專利名稱：截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于建筑玻璃材料、汽車用玻璃材料和照明燈具玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用磁控濺射法在玻璃基片上鍍制截止紫外線/反射紅外線雙重功能膜層的玻璃及其制備方法。
背景技術(shù)：
紫外線會(huì)使高分子有機(jī)物老化。在一些特殊的場(chǎng)合需要阻止紫外線從玻璃射入或射出。居室、博物館、汽車內(nèi)的物質(zhì)，例如紙張、織物、某些珍貴文物等在紫外線的照射下會(huì)老化、變質(zhì)。
目前，制備阻擋紫外線玻璃的方法是，在玻璃組分中添加鈰離子，Ce+3起強(qiáng)的空穴俘獲中心的作用，Ce+4起強(qiáng)的俘獲電子的作用，這樣就使照射所產(chǎn)生的電子和空穴被鈰離子俘獲，它們的吸收帶正好處于紫外區(qū)。紫外線被阻擋的量與玻璃厚度和鈰的摻入量有關(guān)。存在的問(wèn)題是，盡管鈰離子吸收紫外線，但是還會(huì)有部分透射玻璃；另外，用熔制法制備玻璃吸收紫外線，工藝復(fù)雜，鈰離子的添加量不易控制。
紅外線會(huì)通過(guò)玻璃傳遞，夏季使室內(nèi)溫度升高，冬季使室內(nèi)取暖的熱量流向室外，二者都會(huì)使空調(diào)的制冷或制熱電能增加。在玻璃上鍍氧化物反射紅外線膜，可以達(dá)到節(jié)能的目的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃及其制備方法，截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的紫外線截止率高，不影響玻璃的可見光透射率；并且具有節(jié)能功能。其制備方法簡(jiǎn)單。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，包括玻璃基片，其特征是玻璃基片上鍍有紅外線反射膜層和紫外線截止膜層，紫外線截止膜層位于玻璃基片的最外層或者紅外線反射膜層位于玻璃基片的最外層。
所述的紫外線截止膜層為氧化鈦-氧化鈰膜層，氧化鈦-氧化鈰膜層中，氧化鈦和氧化鈰各組份所占質(zhì)量百分比為氧化鈦10-90％，氧化鈰10-90％。
所述的有氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為10～500納米。
所述的紅外線反射膜層為透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物膜層，透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物膜層為下列3種之一(a).ITO(In2O3∶Sn)膜層，(b).SnO2∶Sb膜層，(c).ZnO∶Al膜層；所述的In2O3∶Sn膜層中，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％；所述的SnO2∶Sb膜層中，SnO2∶Sb的質(zhì)量比例為80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％；所述的ZnO∶Al膜層中，ZnO∶Al的質(zhì)量比例為85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％。
所述的紅外線反射膜層厚度為10～500納米。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征是包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，氧化鈦和氧化鈰各組份所占質(zhì)量百分比為氧化鈦10-90％，氧化鈰10-90％；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為下列3種之一(a).In2O3和Sn靶材，(b).SnO2和Sb靶材，(c).ZnO和Al靶材；所述的In2O3和Sn靶材中，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％，所述的SnO2和Sb靶材中，SnO2∶Sb的質(zhì)量比例為80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％，所述的ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的質(zhì)量比例為85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％；(2).磁控濺射鍍膜在純氬氣或在氧氬混合氣體氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓范圍為0.10Pa-3.0Pa，濺射時(shí)氬氧混合氣體中氧氣所占質(zhì)量百分比為0＜至≤90％；采用下述兩種方式之一進(jìn)行鍍膜(a).先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，在此基礎(chǔ)上，再由透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得產(chǎn)品；(b).先由透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，在此基礎(chǔ)上，再由氧化鈦-氧化鈰靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得產(chǎn)品。
所述的步驟玻2)中的玻璃基片鍍膜時(shí)采用在線加熱，熱處理溫度為20～800℃。
所述的步驟玻2)中得到的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃采用離線熱處理，熱處理溫度為20～800℃，熱處理時(shí)間為10-120分鐘。
本發(fā)明用磁控濺射法在玻璃基片上鍍有紅外線反射膜層和紫外線截止膜層，紫外線截止膜層除鈰離子吸收紫外線外，Ti離子在波長(zhǎng)為380nm左右也有強(qiáng)烈吸收，Ti和Ce離子復(fù)合，能完全截止紫外線，紫外線截止率高，不影響可見光透過(guò)率。在玻璃基片上鍍有紅外線反射膜層，能夠反射紅外線，具有節(jié)能功能。本發(fā)明可以使玻璃同時(shí)具有截止紫外線和反射紅外線雙重功能。本發(fā)明的制備方法與現(xiàn)有的在玻璃組分中添加鈰離子熔制玻璃制備的紫外線吸收玻璃相比，具有工藝簡(jiǎn)單靈活的特點(diǎn)。采用在線加熱或離線熱處理可以使膜與玻璃的結(jié)合更加牢固，可以使薄膜的析晶更加完整。
鍍膜玻璃能夠完全截止紫外線，根據(jù)膜層的厚度調(diào)節(jié)鍍膜玻璃的可見光透射率在30～85％變化，鍍膜玻璃的反射色從淡黃到淺黃變化；避免紫外線透過(guò)玻璃而使室內(nèi)的物質(zhì)老化、變質(zhì)；同時(shí)鍍膜玻璃對(duì)波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于75％，達(dá)到阻止熱量從玻璃傳遞的目的；使該鍍膜玻璃具有截止紫外線/反射紅外線雙重功能。在建筑玻璃、汽車玻璃和燈具玻璃工業(yè)方面具有廣泛的應(yīng)用，前景廣闊。
具體實(shí)施例方式
