專利名稱：一種消影高透過率ogs用玻璃及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及觸摸屏行業(yè)，主要應(yīng)用在電容屏方面，主要是指一種消影高透過率OGS(One glass solution)用玻璃及其制造方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有OGS用玻璃的一種結(jié)構(gòu)為:Glass/BM/IT0(氧化銦錫)，其中BM為絕緣邊框，ITO是導(dǎo)電層，這種結(jié)構(gòu)在蝕刻成圖案以后，ITO電極線看的非常明顯，影響觸摸屏的外觀。另一種OGS用ITO導(dǎo)電玻璃的結(jié)構(gòu)為:Glass/BM//Nb2o5/Si02/IT0，其中BM為絕緣邊框，ITO是導(dǎo)電層，作為觸摸屏的電極及傳感層，Nb2o5/Si02層為消影層，其主要功能是消除ITO蝕刻后的痕跡，有ITO和沒有ITO的地方膜層反射率在0.5%以內(nèi)，這樣在人的視覺來(lái)看，在顯示屏上不容易看見ITO線條。但是以上兩種玻璃在做成觸摸屏后，第一種的ITO線條能夠很清晰的看到，第二種雖然ITO線條經(jīng)過消影層已經(jīng)淡化，但是兩種產(chǎn)品在太陽(yáng)強(qiáng)光下，由于整個(gè)膜層的透過率比較低，只有88%左右，如果電阻值更低的話，透過率還會(huì)更低，導(dǎo)致反射率高，因此在強(qiáng)光下很難看清楚屏幕上的圖案。傳統(tǒng)觸摸屏是由兩片玻璃對(duì)貼組成(一片玻璃做為觸摸傳感器，一片玻璃做為保護(hù)玻璃，稱為G/G結(jié)構(gòu))，這樣增加了觸摸屏的厚度和重量；

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決上述問題提供一種減輕了重量，提高了透光率，消除了 ITO導(dǎo)電線條底影的觸摸屏及制作方法。為解決上述問題，本發(fā)明通過以下方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種消影高透過率OGS用玻璃，該OGS用玻璃為單片玻璃結(jié)構(gòu)，同時(shí)起到保護(hù)玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，其包括基板、絕緣邊框、功能層、ITO導(dǎo)電膜，該絕緣邊框、功能層、ITO導(dǎo)電膜都通過鍍膜技術(shù)鍍?cè)诨迳?，功能層是由五氧化二鈮膜和二氧化硅膜兩種膜組成，功能層都是通過先鍍一層五氧化二鈮膜，后鍍一層二氧化娃膜。優(yōu)選地，所述基板的前表面鍍有絕緣邊框，所述絕緣邊框上鍍有五氧化二鈮膜，五氧化二銀膜鍍有二氧化娃膜，該二氧化娃膜鍍有ITO導(dǎo)電膜,該基板的后表面鍍有五氧化二鈮膜，五氧化二鈮膜鍍有二氧化硅膜。優(yōu)選地，所述基板的前表面鍍有五氧化二鈮膜，五氧化二鈮膜鍍有二氧化硅膜，二氧化硅膜鍍有絕緣邊框，該絕緣邊框鍍有ITO導(dǎo)電膜，該基板的后表面鍍有五氧化二鈮膜，五氧化二鈮膜鍍有二氧化硅膜。優(yōu)選地，所述基板的前表面鍍有五氧化二鈮膜，五氧化二鈮膜鍍有二氧化硅膜，二氧化硅膜鍍有ITO導(dǎo)電膜，該ITO導(dǎo)電膜鍍有絕緣邊框，該該基板I的后表面鍍有五氧化二
鈮膜，五氧化二鈮膜鍍有二氧化硅膜。優(yōu)選地，所述基板的前表面鍍有的功能層為消影功能層，后表面鍍有的功能層為增透減反功能層。一種消影高透過率OGS用玻璃制造方法，該方法工藝分為三種工藝制作流程，第一種工藝制作流程，絕緣邊框鍍?cè)诨迩氨砻娴那氨砻娴墓δ軐雍虸TO膜層之前，為第一道工序；則前表面的鍍膜制程全部采用低溫鍍膜；第二種工藝制作流程，絕緣邊框鍍?cè)诨迩氨砻娴墓δ軐雍虸TO膜之間，則功能層采用高溫方式或者低溫方式生產(chǎn)均可，ITO膜層需要采用低溫鍍膜；第三種工藝制作流程，絕緣邊框鍍?cè)诨迩氨砻媲氨砻娴墓δ軐雍虸TO膜層之后，則鍍膜制程完全可采取高溫鍍膜來(lái)完成。優(yōu)選地，所述第一種工藝的具體流程如下:a、玻璃基板清洗；b、制作絕緣邊框絕緣邊框圖案，絕緣邊框邊框在基板前表面；C、帶有絕緣邊框的基板進(jìn)行鍍膜前清洗；d、將清洗干凈的基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)基板的后表面進(jìn)行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；e、玻璃的后表面鍍完膜后,對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜,依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導(dǎo)電膜3 ;f、在鍍膜機(jī)中將玻璃取出，進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。此種方案ITO采用低溫鍍膜。