具有凸起顆粒效果的瓷磚及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種具有凸起顆粒效果的瓷磚及其制備方法，所述方法包括：在坯體上施加具有規(guī)定配方的面釉，所述面釉開始燒成的溫度為1120℃以上，按重量計，所述面釉中SiO2的含量為57%以上，Al2O3的含量為22%以上；以及通過直線淋釉器將干粒釉漿施于已施好面釉的坯體上，所述干粒釉漿的比重為1.27～1.38g/mL。
【專利說明】具有凸起顆粒效果的瓷磚及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及瓷磚生產制造【技術領域】，尤其涉及一種采用直線淋釉器淋干粒的方式來產生凸起效果的瓷磚的制備技術。
【背景技術】
[0002]瓷磚的表面的立體效果及耐磨防滑性能越來越引起了社會的廣泛關注，制備具有凸起顆粒效果的瓷磚是目前瓷磚制備的熱點之一。
[0003]目前制備具有凸起顆粒效果的瓷磚通常有三種方法:1)使用凹凸模具；2)在磚坯表面甩點或打點；以及3)在磚坯表面施加干粒。對于方法I)，在生產平面產品和凹凸產品轉換時，需要更換生產 線上模具，影響生產進度，而且該方法需要配備多種凹凸模具，成本高。對于方法2)，通過普通甩點或者絲網印花產生的點往往效果不佳。對于方法3)，目前常用通過干粒撒施法再配以固定液完成，這種方法形成的干粒圖案色彩單一，立體效果差，且布料不均，易產生表面缺陷。
[0004]此外，本發(fā)明人也注意到將干粒施加在磚坯表面后進行燒成，高溫燒成中往往會出現(xiàn)面釉熔融、塌陷等導致干粒熔入面釉中最終干粒凸起效果不佳。

【發(fā)明內容】

[0005]面對現(xiàn)有技術存在的問題，本發(fā)明人通過采用直線淋釉器淋干粒，并且選用具有規(guī)定配方的面釉，以使干粒燒成后不會被熔平而仍保持較好的凸起效果。
[0006]本發(fā)明提供一種通過淋干粒制備具有凸起顆粒效果的瓷磚的方法，所述方法包括:在坯體上施加具有規(guī)定配方的面釉，所述面釉開始燒成的溫度為1120°C以上，按重量計，所述面釉中SiO2的含量為57%以上，Al2O3的含量為22%以上；以及通過直線淋釉器將干粒釉漿施于已施好面釉的坯體上，所述干粒釉漿的比重為1.27~1.38g/mL。
[0007]本發(fā)明中，采用具有規(guī)定配方的面釉(SiO2的含量為57%以上，Al2O3的含量為22%以上)，其具有較高的燒成溫度(開始燒成的溫度為1120°C以上)，在后續(xù)燒成中不會出現(xiàn)面釉熔融、塌陷等情況，從而保證干粒燒成后不會被熔平；而且規(guī)定配方的面釉適合噴墨墨水發(fā)色，制得瓷磚色彩和圖案豐富。此外，通過直線淋釉器將比重為1.27~1.38g/mL的干粒釉漿施于已施好面釉的坯體上，可在產品表面形成薄薄的一層均勻干粒，經過高溫燒成后干粒自動聚積均勻的半球狀透明顆粒，相對于普通甩點或者絲網印花產生的點，具有更好的均勻性和更大的潤濕角度。
[0008]較佳地，面釉中堿土金屬氧化物和/或堿金屬氧化的含量為7.8wt%以下。采用該配方的面釉的燒成溫度高，且適合噴墨墨水發(fā)色。
[0009]作為優(yōu)選的示例，面釉可包括57~62%Si02、22~25wt%Al203、0.1~0.5% CaO,
0.2 ~0.4% MgO,3.5 ~4.2% K2O 和 2.3 ~2.7wt% Na2O0
[0010]較佳地，干粒釉漿可包括30~35wt%干粒，干粒的粒度可為60~200目，優(yōu)選150~200目。干粒細度太粗則會容易在漿料沉淀使淋釉不均，細度太細則燒成后聚集成的顆粒感不強。用這種細度和配比的干粒經過高溫燒成后能在產品表面形成分布均勻、大小一致的凸起顆粒，在燈光下看顯現(xiàn)出柔和的珍珠般光澤，顆粒的形狀接近半球型，潤濕角度可達70度，用手觸摸非常自然舒適。
