用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制造二氧化硅玻璃的方法和設(shè)備的制作方法
【專(zhuān)利摘要】提供了一種用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制備二氧化硅顆粒的設(shè)備。該設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出料口、用于在該混合器外殼中遞送蒸發(fā)的前體的前體遞送室，以及具有與該混合器外殼連通的出料口、用于遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體的氧化氣體遞送室。該設(shè)備還包括一回火元件，該回火元件布置在該混合器外殼中，位于所述前體遞送室的出料口和所述氧化氣體遞送室的出料口之間。所述回火元件以L最小(厘米)=0.453U(Re)-0.5567限定的離所述氧化氣體遞送室出料口的最小間距設(shè)置，式中U是前體流速，單位為厘米/秒，Re是流動(dòng)雷諾數(shù)。所述回火元件可在至少一側(cè)包括傾斜的表面以減少蒸發(fā)的氣體的再循環(huán)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制造二氧化硅玻璃的方法和設(shè)備
[0001]相關(guān)申請(qǐng)交叉參考
[0002]本申請(qǐng)根據(jù)35U.S.C.§ 120要求2011年7月6日提交的美國(guó)申請(qǐng)系列13/176，804的優(yōu)先權(quán)，本文以該申請(qǐng)為基礎(chǔ)并將其全文通過(guò)引用結(jié)合于此。
[0003]背景
[0004]本發(fā)明一般的涉及前體和氣體混合單元，以及更具體的涉及用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制備熱解生成二氧化硅顆粒的一種設(shè)備，該二氧化硅顆粒可用于制備熔融二氧化硅和光纖預(yù)制件。
[0005]常規(guī)光纖預(yù)制件通常包括二氧化硅顆粒。不含鹵化物的環(huán)硅氧烷，例如八甲基環(huán)四硅氧烷(octamethylcyclotetracyloxane) (0MCTS)常用作制備熱解生成二氧化娃顆粒的前體，所述二氧化硅顆?？捎糜谥苽淙廴诙趸韬凸饫w預(yù)制件。所述前體通常是液體，在蒸發(fā)器中蒸發(fā)，且以流的形式通過(guò)遞送管流動(dòng)，從而在下游的混合單元中與氧結(jié)合。然后，將前體和氧的混合物加料至燃燒器，所述混合物在燃燒器中有火焰存在的情況下進(jìn)行高溫氧化反應(yīng)，以形成二氧化硅顆粒。在所述氧和所述前體混合的匯合點(diǎn)，該前體(包括雜質(zhì)如高分子量的硅氧烷、非揮發(fā)性殘留物、胺、硅烷、酸(如HCL)和堿(Na0H，K0H))可與氧聚合，導(dǎo)致形成凝膠。在遞送系統(tǒng)中凝膠化一般的會(huì)導(dǎo)致背壓(back pressure)升高，需要周期性的清洗設(shè)備來(lái)去除凝膠層。這會(huì)導(dǎo)致停機(jī)時(shí)間，降低制造過(guò)程效率。因此，需要提供一種能減少或消除不利的凝膠形成的前體和氣體遞送系統(tǒng)。
[0006]概述
[0007]根據(jù)一種實(shí)施方式，提供了一種形成二氧化硅煙炱的方法。所述方法包括以下步驟:提供一種設(shè)備，所述設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出口的前體遞送室，具有與該混合器外殼連通的出口的氧化氣體遞送室，以及布置在該混合器外殼中、位于所述前體遞送室的出口和所述氧化氣體遞送室的出口之間的回火元件，其中所述回火元件(flashback member)以L最小(厘米)=0.453U (Re)5567限定的離所述氧化氣體遞送室出口的最小間距設(shè)置，式中U是前體的流速，單位為厘米/秒，Re是流動(dòng)雷諾數(shù)(Reynoldsnumber)0所述方法還包括以下步驟:在該混合器外殼中通過(guò)前體遞送室來(lái)遞送蒸發(fā)的前體，通過(guò)氧化氣體遞送室來(lái)遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體，從而所述蒸發(fā)的前體和所述氧化氣體在所述混合器外殼中混合。所述方法還包括將所述混合的蒸發(fā)的前體和氧化氣體作為流輸出到燃燒器，以形成二氧化硅煙炱。