實(shí)例1截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，靶材中氧化鈰和氧化鈦的質(zhì)量比為1/3；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為In2O3和Sn靶材，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為50.0％∶50.0％；(2).磁控濺射鍍膜在純氬氣氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為0.4Pa；先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，膜層厚度為210nm，在此基礎(chǔ)上，再由In2O3和Sn靶材繼續(xù)鍍膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，In2O3∶Sn膜層厚度為180nm。由鍍膜設(shè)備中的膜厚控制儀控制膜層厚度。
(3).對(duì)得到的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃采用不在線加熱——指鍍膜過(guò)程中玻璃不被加熱，加熱溫度為200℃，加熱時(shí)間為30分鐘。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為氧化鈦-氧化鈰膜層，外層為反射紅外線膜層(In2O3∶Sn膜層)。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率78％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止99.9％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于81％；膜層反射色呈淡黃。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例2截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，靶材中氧化鈰和氧化鈦的質(zhì)量比為1/3；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為In2O3和Sn靶材，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為99.0∶1.0；(2).磁控濺射鍍膜在氧氬混合氣體氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為0.4Pa，濺射時(shí)氬氧混合氣體中質(zhì)量比例為氧氣∶氬氣＝1∶20；先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，膜層厚度為210nm，在此基礎(chǔ)上，再由In2O3和Sn靶材繼續(xù)鍍膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，In2O3∶Sn膜層厚度為180nm。
(3).對(duì)得到的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃采用不在線加熱，加熱溫度為800℃，加熱時(shí)間為10分鐘。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為氧化鈦-氧化鈰膜層，外層為反射紅外線膜層(In2O3∶Sn膜層)。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率80％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止97％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于79％；膜層反射色呈淡黃。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例3截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，靶材中氧化鈰和氧化鈦的質(zhì)量比為3/2；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為ZnO和Al靶材，ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的質(zhì)量比例為85.0％％∶15.0％；(2).磁控濺射鍍膜在氧氬混合氣體氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為0.4Pa，濺射時(shí)氬氧混合氣體中質(zhì)量比例為氧氣∶氬氣＝1∶20；先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為210nm；在此基礎(chǔ)上，再由ZnO和Al靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，ZnO∶Al膜層厚度為210nm。
(3).對(duì)得到的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃采用不在線加熱，加熱溫度為20℃，加熱時(shí)間為120分鐘。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為氧化鈦-氧化鈰膜層，外層為反射紅外線膜層(ZnO∶Al膜層)。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率78％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止98％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于79％；膜層反射色呈淡黃。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例4截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征是包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，靶材中氧化鈰和氧化鈦的質(zhì)量比為3/2；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為ZnO和Al靶材，ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的質(zhì)量比例為99.9％∶0.1％％；(2).磁控濺射鍍膜在純氬氣氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為0.4Pa，先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為210nm；在此基礎(chǔ)上，再由ZnO和Al靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，ZnO∶Al膜層厚度為180nm。