優(yōu)選地，所述第二種工藝的具體流程如下:a、玻璃基板清洗；將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜，再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；b、玻璃的后表面鍍完膜后,對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜,依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；C、然后從鍍膜機(jī)中取出，再次清洗；d、在基板前表面制作絕緣邊框；e、制作完絕緣邊框，再次進(jìn)入鍍膜前清洗，鍍最后一層ITO導(dǎo)電膜；f、在鍍膜機(jī)中將玻璃取出，進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。此第二種工藝ITO采用低溫鍍膜。優(yōu)選地，所述第三種工藝的具體流程如下:a、玻璃基板清洗；b、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行功能層鍍膜加工，先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；C、玻璃的后表面鍍完膜后,對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜,依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導(dǎo)電膜；
d、然后從鍍膜機(jī)中取出，再次清洗；e、在基板前表面制作絕緣邊框；f、進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。優(yōu)選地，所述的方法工藝是在玻璃前表面或者后表面再增加功能層，就可以在保證和提高現(xiàn)有功能的前提下，使得ITO膜層的電阻值范圍可達(dá)到15-300歐姆。玻璃前表面的Nb2O5層和SiO2層的功能是達(dá)到消影的效果，即保證ITO線條刻蝕后沒有明顯的影子，有ITO膜的地方和蝕刻掉ITO膜的地方低色接近，外觀視覺效果好，玻璃后表面的Nb2O5層和SiO2層的功能是進(jìn)行增透減反射的作用，提高整個(gè)觸摸屏的透光率，減少反射率，這樣使得觸摸屏在太陽(yáng)光下也可以清晰的顯示。傳統(tǒng)技術(shù)通過前表面的功能層可以達(dá)到消除底影的效果，透光率一般在88% (所有的透過率均指除了 BM絕緣邊框的顯示區(qū)域膜層的透過率)，如果ITO電阻值較低的話，還會(huì)使透光率進(jìn)一步降低，因此其整個(gè)表面的反射率高，使得在強(qiáng)光下圖案不清晰，本發(fā)明的技術(shù)在玻璃背面再增加功能層，達(dá)到一個(gè)增透減反的作用，使得玻璃整個(gè)表面的透光率可增加到93%以上，如果在玻璃的前表面采用4層功能層，則整體的消影效果將比2層功能層的消影效果更加容易控制，可以在較寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)達(dá)到很好的消影效果，若同時(shí)在后表面也采用4層功能層，則會(huì)使得采用該玻璃制備成的OGS觸摸屏透光率更高，在強(qiáng)光下使用，即可以消除底影，又可以很清晰的看到屏幕圖案。傳統(tǒng)技術(shù)僅單面采用2層功能層來(lái)達(dá)到消影效果的膜系結(jié)構(gòu)，其表面的ITO電阻一般會(huì)比較高，如果降低電阻值，則會(huì)使整體透光率更低，而且很難達(dá)到滿意的消影效果，因此這種傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的電阻值一般在60歐姆以上，不太適合對(duì)線性電阻要求更高的觸摸屏，這類觸摸屏需要更低電阻值。在玻璃前表面或者后表面再增加功能層，就可以在保證和提高現(xiàn)有功能的前提下，使得ITO膜層的電阻值向更低趨勢(shì)發(fā)展，可低至15歐姆，這樣可以獲得電學(xué)性能和光學(xué)性能更加優(yōu)良的觸摸屏。本發(fā)明適用于OGS類的觸摸屏設(shè)計(jì)，其在設(shè)計(jì)與制造成本上與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠更好的達(dá)到消影效果，使其消影效果更加容易控制；在玻璃的后表面再增加功能層，可提高產(chǎn)品的透光率，拓寬產(chǎn)品的阻值范圍(15-300歐姆)，在強(qiáng)光下改善了產(chǎn)品的顯示效果；OGS (One glass solution)結(jié)構(gòu),是在保護(hù)玻璃上直接形成ITO導(dǎo)電膜及傳感器的技術(shù)，一塊玻璃同時(shí)起到保護(hù)玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，從技術(shù)層面來(lái)看，OGS技術(shù)較之目前主流的G/G觸控技術(shù)具備以下優(yōu)勢(shì):(I)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，輕、薄、透光性好；(2)節(jié)省了一層玻璃成本和減少了一次貼合成本；(3)減輕了重量；(4)增加了透光度；0GS能夠較好的滿足智能終端超薄化需求，并提升顯示效果，由于省掉一片玻璃基板以及貼合工序，利于降低生產(chǎn)成本、提高產(chǎn)品良率。