[0008]根據(jù)另一種實(shí)施方式，提供了一種形成二氧化硅煙炱的方法。所述方法包括以下步驟:提供一種設(shè)備，所述設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出口的前體遞送室，具有與該混合器外殼連通的出口的氧化氣體遞送室，以及布置在該混合器外殼中、位于所述前體遞送室的出口和所述氧化氣體遞送室的出口之間的回火元件，其中所述回火元件在至少一側(cè)包括傾斜的表面以減少蒸發(fā)的氣體的再循環(huán)。所述方法還包括以下步驟:在該混合器外殼中通過(guò)前體遞送室來(lái)遞送蒸發(fā)的前體，通過(guò)氧化氣體遞送室來(lái)遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體，從而所述蒸發(fā)的前體和所述氧化氣體在所述混合器外殼中混合。所述方法還包括將所述混合的蒸發(fā)的前體和氧化氣體作為流輸出到燃燒器，以形成二氧化硅煙炱。
[0009]還根據(jù)另一種實(shí)施方式，提供了一種用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制備二氧化硅顆粒的設(shè)備。該設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出口、用于在該混合器外殼中遞送蒸發(fā)的前體的前體遞送室，以及具有與該混合器外殼連通的出料口、用于遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體的氧化氣體遞送室。所述設(shè)備還包括布置在該混合器外殼中、位于所述前體遞送室的出口和所述氧化氣體遞送室的出口之間的回火元件，其中所述回火元件以L^、(厘米)=0.453U(Re)-°.5567限定的離所述氧化氣體遞送室出口的最小間距設(shè)置，式中U是流速，單位為厘米/秒，Re是流動(dòng)雷諾數(shù)(Reynolds number)。
[0010]根據(jù)另一種實(shí)施方式，提供了一種用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制備二氧化硅顆粒的設(shè)備。該設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出料口、用于遞送蒸發(fā)的前體的前體遞送室，以及與該混合器外殼連通的、用于遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體的氧化氣體遞送室。所述設(shè)備還包括布置在該混合器外殼中、且位于所述前體遞送室的出口和所述氧化氣體遞送室的出口之間的回火元件，其中所述回火元件在至少一側(cè)包括傾斜的表面以減少蒸發(fā)的氣體的再循環(huán)。
[0011]在以下的詳細(xì)描述中給出了本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)，其中的部分特征和優(yōu)點(diǎn)對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，根據(jù)所作描述就容易看出，或者通過(guò)實(shí)施包括以下詳細(xì)描述、權(quán)利要求書(shū)以及附圖在內(nèi)的本文所述的各種實(shí)施方式而被認(rèn)識(shí)。