[0011]本發(fā)明中，干粒可以高溫熔塊為原料，所述高溫熔塊由以下重量配比的組分組成:50 ~55% SiO2,20 ~24% Α1203、0.2 ~0.5 % Fe203、0.5 ~1.2% CaO,0.4 ~0.7 % MgO,
2.0~2.8% K20,2.9~3.8% Na2O0本發(fā)明可以高溫熔塊為原料，經過破碎和過篩即可制得可用的干粒，來源豐富，制備簡單。
[0012]較佳地，干粒釉漿的分散懸浮載體可為流速為24~30秒的印油。使用了流速為24~30秒的印油作為分散懸浮載體，再按上述的比例配成干粒釉漿后，釉漿的流動性好并且粘度大，干粒粒子不容易沉淀，具備可淋釉的性能，適合采用直線淋釉器來施干粒。如果印油的流速太小則懸浮效果不足，干粒就容易沉淀，導致施于磚面的粒子隨著時間的推移越來越少，最終影響磚面顆粒效果；而印油的流速太大則會使干粒粒子產生團聚而難于分散，燒成后顆粒成團熔融、顆粒感差，光澤不均衡。
[0013]較佳地，干粒釉漿可包括2~5%固定劑。加入一定比例的固定劑能增強干粒與面釉之間的粘結，在燒成的過程中不易被窯爐抽風抽走。
[0014]較佳地，干粒釉漿的流速為30~40秒。 [0015]本發(fā)明的方法還可包括:將已施好干粒釉漿的坯體進行燒成，燒成程序為:最高燒成溫度為1135~1145°C，燒成周期為68~75分鐘。
[0016]本發(fā)明還提供一種上述方法制備的具有凸起顆粒效果的瓷磚，其中所述瓷磚的凸起顆粒的潤濕角為65度以上。本發(fā)明的提供的瓷磚，具有明顯的凸起顆粒效果，具有仿立體石材的效果，且具有耐磨防滑的性能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1示出通過普通打點形成的具有凸起顆粒的表面的60倍放大圖；
圖2示出本發(fā)明通過淋干粒制備具有凸起顆粒效果的表面的60倍放大圖。
【具體實施方式】
[0018]參照附圖和下述實施方式進一步說明本發(fā)明，應理解，附圖和下述實施方式僅用于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。
[0019]本發(fā)明提供一種通過淋干粒制備具有凸起顆粒效果的瓷磚的方法。對此，本發(fā)明人設計一種適合噴墨墨水發(fā)色且燒成溫度比較高的面釉，以確保讓干粒燒成后不會熔平；而且本發(fā)明人通過調整的干粒的顆粒級和干粒釉漿的粘度，以能夠采用直線淋釉器來施干粒，并且燒成后干粒能在面釉上自動聚集成很均勻的半球狀顆粒。
[0020]面釉的配方
由于干粒粒子燒成后為透明狀顆粒，為了確保干粒在面釉上不會被熔平，需要采用具有合適的配方和燒成溫度(開始燒結的溫度為1120°C以上)的面釉，同時面釉的選擇還要兼顧噴墨墨水的發(fā)色情況?；谶@些方面的問題，本發(fā)明人在面釉配方結構的調整中主要增加了硅(Si)、鋁(Al)的含量，即、按重量計，所述面釉中SiO2的含量為57%以上，Al2O3的含量為22%以上；而減少了堿金屬和堿土金屬，例如鈣(Ca)、鎂(Mg)、鈉(Na)等元素的含量，即、所述面釉中堿土金屬氧化物和/或堿金屬氧化的含量為7.Swt %以下。作為優(yōu)選的示例，面釉配方的主要成分配比如可為57~62% SiO2,22~25wt% Α1203、0.I~0.5%CaO,0.2~0.4% MgO,3.5~4.2% K2O和2.3~2.7wt% Na2O0采用該配方體系的面釉燒成溫度高，高溫粘度大，可以讓粒子燒成后在表面最大程度的產生立體堆積。
[0021]干粒粒子的選擇