圖1為本發(fā)明第一種工藝中的實(shí)施例一側(cè)視圖；圖2為本發(fā)明第一種工藝中的實(shí)施例二側(cè)視圖；圖3為本發(fā)明第一種工藝中的實(shí)施例三側(cè)視圖；圖4為本發(fā)明第一種工藝中的實(shí)施例四側(cè)視圖5為本發(fā)明第二種工藝中的實(shí)施例一側(cè)視圖；圖6為本發(fā)明第二種工藝中的實(shí)施例二側(cè)視圖；圖7為本發(fā)明第二種工藝中的實(shí)施例三側(cè)視圖；圖8為本發(fā)明第二種工藝中的實(shí)施例四側(cè)視圖；圖9為本發(fā)明第三種工藝中的實(shí)施例一側(cè)視圖；圖10為本發(fā)明第三種工藝中的實(shí)施例二側(cè)視圖；圖11為本發(fā)明第三種工藝中的實(shí)施例三側(cè)視圖；圖12為本發(fā)明第三種工藝中的實(shí)施例四側(cè)視圖；圖13為本發(fā)明ITO蝕刻線條效果圖；圖14為本發(fā)明絕緣邊框示意圖。
具體實(shí)施例方式一種消影高透過率OGS用玻璃，該OGS用玻璃為單片玻璃結(jié)構(gòu)，同時(shí)起到保護(hù)玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，其包括基板1、絕緣邊框2、功能層、ITO導(dǎo)電膜3，該絕緣邊框2、功能層、ITO導(dǎo)電膜3都通過鍍膜技術(shù)鍍?cè)诨錓上，功能層是由五氧化二鈮膜4和二氧化硅膜5兩種膜組成，功能層都是通過先鍍一層五氧化二鈮膜4，后鍍一層二氧化硅膜5。如圖1至圖4所示，本發(fā)明第一種工藝中的四種實(shí)施例側(cè)視圖，其工藝制作流程，1、玻璃基板清洗；2、制作BM絕緣邊框圖案，BM邊框在玻璃前表面；3、帶有BM的玻璃基板進(jìn)行鍍膜前清洗；4、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行鍍膜加工，如果功能層選擇兩層，則依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜即可，如果功能層選擇4層,則依次鍍先一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；5、玻璃的后表面鍍完膜后，對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜，同后表面功能層一樣，如果選擇兩層功能膜，則在BM上依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜即可，如果功能層選擇四層，則在BM上依次先鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導(dǎo)電膜；6、在鍍膜機(jī)中將玻璃取出，進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。此種方案ITO采用低溫鍍膜。如圖5至圖8所示，本發(fā)明第二種工藝中的四種實(shí)施例側(cè)視圖，其工藝制作流程，1、玻璃基板清洗；2、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行鍍膜加工，如果功能層選擇兩層，則依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜即可，如果功能層選擇4層,則依次鍍先一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；3、玻璃的后表面鍍完膜后，對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜，同后表面功能層一樣，如果選擇兩層功能膜，則在BM上依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜即可，如果功能層選擇四層，則在BM上依次先鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜，再鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；4、然后從鍍膜機(jī)中取出，再次清洗；5、在玻璃前表面制作BM絕緣邊框；
6、制作完BM絕緣邊框，再次進(jìn)入鍍膜前清洗，鍍最后一層ITO導(dǎo)電膜；7、在鍍膜機(jī)中將玻璃取出，進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。此種方案ITO采用低溫鍍膜。如圖9至圖12所示，本發(fā)明第三種工藝中的四種實(shí)施例側(cè)視圖，其工藝制作流程，1、玻璃基板清洗；2、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行功能層鍍膜加工，如果功能層選擇兩層，則依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜即可，如果功能層選擇4層，則依次鍍先一層Nb2O5膜，一層SiO2膜，再鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2 膜；3、玻璃的后表面鍍完膜后，對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜，同后表面功能層一樣，如果選擇兩層功能膜，則在BM上依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜即可，如果功能層選擇四層，則在BM上依次先鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后鍍一層ITO導(dǎo)電膜；4、然后從鍍膜機(jī)中取出，再次清洗；5、在玻璃前表面制作BM絕緣邊框。