[0012]應(yīng)理解，前面的一般性描述和以下的詳細(xì)描述都僅僅是示例性的，用來(lái)提供理解權(quán)利要求的性質(zhì)和特性的總體評(píng)述或框架。所附附圖提供了對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，附圖被結(jié)合在本說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分?！緦?zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】了一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式，并與文字描述一起用來(lái)解釋各個(gè)實(shí)施方式的原理和操作。
[0013]附圖簡(jiǎn)述
[0014]圖1是根據(jù)一種實(shí)施方式的、用于混合前體和氣體的一種混合設(shè)備的示意圖；
[0015]圖2是圖1所示混合設(shè)備的局部放大視圖；
[0016]圖3是根據(jù)一種實(shí)施方式的、用于混合前體和氣體且使用傾斜回火孔(angledflashback orifice)的一種混合設(shè)備的示意圖；
[0017]圖4是圖3所示混合設(shè)備的局部放大視圖；
[0018]圖5顯示了用于形成煙炱預(yù)制件的外部氣相沉積(0VD)法。
[0019]詳細(xì)描述
[0020]下面詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，這些實(shí)施方式的例子在附圖中示出。只要有可能，在所有附圖中使用相同的附圖標(biāo)記來(lái)表示相同或類(lèi)似的部分。
[0021]本文公開(kāi)了用于混合蒸發(fā)的前體如不含鹵化物的環(huán)硅氧烷(如八甲基環(huán)四硅氧烷(0MCTS))和氣體以制備二氧化硅顆粒的一種混合單元或設(shè)備。該設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出料口、用于在該混合器外殼中遞送蒸發(fā)的前體的前體遞送室，以及具有與該混合器外殼連通的出料口、用于遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體如氧的氧化氣體遞送室。該設(shè)備包括一回火元件，該回火元件布置在該混合器外殼中，位于所述前體遞送室的出料口和所述氧化氣體遞送室的出料口之間。根據(jù)一種實(shí)施方式，所述回火元件以L^、(厘米)=0.453U(Re)-°.5567限定的離所述氧化氣體遞送室出料口的最小間距設(shè)置，式中U是前體流速，單位為厘米/秒，Re是流動(dòng)雷諾數(shù)(Reynolds number)0根據(jù)另一種實(shí)施方式，所述回火元件布置在該混合器外殼中，且位于所述前體遞送室的出料口和所述氧化氣體遞送室的出料口之間，其中所述回火元件在至少一側(cè)包括傾斜的表面以減少蒸發(fā)的氣體的再循環(huán)。
[0022]該設(shè)備優(yōu)選的以減少或消除在遞送系統(tǒng)中不利的凝膠化(gelling)的方式來(lái)混合氣體(如氧)和前體(如環(huán)硅氧烷(例如0MCTS))?？赏ㄟ^(guò)在所述0MCTS與所述氧流接觸之前，在遠(yuǎn)離引入0MCTS處最小延伸長(zhǎng)度的地方混合0MCTS蒸汽流和氧流，以實(shí)現(xiàn)所述凝膠化效應(yīng)的減少或消除。在一些實(shí)施方式中，所述前體和氧在排出燃燒器表面之前混合。在一些實(shí)施方式中，所述前體和氧在排出燃燒器表面之前混合的最小長(zhǎng)度大于或等于1厘米。在其它實(shí)施方式中，所述前體和氧在排出燃燒器表面之前混合的最小長(zhǎng)度大于或等于10厘米。在其它實(shí)施方式中，所述前體和氧在排出燃燒器表面之前混合的最小長(zhǎng)度大于或等于100厘米。在其它實(shí)施方式中，所述前體和氧在排出燃燒器表面之前混合的最小長(zhǎng)度大于或等于1米。通常，使用孔或環(huán)形式的回火元件作為阻火器來(lái)阻止火焰回火進(jìn)入該遞送系統(tǒng)。當(dāng)延伸長(zhǎng)度不夠時(shí)，會(huì)形成一個(gè)強(qiáng)的再循環(huán)區(qū)域，導(dǎo)致氧顯著的反擴(kuò)散進(jìn)入該0MCTS蒸汽流。