本發(fā)明的產品表面顯現(xiàn)均勻的半球狀透明顆粒，因此干粒粒子的配方不但要求燒成后透明度要好，而且高溫粘度也要大。我們選擇了高溫熔塊作為干粒原料，將熔塊破碎過篩，分選出60~100目、100~150目、150~200目三種顆粒級配的粒子來進行不同比例的對比試驗，最終確定了干粒細度為150~200目、在漿料中的比例為30%~35%時的磚面效果是最佳方案，干粒細度太粗則會容易在漿料沉淀使淋釉不均，細度太細則燒成后聚集成的顆粒感不強。高溫熔塊的配方的主要成分的配比可為50~55% SiO2,20~24% A1203、
0.2 ~0.5% Fe203、0.5 ~1.2% CaO,0.4 ~0.7% MgO,2.0 ~2.8% K20,2.9 ~3.8% Na2O0應理解，本發(fā)明可采用上述高溫熔塊制備的干粒，也可附加地采用有色干粒來豐富瓷磚的色彩和圖案。有色干?？捎缮鲜龈邷厝蹓K制備的干粒適當添加著色劑制成，著色劑包括但不限于氧化銅、氧化鈰。用這種細度和配比的干粒經過高溫燒成后能在產品表面形成分布均勻、大小一致的凸起顆粒，在燈光下看顯現(xiàn)出柔和的珍珠般光澤，顆粒的形狀接近半球型，潤濕角度可達70度，用手觸摸非常自然舒適。參見圖1及圖2，其分別示出普通打點產生的表面60倍放大圖與干粒淋釉產生的表面60倍放大圖，由圖可見，干粒淋釉產生的顆粒不但輪廓規(guī)則清晰，潤濕角度也要比普通打點釉顆粒的要大很多，垂直凸起得更高。
[0022]干粒釉漿的配方
由于干粒粒子是細 小的固體顆粒，如何保證直線淋釉器穩(wěn)定地淋釉是該技術在生產運用過程中的關鍵工序，其中干粒的分散懸浮載體的研究則是該發(fā)明中的難點，需要綜合解決干粒的懸浮性、干粒與磚面的粘結性以及釉漿的流動性三方面的性能。經反復試驗，干粒的分散懸浮載體選用流動性好、粘度適中的特殊印油為主，再配入少量的固定劑來起固定干粒的作用，載體流速控制在28~35秒之間，干粒釉漿中干粒的比例優(yōu)選為30%~35%，配成干粒釉漿后比重約1.27~1.38，優(yōu)選1.30~1.36，流速為30~40秒，優(yōu)選30~38秒。本發(fā)明采用流速為24~30秒的印油。如果印油的流速太小則懸浮效果不足，干粒就容易沉淀，導致施于磚面的粒子隨著時間的推移越來越少，最終影響磚面顆粒效果；而印油的流速太大則會使干粒粒子產生團聚而難于分散，燒成后顆粒成團熔融、顆粒感差，光澤不均衡。加入一定比例(2~5%)的固定劑能增強干粒與面釉之間的粘結，在燒成的過程中不易被窯爐抽風抽走。固定劑可采用釉用膠水等。此外，在生產過程中還要嚴格控制漿料流速的穩(wěn)定，加強對釉漿的攪拌，優(yōu)選地，可選用攪拌效果較好的釉缸以防止干粒沉淀，確保淋釉工序的穩(wěn)定和保證產品的表面顆粒效果。
[0023]制備工藝
坯體的制備:本發(fā)明可選用常規(guī)的瓷磚坯體，坯體的成型也可采用常用的壓制成型。所用坯體的燒結收縮率可為8.8~9.2，坯體的燒成溫度可為1135~1145°C ；
在坯體上施加上述配方的面釉，面釉的厚度可為0.1~0.2mm，面釉開始燒結的溫度為1120°C 以上；
通過直線淋釉器將上述配方的干粒釉漿施加在施好面釉的坯體上，干粒釉漿比重為1.27~1.38，流速控制在30~40秒之間；
燒成:將施有干粒釉漿的坯體按下述燒成程序進行燒成就可獲得具有凸起顆粒效果的瓷磚。
燒成程序可為:最高燒成溫度為1135~1145°C，燒成周期為68~75分鐘。
[0024]本發(fā)明相對現(xiàn)有技術具有如下優(yōu)點:
1)面釉配方適合噴墨墨水發(fā)色，色彩豐富；
2)面釉燒成溫度高，干粒燒成后不會熔平，燒成后在面釉上自動聚集成很均勻的半球狀顆粒，凸起效果明顯；
3)使用了具有特定流速的印油與固定劑作為分散懸浮載體，按一定的比例配成干粒釉漿后，釉漿的流動性好并且粘度大，干粒粒子不容易沉淀，從而采用直線淋釉器來施干粒；
4)采用直線淋釉器來施干粒一方面可在產品表面形成薄薄的一層均勻干粒，另一方面可以形成豐富的圖案，且干粒凸起效果明顯。
