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自潔瓷磚的制作方法

文檔序號(hào):1956167閱讀:909來源:國(guó)知局
專利名稱:自潔瓷磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種瓷磚,更為具體地說涉及一種能自我清潔的自潔瓷磚。
背景技術(shù)
隨著生活水平的不斷提高及高科技的發(fā)展,人們對(duì)多功能性的要求越來越 多,瓷磚作為一種優(yōu)秀的建筑材料也不再是簡(jiǎn)單的構(gòu)建作用和美化作用,它還 可以擁有一些特殊功能。普通的瓷磚經(jīng)過使用一段時(shí)間后如果不定期清潔對(duì)美 觀性能有很大的影響,特別是貼在外墻上一些不容易清潔到的地方更迫切需要 有一定的自我清潔功能的瓷磚。 實(shí)用新型內(nèi)容 、
要解決的技術(shù)問題為了解決如上所述存在的問題,本實(shí)用新型的目的在 于提供一種能自我清潔的自潔瓷磚。
技術(shù)方案:為了達(dá)到上述實(shí)用新型目的,本實(shí)用新型所釆用的技術(shù)方案為
本實(shí)用新型中的一種自潔瓷磚,包含基層和陶釉層,其特征在于在上述 陶釉層表面還有一層光觸i某層。
本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型的自潔瓷磚在光的照射下可以分解 瓷磚表面各種有機(jī)化合物和部分無機(jī)物,從而達(dá)到自潔功能。

圖l是現(xiàn)有技術(shù)普通瓷磚結(jié)構(gòu)的示意圖; 圖2是本實(shí)用新型自潔瓷磚結(jié)構(gòu)的示意圖;具體實(shí)施方式
下面,將參照附圖,對(duì)本實(shí)用新型的自潔瓷磚進(jìn)行更為詳細(xì)的說明。 本實(shí)用新型的自潔瓷磚,以酒精清洗瓷磚基層3上的陶釉層2表面,使用 graco25Q0噴槍(鈦奧自備)將光觸媒溶液(鈦奧外裝光觸媒溶液特性見下表) 均勻噴涂于瓷磚表面,水平豎直方向各1次往復(fù)。12(TC烘箱熱處理10分鐘, 常溫冷卻,在普通瓷磚陶釉表面形成一層光觸媒層4,基層3、陶釉層2和光觸 媒層4組成本實(shí)用新型自潔瓷磚。鈦奧外裝光觸媒溶液特性
項(xiàng)目?jī)?nèi)容備注
成分Ti02,黏結(jié)劑,水,酒精
PH1. 5-2 (25。C )
粘度6±0. 4cps (25°C 75rpm)
比重0. 9±0. 05g/ml (25°C)浮沉比重計(jì)
粒子大小—5nmTEM
儲(chǔ)藏穩(wěn)定性6個(gè)月冷藏時(shí)穩(wěn)定性增加
該自潔瓷磚表面在光的照射下可以分解瓷磚表面各種有機(jī)化合物和部分無 機(jī)物,從而達(dá)到自潔功能。
運(yùn)用光觸媒具有光催化功能的性質(zhì),使瓷磚在光作用下發(fā)生光催化反應(yīng), 在催化反應(yīng)過程中生成活性很高的自由氫氧基和超氧化陰離子自由基,可以破
壞C-C、 C-H、 C-0、 C-N、 N-H鍵,因此可以分解各種有機(jī)化合物和部分無機(jī)物, 并可以使細(xì)菌的細(xì)胞膜、細(xì)胞壁中蛋白質(zhì)、肽聚糖和脂類等發(fā)生鏈?zhǔn)椒纸?,?使細(xì)菌死亡破裂,以此清除瓷磚表面污垢雜質(zhì)達(dá)到瓷磚自我清潔功能。
泥水噴霧實(shí)驗(yàn)將泥水噴霧在無光觸媒層的瓷磚表面,表面表現(xiàn)出疏水性, 將泥水噴霧在有光觸媒層的自潔瓷磚表面,自潔瓷磚表面表現(xiàn)出了親水性。
墨水污染實(shí)驗(yàn),將紅墨水稀釋5倍涂于有光觸媒層的自潔瓷磚表面,戶外 曰照12小時(shí)后自潔瓷磚表面墨水污染消除。
酒精燈煙熏實(shí)驗(yàn)將有光觸媒層的自潔瓷磚置于酒精燈火焰上方煙熏10分 鐘,戶外日照30小時(shí)后自潔瓷磚表面的煙熏痕跡消除。
印油污染實(shí)驗(yàn),將印油涂于有光觸媒層的自潔瓷磚表面,戶外曰照18小時(shí) 后自潔瓷磚表面印油污染消除。
經(jīng)過上述實(shí)驗(yàn)表明在磚面效果方面,所使用的本實(shí)用新型的自潔瓷磚無 反光,不影響磚面顏色;熱處理階段,需要12(TC處理IO分鐘,產(chǎn)品生產(chǎn)效率 高,能耗低;在污染物分解方面,對(duì)自潔瓷磚表面污染物分解速度快。
上述實(shí)施例不以任何形式限制本實(shí)用新型,本實(shí)用新型也并不限于上述實(shí) 施例。本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員,在實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)范圍內(nèi),作出的添加、替換和 改型等,凡釆取等同替換或等效變換的方式所獲得的技術(shù)方案,均落在本實(shí)用 新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種自潔瓷磚,包含基層和陶釉層,其特征在于在上述陶釉層表面還有一層光觸媒層。
專利摘要本實(shí)用新型的一種自潔瓷磚,包含基層和陶釉層,其特征在于在上述陶釉層表面還有一層光觸媒層。本實(shí)用新型的自潔瓷磚在光的照射下可以分解瓷磚表面各種有機(jī)化合物和部分無機(jī)物,從而達(dá)到自潔功能。
文檔編號(hào)E04F13/08GK201292637SQ20082018705
公開日2009年8月19日 申請(qǐng)日期2008年9月22日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月22日
發(fā)明者尉 舒 申請(qǐng)人:信益陶瓷(中國(guó))有限公司
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