因?yàn)樗鲈傺h(huán)區(qū)域帶來(lái)的氧的反擴(kuò)散和增加的停留時(shí)間，會(huì)導(dǎo)致用于發(fā)生聚合反應(yīng)的足夠的氧濃度和時(shí)間，由此引起在靠近所述兩物流接觸的地方發(fā)生顯著的凝膠化。通過(guò)在所述0MCTS與所述氧流接觸之前，將回火孔以最小延伸間距設(shè)置在引入0MCTS的地方以外，可減少或消除所述凝膠化效應(yīng)。所述最小延伸長(zhǎng)度可取決于所述0MCTS流速和本文所述的0MCTS蒸汽經(jīng)過(guò)的開(kāi)口的尺寸之間的關(guān)系。此外，所述回火孔或環(huán)可構(gòu)建成傾斜回火文丘里管(venturi)，可進(jìn)一步阻止截留的再循環(huán)渦流，這有助于消除所述再循環(huán)區(qū)域在流動(dòng)中的截留，由此幫助降低聚合速率。如果可以避免再循環(huán)區(qū)域，就沒(méi)有足夠的停留時(shí)間來(lái)發(fā)生聚合反應(yīng)。
[0023]參考圖1，總體顯示了根據(jù)一種實(shí)施方式的、用于混合蒸發(fā)的前體和氧化氣體以制備二氧化娃顆粒的一種混合設(shè)備10。該設(shè)備10包括混合器外殼12,所述外殼12 —般的包括用于接收來(lái)自液體蒸發(fā)的前體供給24的蒸發(fā)的前體流動(dòng)流的第一進(jìn)口，和用于接收來(lái)自氧化氣體供給26的氧化氣體的流動(dòng)流的第二進(jìn)口。所述混合器外殼12還包括用于混合所述蒸發(fā)的前體和氧化氣體的內(nèi)部體積、用于將所述前體和氣體混合物流動(dòng)流輸出至燃燒器28的出料口或出口。所述燃燒器28 —般的包括火焰，該火焰用于從前體和氣體的所述混合物熱解制備二氧化硅顆粒。根`據(jù)一種實(shí)施方式，所述混合器外殼12可以是圓筒外殼。
[0024]所述混合設(shè)備10包括具體在所述第一進(jìn)口與混合器外殼12連通的出口或出料口18的前體遞送室16，該前體遞送室16用于將從所述前體供給24提供的所述蒸發(fā)的前體遞送進(jìn)入所述混合器外殼12。應(yīng)理解，用于從液體前體提供蒸發(fā)的前體的蒸發(fā)器是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的。所述蒸發(fā)的前體可包括不含鹵化物的環(huán)硅氧烷。不含鹵化物的環(huán)硅氧烷的示例之一是八甲基環(huán)四硅氧烷(0MCTS)。根據(jù)一種實(shí)施方式，所述前體遞送室16可構(gòu)建成圓筒管。將所述蒸發(fā)的前體作為穿過(guò)所述前體遞送室16的流動(dòng)流通過(guò)直徑已知的出口或出料口 18來(lái)遞送所述蒸發(fā)的前體，且以所需的前體流速來(lái)遞送。
[0025]所述混合設(shè)備10還包括具體在所述第二進(jìn)口與混合器外殼12連通的出口或出料口 22的氧化氣體遞送室20，該氧化氣體遞送室20用于遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體。所述氧化氣體遞送室20接收來(lái)自所述氧化氣體供給26的氧化氣體，并以所需的流速通過(guò)出料口 22將氧化氣體流遞送進(jìn)入所述混合器外殼12。根據(jù)一種實(shí)施方式，所述氧化氣體遞送室20可包括圓筒管。根據(jù)一種實(shí)施方式，所述氧化氣體遞送管20的內(nèi)徑(ID)L6S0.4英寸(1厘米)、外徑(OD)為0.5英寸(1.3厘米)。根據(jù)一種實(shí)施方式，所述氧化氣體可包括氧。根據(jù)其它實(shí)施方式，所述氧化氣體可包括一氧化氮、一氧化二氮和含氧空氣中的一或更多種。
