙烯酸酯樹脂、環(huán)氧樹脂、光聚合引發(fā)劑及溶劑、且氧化鈦含有率為30質(zhì)量％、溶劑含有率為23質(zhì)量％的太陽油墨制造(株)制造的顯影型固化性組合物P SR-4000 LEffl0熱固化型組合物作為熱固化型組合物(以下，稱為“熱固化型SR”)，使用通過配合100質(zhì)量份Sartomer Company Inc.制苯乙烯-馬來酸酐共聚物(制品名SMA-1000P)的固體成分50質(zhì)量％的卡必醇乙酸酯清漆、280質(zhì)量份石原產(chǎn)業(yè)公司制氧化鈦(制品名TIPAQUE CR-90)、2質(zhì)量份信越有機(jī)硅公司制消泡劑(制品名KS-66)、20質(zhì)量份Nippon Aerosil Co. , Ltd.制硅石(制品名AER0SIL #200)、2質(zhì)量份BI-Chemie GmbH制分散劑(制品名 DISPERBYK-145)、120 質(zhì)量份 Daicel Chemical Industries, Ltd.制脂環(huán)式環(huán)氧樹脂(制品名EHPE-3150)的固體成分70質(zhì)量％的卡必醇乙酸酯清漆并攪拌，通過3輥輥磨機(jī)分散而獲得的熱固化型SR。實施例1 4實施例1使用熱固化型SR，在IOOmmX 150mm大小、1.6mm厚的印刷電路板用FR-4覆銅層疊板上，利用絲網(wǎng)印刷法進(jìn)行滿版印刷，使得膜厚達(dá)到5 μ m，使其在熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐中在 80°C下熱固化10分鐘，從而形成涂膜。然后，再重復(fù)進(jìn)行2次所述的熱固化型SR的印刷、 熱固化的操作，從而得到由熱固化型SR形成的具有3層結(jié)構(gòu)的總膜厚15 μ m的層疊體。將該層疊體在熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐中在150°C下進(jìn)行60分鐘熱固化，制作出實施例 1的試驗片。實施例2除了使用顯影型SR來代替熱固化型SR以外，通過與實施例1同樣的方法，得到由顯影型SR形成的具有3層結(jié)構(gòu)的總膜厚15 μ m的層疊體。利用ORC MANUFACTURING CO.，LTD.制HMW-680GW的曝光機(jī)，使用用于曝光整個印刷區(qū)域的滿版圖案，以500mJ/cm2的累計光量對該層疊體進(jìn)行紫外線曝光。然后，將其在 30°C下以的碳酸鈉水溶液作為顯影液進(jìn)行60秒鐘顯影。接著將其在熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐中在150°C下進(jìn)行60分鐘熱固化，制作出實施例2的試驗片。實施例3使用顯影型SR，在100mmX150mm大小、1.6mm厚的印刷電路板用FR-4覆銅層疊板上，利用絲網(wǎng)印刷法進(jìn)行滿版印刷，使得膜厚達(dá)到5 μ m,使其在熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐中在 80°C下干燥10分鐘而形成涂膜，將該涂膜在與實施例2同樣的條件下進(jìn)行曝光、顯影。然后，在該涂膜上在與上述同樣的條件下重復(fù)進(jìn)行2次熱固化型SR的印刷及干燥，得到具有3 層結(jié)構(gòu)的總膜厚15 μ m的層疊體。使其在與實施例1同樣的條件下熱固化，從而制作出實施例3的試驗片。實施例4使用顯影型SR，在100mmX150mm大小、1.6mm厚的印刷電路板用FR-4覆銅層疊板上，利用絲網(wǎng)印刷法進(jìn)行滿版印刷，使得膜厚達(dá)到5 μ m,使其在熱風(fēng)循環(huán)式干燥爐中在 80°C下干燥10分鐘而形成涂膜。然后，在與上述同樣的條件下進(jìn)行顯影型SR的印刷、干燥的操作。然后，將其在與實施例2同樣的條件下進(jìn)行曝光、顯影，從而得到由顯影型SR形成的2層的層疊體。在該層疊體上在與上述同樣的條件下印刷熱固化型SR并進(jìn)行干燥，從而得到具有3層結(jié)構(gòu)的總膜厚15 μ m的層疊體。使其在與實施例1同樣的條件下熱固化，從而制作出實施例4的試驗片。實施例5除了將實施例1中的熱固化型SR的印刷、熱固化工序的重復(fù)次數(shù)由3次變更為5 次而得到具有5層結(jié)構(gòu)的總膜厚25μπι的層疊體以外，通過與實施例1同樣的方法制作出實施例5的試驗片。比較例1 4作為比較例1 4，使用上述顯影型SR或熱固化型SR，制作出具有目標(biāo)膜厚的單層的阻焊膜。關(guān)于基板、絲網(wǎng)印刷，是與實施例1 4同樣的方法，但按照以1次印刷使膜厚達(dá)到15 μ m或25 μ m的方式調(diào)整印刷條件。比較例1、2使用熱固化型SR,通過印刷、干燥制作膜厚15 μ m及25 μ m的單層的涂膜，使其在與實施例1同樣的條件下進(jìn)行熱固化，分別制作出比較例1及比較例2的試驗片。比較例3、4使用顯影型SR，通過印刷、干燥制作膜厚15 μ m及25 μ m的單層的涂膜，使其在與實施例2同樣的條件下固化，分別制作出比較例3及比較例4的試驗片。反射率的測定使用分光測色計CM1600d(Konica Minolta Sensing, Inc.制)，以 SCI 方式對所述得到的各試驗片測定CTZ色度體系的反射率Y值。其結(jié)果示于表1中。表權(quán)利要求
1.一種白色涂膜層，其特征在于，其是由使用含有氧化鈦的白色固化性組合物而形成的涂膜構(gòu)成的白色涂膜層，該白色涂膜層通過層疊2層以上所述涂膜而成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色涂膜層，其特征在于，白色涂膜層的總膜厚為60μπι以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的白色涂膜層，其特征在于，形成各涂膜的所述白色固化性組合物相同或不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項所述的白色涂膜層，其特征在于，所述白色涂膜層為阻焊膜。
5.一種印刷電路板，其特征在于，其具有權(quán)利要求4所述的阻焊膜。
6.一種白色涂膜層的形成方法，其特征在于，其是使用了含有氧化鈦的白色固化性組合物的白色涂膜層的形成方法，該方法中，使用所述白色固化性組合物在基材上形成涂膜， 并在該涂膜上使用所述含有氧化鈦的白色固化性組合物而形成2層以上的涂膜。
全文摘要
本發(fā)明提供白色涂膜層及其形成方法、以及印刷電路板，具體來說提供可以適合作為搭載有LED等發(fā)光部件的印刷電路板的阻焊膜等使用的、高反射率的白色涂膜層、其形成方法及使用其的印刷電路板。一種白色涂膜層，其特征在于，其是由使用含有氧化鈦的白色固化性組合物而形成的涂膜構(gòu)成的白色涂膜層，該白色涂膜層通過層疊2層以上所述涂膜而成。
文檔編號B32B9/00GK102233696SQ2011100841
公開日2011年11月9日 申請日期2011年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月31日
發(fā)明者宇敷滋, 島宮步, 日馬征智 申請人:太陽控股株式會社