[0025]以下進一步列舉出一些示例性的實施例以更好地說明本發(fā)明。應理解，本發(fā)明詳述的上述實施方式，及以下實施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍，本領域的技術人員根據本發(fā)明的上述內容作出的一些非本質的改進和調整均屬于本發(fā)明的保護范圍。另外，下述工藝參數(shù)中的具體配比、時間等也僅是示例性，本領域技術人員可以在上述限定的范圍內選擇合適的值。
[0026]實施例1
1)在坯體上施加面釉，面釉的厚度可為0.1~0.2mm，所施面釉的主要組成如表1所
述:
表 I
【權利要求】
1.一種通過淋干粒制備具有凸起顆粒效果的瓷磚的方法，其特征在于，所述方法包括: 在坯體上施加具有規(guī)定配方的面釉，所述面釉開始燒成的溫度為1120°c以上，按重量計，所述面釉中SiO2的含量為57%以上，Al2O3的含量為22%以上；以及 通過直線淋釉器將干粒釉漿施于已施好面釉的坯體上，所述干粒釉漿的比重為1.27 ~1.38g/mL。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，按重量計，所述面釉中堿土金屬氧化物和/或堿金屬氧化的含量為7.8wt%以下。
3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，按重量計，所述面釉主要組成包括57 ~62%Si02、22 ~25% Α1203、0.I ~0.5% CaO,0.2 ~0.4% MgO,3.5 ~4.2% K2O 和 2.3 ~2.7% Na20。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，所述干粒釉漿包括30~35wt%干粒，所述干粒的粒度為60~200目，優(yōu)選150~200目。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其特征在于，所述干粒以高溫熔塊為原料，所述高溫熔塊由以下重量配比的組分組成:50~55%Si02、20~24%A1203、0.2~0.5%Fe203、0.5 ~1.2% CaO,0.4 ~0.7% MgO,2.0 ~2.8% K20,2.9 ~3.8% Na2O0
6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其特征在于，所述干粒釉漿的分散懸浮載體為流速為24~30秒的印油。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的方法，其特征在于，所述干粒釉漿包括2~5%的固定劑。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的方法，其特征在于，所述干粒釉漿的流速為30~40秒ο
9.根據權利要求1至8中任一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包括:將已施好干粒釉漿的坯體進行燒成，燒成程序為:最高燒成溫度為1135~1145°C，燒成周期為68~75分鐘。
10.一種權利要求1至9中任一項所述的方法制備的具有凸起顆粒效果的瓷磚，其特征在于，所述瓷磚的凸起顆粒的潤濕角為65度以上。
【文檔編號】C04B41/89GK104016728SQ201410243309
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年6月3日 優(yōu)先權日:2014年6月3日
【發(fā)明者】謝志軍, 李惠文, 李國平, 梁超成, 朱敬賢 申請人:廣東蒙娜麗莎新型材料集團有限公司