[0026]所述混合設(shè)備10還包括回火元件30，該回火元件30布置在所述混合器外殼12中，且位于所述前體遞送室16的出料口 18和所述氧化氣體遞送室20的出料口 22之間。將所述回火元件30構(gòu)建成形狀為環(huán)的回火孔，該回火孔消耗所述混合器外殼12內(nèi)壁和所述氧化氣體遞送室20外壁之間的部分體積，從而提供在它們之間的通道，用于使來(lái)自前體遞送室16的前體流動(dòng)進(jìn)入所述混合器外殼12。所述蒸發(fā)的前體的流動(dòng)流流經(jīng)所述氧化氣體遞送室20的外部表面和所述回火元件30之間的空隙，并與氧化氣體混合。所述回火孔30以L副、(厘米)=0.453U (Re) 0 5567限定的離所述氧化氣體遞送室20出料口的最小間距設(shè)置，式中U是前體流速，單位為厘米/秒,Re是流動(dòng)雷諾數(shù)(Reynolds number)。所述回火孔30優(yōu)選的阻止回火進(jìn)入所述遞送系統(tǒng)，且因?yàn)樽钚￠L(zhǎng)度L.、阻止氧反擴(kuò)散進(jìn)入所述0MCTS蒸汽流，從而阻止在所述前體流動(dòng)流與氣體接觸的地方發(fā)生顯著的凝膠化。在本實(shí)施方式中，所述回火孔30具有90°的，從而它與所述混合器外殼12的縱向軸線或流動(dòng)軸線正交延伸。
[0027]如圖所示，所述回火孔30與所述氧化氣體遞送室20的出口 22的間距為L(zhǎng)3。最小間距L*確定了長(zhǎng)度L3的最小間距。如圖所示，混合器外殼12內(nèi)部表面和所述氧化氣體遞送室20外部表面之間的間距為L(zhǎng)2?；鼗鹂?0和所述氧化氣體遞送室20外部表面之間的間距為長(zhǎng)度U。長(zhǎng)度U限定了所述蒸發(fā)的前體流動(dòng)流遞送到所述混合器外殼12所經(jīng)過(guò)的空隙尺寸。長(zhǎng)度L2和長(zhǎng)度U的比例優(yōu)選的大于或等于3，且小于20更優(yōu)選的小于13。長(zhǎng)度L3是在所述回火環(huán)30上提供最窄空隙或最小U的點(diǎn)處測(cè)量的，如果該回火環(huán)30高度恒定但有一定寬度，那么長(zhǎng)度L3是從所述回火環(huán)30上離所述氧化氣體遞送室20的出料口 22最近的點(diǎn)處測(cè)量的。
[0028]流動(dòng)雷諾數(shù)(Reynolds number)由
【權(quán)利要求】
1.一種用于形成二氧化硅煙炱的方法，所述方法包括以下步驟:提供一種設(shè)備，所述設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出料口的前體遞送室，具有與該混合器外殼連通的出料口的氧化氣體遞送室，以及布置在該混合器外殼中、位于所述前體遞送室的出料口和所述氧化氣體遞送室的出料口之間的回火元件，其中所述回火元件以L.、(厘米)=0.453U(Re)-°.5567限定的離所述氧化氣體遞送室出料口的最小間距設(shè)置，式中U是前體的流速，單位為厘米/秒，Re是流動(dòng)雷諾數(shù)；在該混合器外殼中通過(guò)前體遞送室來(lái)遞送蒸發(fā)的前體；通過(guò)所述氧化氣體遞送室來(lái)遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體，從而所述蒸發(fā)的前體和所述氧化氣體在所述混合器外殼中混合；以及將所述混合的蒸發(fā)的前體和氧化氣體作為流輸出到燃燒器，以形成二氧化硅煙炱。
2.如權(quán)利要求1所述方法，其中，所述方法還包括將所述二氧化硅煙炱沉積到基底上，以形成光纖預(yù)制件。UpD
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述流動(dòng)雷諾數(shù)由Y限定，式中P是氣Re = 1-1體密度，D是所述回火元件與氧化氣體遞送室之間的間距，以及μ是前體的氣體粘度。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述最小間距L*為至少2厘米。
5.如權(quán)利要求1所述的 方 法，其中，所述回火元件在至少一側(cè)包括傾斜的表面以減少氣體的再循環(huán)。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其中，所述前體遞送室和所述氧化氣體遞送室之間的第一間距和所述回火元件和所述氧化氣體遞送室之間的第二間距的比例大于3。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述前體包括不含鹵化物的環(huán)硅氧烷。