6、進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。此種方案ITO采用高溫鍍膜。圖13為ITO蝕刻線條效果圖，a代表有ITO膜，b代表無(wú)ITO膜；圖14為絕緣邊框示意圖,絕緣邊框2包圍的中間為顯示區(qū)域6。以上三種方案中的Nb2O5膜都是采用中頻反應(yīng)磁控濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999%，氬氣80-120sccm，中頻反應(yīng)濺射的反應(yīng)氣體為高純氧氣，純度為99.999 %，氧氣占比例10-15 %，靶功率在5KW-20KW，靶電壓550V——650V，膜層厚度在3nm-100nm之間。以上三種方案中的SiO2膜都是采用中頻反應(yīng)磁控濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999%，氬氣200-400sccm，中頻反應(yīng)濺射的反應(yīng)氣體為高純氧氣，純度為99.999 %，氧氣占比例30-50 %，靶功率在5KW-50KW，靶電壓450V——550V，膜層厚度在20nm-200nm之間。高溫ITO導(dǎo)電膜是采用直流磁控濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999 %，氬氣240-350sccm，靶功率在5KW-30KW，靶電壓220V——250V，膜層電阻在15-300 Ω之間。低溫ITO導(dǎo)電膜是采用直流疊加射頻濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999 %，氬氣240-350sccm，靶功率在5KW-40KW，靶電壓IlOV——150V，膜層電阻在15-300Ω之間。玻璃基板的溫度根據(jù)OGS本身的制作工藝，分為高溫鍍膜和低溫鍍膜，如果如果BM層在玻璃前表面的第一道工序，則前表面的鍍膜制程全部采用低溫鍍膜；若BM在玻璃前表面的功能層和ITO膜之間，則功能層采用高溫方式或者低溫方式生產(chǎn)均可，但是ITO膜層需要采用低溫鍍膜；若BM層在玻璃前表面的功能層和ITO膜層之后，則鍍膜制程完全可采取高溫鍍膜來(lái)完成。在以上溫度范圍內(nèi)，溫度的高低對(duì)于采用中頻反應(yīng)濺射制備的Nb2O5膜和SiO2膜在工藝上沒有影響；但是對(duì)ITO膜層來(lái)說，溫度的高低影響到膜層的制備方式，可以根據(jù)溫度的高低和對(duì)膜層性能的要求選擇采取直流疊加射頻濺射的方式鍍膜或者直接采用直流濺射的方式完成。具體實(shí)施案例選取，以下如表所不，

權(quán)利要求
1.種消影高透過率OGS用玻璃，其特征在于:該OGS用玻璃為單片玻璃結(jié)構(gòu)，同時(shí)起到保護(hù)玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，其包括基板(I)、絕緣邊框(2)、功能層、ITO導(dǎo)電膜(3)，該絕緣邊框(2)、功能層、ITO導(dǎo)電膜(3)都通過鍍膜技術(shù)鍍?cè)诨澧派?，功能層是由五氧化二鈮?4)和二氧化硅膜(5)兩種膜組成，功能層都是通過先鍍一層五氧化二鈮膜(4),后鍍一層二氧化娃膜(5)。
2.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影高透過率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面鍍有絕緣邊框(2)，所述絕緣邊框(2)上鍍有五氧化二鈮膜(4)，五氧化二鈮膜(4)鍍有二氧化娃膜(5),該二氧化娃膜(5)鍍有ITO導(dǎo)電膜(5),該基板⑴的后表面鍍有五氧化二鈮膜(4)，五氧化二鈮膜(4)鍍有二氧化硅膜(5)。
3.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影高透過率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面鍍有五氧化二銀膜(4),五氧化二銀膜(4)鍍有二氧化娃膜(5), 二氧化娃膜(5)鍍有絕緣邊框(2)，該絕緣邊框(2)鍍有ITO導(dǎo)電膜(3)，該基板(I)的后表面鍍有五氧化二鈮膜(4)，五氧化二鈮膜(4)鍍有二氧化硅膜(5)。
4.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種消影高透過率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面鍍有五氧化二銀膜(4),五氧化二銀膜(4)鍍有二氧化娃膜(5), 二氧化娃膜(5)鍍有ITO導(dǎo)電膜(3)，該ITO導(dǎo)電膜(3)鍍有絕緣邊框(2)，該該基板I)的后表面鍍有五氧化二鈮膜(4)，五氧化二鈮膜(4)鍍有二氧化硅膜(5)。
5.據(jù)權(quán)利要求2或3或4所述的一種消影高透過率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面鍍有的功能層為消影功能層，后表面鍍有的功能層為增透減反功能層。