(3).對(duì)得到的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃采用不在線加熱，加熱溫度為100℃，加熱時(shí)間為60分鐘。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為氧化鈦-氧化鈰膜層，外層為反射紅外線膜層(ZnO∶Al膜層)。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率78％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止99.9％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于76％；膜層反射色呈淡黃。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例5截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，靶材中氧化鈰和氧化鈦的質(zhì)量比為3/2；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為SnO2和Sb靶材，SnO2和Sb靶材中，SnO2∶Sb的質(zhì)量比例為80.0％∶20.0％；(2).磁控濺射鍍膜在純氬氣氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為0.4Pa，先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為210nm，在此基礎(chǔ)上，再由SnO2和Sb靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，SnO2∶Sb膜層厚度為180nm；采用玻璃基片在線加熱，玻璃基片進(jìn)入鍍膜室開始，到鍍二層膜結(jié)束，一直加熱，加熱溫度為220℃。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為氧化鈦-氧化鈰膜層，外層為反射紅外線膜層(SnO2∶Sb膜層)。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率78％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止99.9％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于75％；膜層反射色呈淡黃綠。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例6截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，靶材中氧化鈰和氧化鈦的質(zhì)量比為3/2；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為In2O3和Sn靶材，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為50.0％∶50.0％；(2).磁控濺射鍍膜在氧氬混合氣體氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為0.4Pa，濺射時(shí)氬氧混合氣體中氧氣所占質(zhì)量百分比為5％；先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為210nm，在此基礎(chǔ)上，再由In2O3和Sn靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，In2O3∶Sn膜層厚度為180nm；采用玻璃基片在線加熱，玻璃基片進(jìn)入鍍膜室開始，到鍍二層膜結(jié)束，一直加熱，加熱溫度為20℃。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為氧化鈦-氧化鈰膜層，外層為反射紅外線膜層(In2O3∶Sn膜層)。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率80％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止97％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于79％；膜層反射色呈淡黃。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例7截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，氧化鈦和氧化鈰各組份所占質(zhì)量百分比為氧化鈦10％，氧化鈰90％；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為SnO2和Sb靶材，SnO2和Sb靶材中，SnO2∶Sb的質(zhì)量比例為99.9％∶0.1％；(2).磁控濺射鍍膜在氧氬混合氣體氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為0.10Pa，濺射時(shí)氬氧混合氣體中質(zhì)量比例為氧氣∶氬氣＝0.01∶1；先由SnO2和Sb靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，SnO2∶Sb膜層厚度為10nm，在此基礎(chǔ)上，再由氧化鈦-氧化鈰靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為10nm；采用玻璃基片在線加熱，玻璃基片進(jìn)入鍍膜室開始，到鍍二層膜結(jié)束，一直加熱，加熱溫度為800℃。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為反射紅外線膜層(SnO2∶Sb膜層)，外層為氧化鈦-氧化鈰膜層。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率85％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止95％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于76％。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例8截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，氧化鈦和氧化鈰各組份所占質(zhì)量百分比為氧化鈦90％，氧化鈰10％；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為In2O3和Sn靶材，In2O3和Sn靶材中，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為60.0％∶40.0％；(2).磁控濺射鍍膜在氧氬混合氣體氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為3.0Pa，濺射時(shí)氬氧混合氣體中質(zhì)量比例為氧氣∶氬氣＝0.9∶1；先由In2O3和Sn靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，In2O3∶Sn膜層厚度為500nm，在此基礎(chǔ)上，再由氧化鈦-氧化鈰靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為500nm。
(3).對(duì)得到的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃采用不在線加熱，加熱溫度為220℃，加熱時(shí)間為40分鐘。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為反射紅外線膜層(In2O3∶Sn膜層)，外層為氧化鈦-氧化鈰膜層。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率80％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止99％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于86％。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。