8.一種用于形成二氧化硅煙炱的方法，所述方法包括以下步驟:提供一種設(shè)備，所述設(shè)備包括混合器外殼，具有與該混合器外殼連通的出料口的前體遞送室，具有與該混合器外殼連通的出料口的氧化氣體遞送室，以及布置在該混合器外殼中、位于所述前體遞送室的出料口和所述氧化氣體遞送室的出料口之間的回火元件，其中所述回火元件在至少一側(cè)包括傾斜的表面以減少蒸發(fā)的氣體的再循環(huán)；在該混合器外殼中通過(guò)前體遞送室來(lái)遞送蒸發(fā)的前體；通過(guò)所述氧化氣體遞送室來(lái)遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體，從而所述蒸發(fā)的前體和所述氧化氣體在所述混合器外殼中混合；以及將所述混合的蒸發(fā)的前體和氧化氣體作為流輸出到燃燒器，以形成二氧化硅煙炱。
9.如權(quán)利要求8所述方法，其中，所述方法還包括將所述二氧化硅煙炱沉積到基底上，以形成光纖預(yù)制件。
10.如權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述傾斜表面在所述回火元件的發(fā)散側(cè)。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中，所述發(fā)散側(cè)的角度范圍為6°-50°。
12.如權(quán)利要求11所述的方法，其中，所述前體遞送室和所述氧化氣體室之間的第一間距和所述回火元件和所述氧化氣體室之間的第二間距的比例大于3。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述第一間距和第二間距的比例小于20。
14.如權(quán)利要求8所述的方法，其中，所述回火元件在進(jìn)口側(cè)有第一傾斜表面且在出口側(cè)有第二傾斜表面。
15.一種用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制備二氧化硅顆粒的設(shè)備，所述設(shè)備包括:混合器外殼；具有與該混合器外殼連通的出料口、用于在該混合器外殼中遞送蒸發(fā)的前體的前體遞送室；具有與該混合器外殼連通的出料口、用于遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體的氧化氣體遞送室；布置在該混合器外殼中、位于所述前體遞送室的出料口和所述氧化氣體遞送室的出料口之間的回火元件，其中所述回火元件以L.、(厘米)=0.453U(Re)-°.5567限定的離所述氧化氣體遞送室出料口的最小間距設(shè)置，式中U是前體的流速，單位為厘米/秒，Re是流動(dòng)雷諾數(shù)。UpD
16.如權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其中，所述流動(dòng)雷諾數(shù)由
17.如權(quán)利要求15所述的設(shè)備，其中，所述最小間距L.、為至少2厘米。
18.一種用于混合蒸發(fā)的前體和氣體以制備二氧化硅顆粒的設(shè)備，所述設(shè)備包括:混合器外殼；具有與該混合器外殼連通的出料口、用于遞送蒸發(fā)的前體的前體遞送室；具有與該混合器外殼連通的出料口、用于遞送待與所述蒸發(fā)的前體混合的氧化氣體的氧化氣體遞送室；布置在該混合器外殼中、且位于所述前體遞送室的出料口和所述氧化氣體遞送室的出料口之間的回火元件，其中所述回火元件在至少一側(cè)包括傾斜的表面以減少蒸發(fā)的氣體的再循環(huán)。
19.如權(quán)利要求18所述的設(shè)備，其中，所述傾斜表面在所述回火元件的發(fā)散側(cè)。
20.如權(quán)利要求19所述的設(shè)備，其中，所述發(fā)散側(cè)的角度范圍為6°-50°。
【文檔編號(hào)】C03B37/014GK103635439SQ201280033221
【公開(kāi)日】2014年3月12日 申請(qǐng)日期:2012年6月25日 優(yōu)先權(quán)日:2011年7月6日
【發(fā)明者】L·A·伯恩斯坦, D·C·布克賓德, J·A·迪拉德, J·L·波特, B·蘇曼, P·坦登 申請(qǐng)人:康寧股份有限公司