6.種消影高透過率OGS用 玻璃制造方法，其特征在于:該方法工藝分為三種工藝制作流程， 第一種工藝制作流程，絕緣邊框(2)鍍?cè)诨?I)前表面的前表面的功能層和ITO膜層之前，為第一道工序；則前表面的鍍膜制程全部采用低溫鍍膜； 第二種工藝制作流程，絕緣邊框(2)鍍?cè)诨?I)前表面的功能層和ITO膜(3)之間，則功能層采用高溫方式或者低溫方式生產(chǎn)均可，ITO膜層(3)需要采用低溫鍍膜； 第三種工藝制作流程，絕緣邊框(2)鍍?cè)诨?I)前表面前表面的功能層和ITO膜層之后，則鍍膜制程完全可采取高溫鍍膜來(lái)完成。
7.據(jù)權(quán)利要求6所述的消影高透過率OGS用玻璃制造方法，其特征在于，所述第一種工藝的具體流程如下: a、玻璃基板清洗； b、制作絕緣邊框(2)絕緣邊框圖案，絕緣邊框(2)邊框在基板(I)前表面； C、帶有絕緣邊框(2)的基板(I)進(jìn)行鍍膜前清洗； d、將清洗干凈的基板I裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)基板(I)的后表面進(jìn)行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜，再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜； e、玻璃的后表面鍍完膜后，對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導(dǎo)電膜⑶； f、在鍍膜機(jī)中將玻璃取出，進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。此種方案ITO采用低溫鍍膜。
8.據(jù)權(quán)利要求6所述的消影高透過率OGS用玻璃制造方法，其特征在于，所述第二種工藝的具體流程如下: a、玻璃基板清洗；將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜； b、玻璃的后表面鍍完膜后，對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜； C、然后從鍍膜機(jī)中取出，再次清洗； d、在基板(I)前表面制作絕緣邊框(2); e、制作完絕緣邊框(2)，再次進(jìn)入鍍膜前清洗，鍍最后一層ITO導(dǎo)電膜(3)； f、在鍍膜機(jī)中將玻璃取出，進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。此第二種工藝ITO采用低溫鍍膜。
9.據(jù)權(quán)利要求6所述的消影高透過率OGS用玻璃制造方法，其特征在于，所述第三種工藝的具體流程如下: a、玻璃基板清洗； b、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內(nèi)；先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行功能層鍍膜加工，先對(duì)玻璃基板的后表面進(jìn)行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜； C、玻璃的后表面鍍完膜后，對(duì)玻璃的前表面進(jìn)行鍍膜，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；或依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,再鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導(dǎo)電膜⑶； d、然后從鍍膜機(jī)中取出，再次清洗； e、在基板(I)前表面制作絕緣邊框(2); f、進(jìn)行檢驗(yàn)測(cè)試，合格入庫(kù)。
10.據(jù)權(quán)利要求6所 述的消影高透過率OGS用玻璃制造方法，其特征在于，所述的方法工藝是在玻璃前表面或者后表面再增加功能層，就可以在保證和提高現(xiàn)有功能的前提下，使得ITO膜層的電阻值范圍可達(dá)到15-300歐姆。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種消影高透過率OGS用玻璃以及制造方法，該制作方法工藝分為三種，制造出的OGS用玻璃為單片玻璃結(jié)構(gòu)，同時(shí)起到保護(hù)玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，其包括基板、絕緣邊框、功能層、ITO導(dǎo)電膜，該絕緣邊框、功能層、ITO導(dǎo)電膜都通過鍍膜技術(shù)鍍?cè)诨迳?，本發(fā)明適用于OGS類的觸摸屏設(shè)計(jì)，其在設(shè)計(jì)與制造成本上與現(xiàn)有技術(shù)相比，能夠更好的達(dá)到消影效果，使其消影效果更加容易控制；在玻璃的后表面再增加功能層，可提高產(chǎn)品的透光率，拓寬產(chǎn)品的阻值范圍(15-300歐姆)，在強(qiáng)光下改善了產(chǎn)品的顯示效果。
文檔編號(hào)C03C17/34GK103092416SQ201310021220
公開日2013年5月8日 申請(qǐng)日期2013年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月18日
發(fā)明者李俊華, 姜翠寧, 李亮亮 申請(qǐng)人:深圳市正星光電技術(shù)有限公司