實(shí)例9截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，氧化鈦和氧化鈰各組份所占質(zhì)量百分比為氧化鈦50％，氧化鈰50％；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為ZnO和Al靶材，ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的質(zhì)量比例為90.0％∶10.0％；(2).磁控濺射鍍膜在純氬氣氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓為2.0Pa，先由ZnO和Al靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，ZnO∶Al膜層厚度為500nm，在此基礎(chǔ)上，再由氧化鈦-氧化鈰靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為10nm；采用玻璃基片在線加熱，玻璃基片進(jìn)入鍍膜室開始，到鍍二層膜結(jié)束，一直加熱，加熱溫度為600℃。
截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃內(nèi)層為玻璃基片，中間為反射紅外線膜層(ZnO∶Al膜層)，外層為氧化鈦-氧化鈰膜層。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的性能如下可見光透過(guò)率80％，380nm以下波長(zhǎng)的紫外線截止96％；波長(zhǎng)大于2.5微米的紅外線反射率大于86％。鍍膜玻璃的理化性能符合“鍍膜玻璃理化性能測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)”中規(guī)定的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。本發(fā)明的鍍膜玻璃不僅具有截止紫外線功能，還同時(shí)具有反射波長(zhǎng)大于2.5微米紅外線的能力，并且有與玻璃基片相一致的可見光透過(guò)率。
權(quán)利要求
1.截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，包括玻璃基片，其特征是玻璃基片上鍍有紅外線反射膜層和紫外線截止膜層，紫外線截止膜層位于玻璃基片的最外層或者紅外線反射膜層位于玻璃基片的最外層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，其特征是所述的紫外線截止膜層為氧化鈦-氧化鈰膜層，氧化鈦-氧化鈰膜層中，氧化鈦和氧化鈰各組份所占質(zhì)量百分比為氧化鈦10-90％，氧化鈰10-90％。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，其特征是所述的有氧化鈦-氧化鈰膜層厚度為10～500納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，其特征是所述的紅外線反射膜層為透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物膜層，透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物膜層為下列3種之一(a).In2O3∶Sn膜層，(b).SnO2∶Sb膜層，(c).ZnO∶Al膜層；所述的In2O3∶Sn膜層中，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％；所述的SnO2∶Sb膜層中，SnO2∶Sb的質(zhì)量比例為80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％；所述的ZnO∶Al膜層中，ZnO∶Al的質(zhì)量比例為85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，其特征是所述的紅外線反射膜層厚度為10～500納米。
6.截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征是包括如下步驟1).首先對(duì)待鍍膜玻璃基片進(jìn)行清洗、干燥后，進(jìn)行預(yù)真空過(guò)渡；2).然后采用磁控濺射鍍制方法鍍制膜層(1).配制2種靶材氧化鈦-氧化鈰靶材由氧化鈦和氧化鈰組成，氧化鈦和氧化鈰各組份所占質(zhì)量百分比為氧化鈦10-90％，氧化鈰10-90％；透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材為下列3種之一(a).In2O3和Sn靶材，(b).SnO2和Sb靶材，(c).ZnO和Al靶材；所述的In2O3和Sn靶材中，In2O3∶Sn的質(zhì)量比例為50.0％～99.0％∶1.0％～50.0％，所述的SnO2和Sb靶材中，SnO2∶Sb的質(zhì)量比例為80.0％～99.9％∶0.1％～20.0％，所述的ZnO和Al靶材中，ZnO∶Al的質(zhì)量比例為85.0％～99.9％∶0.1％～15.0％；(2).磁控濺射鍍膜在純氬氣或在氧氬混合氣體氛圍中對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍膜，濺射氣壓范圍為0.10Pa-3.0Pa，濺射時(shí)氬氧混合氣體中氧氣所占質(zhì)量百分比為0＜至≤90％；采用下述兩種方式之一進(jìn)行鍍膜(a).先由氧化鈦-氧化鈰靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，在此基礎(chǔ)上，再由透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得產(chǎn)品；(b).先由透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物靶材對(duì)玻璃基片進(jìn)行磁控濺射鍍內(nèi)層膜，在此基礎(chǔ)上，再由氧化鈦-氧化鈰靶材進(jìn)行磁控濺射鍍外層膜得截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征是所述的步驟玻2)中的玻璃基片鍍膜時(shí)采用在線加熱，熱處理溫度為20～800℃。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征是所述的步驟玻2)中得到的截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃采用離線熱處理，熱處理溫度為20～800℃，熱處理時(shí)間為10-120分鐘。
全文摘要
本發(fā)明屬于建筑玻璃材料、汽車用玻璃材料和照明燈具玻璃技術(shù)領(lǐng)域。截止紫外線/反射紅外線雙重功能鍍膜玻璃，包括玻璃基片，其特征是玻璃基片上鍍有紅外線反射膜層和紫外線截止膜層。紫外線截止膜層為氧化鈦－氧化鈰膜層，氧化鈦和氧化鈰的質(zhì)量比例為10－90％∶10－90％。紅外線反射膜層為透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物膜層，透明寬帶隙半導(dǎo)體氧化物膜層為下列3種之一(a).In
文檔編號(hào)C03C4/08GK1603264SQ200410061018
公開日2005年4月6日 申請(qǐng)日期2004年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月29日
發(fā)明者趙青南, 倪佳苗, 趙修建 申請(qǐng)人:武漢理工大學(xué)