靶材縫隙清潔裝置和方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種靶材縫隙清潔裝置和方法，涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，能夠避免縫隙清潔過程中粉塵的散落。該靶材縫隙清潔裝置，包括：靶材正面吹氣單元、靶材側(cè)面吹氣單元和靶材側(cè)面吸塵器。該靶材縫隙清潔方法，包括：向靶材正面的縫隙吹氣；向靶材第一側(cè)面的縫隙吹氣；從靶材第二側(cè)面的縫隙吸取粉塵，所述第一側(cè)面為與所述第二側(cè)面相對的面。
【專利說明】靶材縫隙清潔裝置和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及一種靶材縫隙清潔裝置和方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是在液晶顯示器領(lǐng)域，采用磁控濺射技術(shù)制作薄膜的工藝非常普及。隨著液晶面板尺寸越來越大，因此采用的玻璃尺寸也越來越大，對于磁控濺射靶材的尺寸要求更大，但受靶材制成工藝的限制，一般靶材需要分塊拼接起來使用，但是靶材拼接處會有縫隙，縫隙一般為1_左右，在使用一段時間之后靶材縫隙中會由于工藝過程而積聚粉塵顆粒，需要對靶材的縫隙進(jìn)行清潔，以防止縫隙內(nèi)的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產(chǎn)品的不良。
[0003]現(xiàn)有的靶材縫隙清潔方法是采用較薄的紙片或鋼片插入縫隙將粉塵清理出來，但是這樣粉塵會散落在磁控濺射的工藝腔室中，仍然會在工藝過程中造成產(chǎn)品的不良，同時縫隙中的顆?？赡芎兄亟饘倭Ｗ樱菀妆蝗梭w吸入而對人的健康造成危害。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供一種靶材縫隙清潔裝置和方法，能夠避免縫隙清潔過程中粉塵的散落。
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0006]一方面，提供一種靶材縫隙清潔裝置，包括:
[0007]靶材正面吹氣單元、靶材側(cè)面吹氣單元和靶材側(cè)面吸塵器。
[0008]具體地，還包括:封閉罩，所述靶材正面吹氣單元、靶材側(cè)面吹氣單元和靶材側(cè)面吸塵器設(shè)置于所述密封罩中。
[0009]具體地，所述封閉罩為U型結(jié)構(gòu)，所述U型結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)為開放空間。
[0010]優(yōu)選地，所述封閉罩由橡膠材料制成。
[0011]具體地，所述靶材正面吹氣單元連接有第一通氣管道，所述靶材側(cè)面吹起單元連接有第二通氣管道，所述第一通氣管道和第二通氣管道分別設(shè)置有氣閥。
[0012]另一方面，提供一種靶材縫隙清潔方法，包括:
[0013]向靶材正面的縫隙吹氣；
[0014]向靶材第一側(cè)面的縫隙吹氣；
[0015]從靶材第二側(cè)面的縫隙吸取粉塵，所述第一側(cè)面為與所述第二側(cè)面相對的面。
[0016]本發(fā)明提供的靶材縫隙清潔裝置和方法，通過向縫隙內(nèi)吹氣清除粉塵并使用吸塵器將從縫隙內(nèi)清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產(chǎn)品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
【專利附圖】

【附圖說明】[0017]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖 。
[0018]圖1為本發(fā)明實(shí)施例中一種靶材的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為本發(fā)明實(shí)施例中一種靶材縫隙清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖3為圖2中AA’向的截面示意圖；
[0021]圖4為本發(fā)明實(shí)施例中一種封閉罩的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖5為圖4中封閉罩罩在靶材上時的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖6為本發(fā)明實(shí)施例中一種靶材縫隙清潔方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0025]如圖1所示，磁控濺射技術(shù)中使用的靶材由多塊靶材1拼接在背板2上形成，多塊靶材1之間具有縫隙3，目前通過薄紙片或鋼片插入靶材的縫隙3將粉塵清理出來，但是這樣粉塵會散落在磁控濺射的工藝腔室中，仍然會在工藝過程中造成產(chǎn)品的不良，同時縫隙中的顆?？赡芎兄亟饘倭Ｗ樱菀妆蝗梭w吸入而對人的健康造成危害。另外，由于紙片較軟，無法將縫隙清理干凈，而鋼片較硬，容易對靶材本身造成損傷。本發(fā)明實(shí)施例正是基于上述拼接靶材提出的一種新的靶材縫隙清潔裝置和方法。
[0026]如圖2和圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例提供一種靶材縫隙清潔裝置，包括:靶材正面吹氣單元4、靶材側(cè)面吹氣單元5和靶材側(cè)面吸塵器6。
[0027]具體地，靶材1設(shè)置在背板2上，靶材1上背板2所在的面為背面，與背面相對的面為靶材1的正面，當(dāng)對靶材1進(jìn)行縫隙清潔時，靶材正面吹氣單元4放置于靶材1的正面并對準(zhǔn)縫隙，靶材側(cè)面吹氣單元5放置于靶材1具有縫隙的第一側(cè)面并對準(zhǔn)縫隙，靶材側(cè)面吸塵器6放置于靶材1的第二側(cè)面并對準(zhǔn)縫隙，第二側(cè)面為與第一側(cè)面相對的面，這樣靶材正面吹氣單元4、靶材側(cè)面吹氣單元5、靶材側(cè)面吸塵器6和背板2就將縫隙包圍起來，之后靶材正面吹氣單元4和靶材側(cè)面吹氣單元5向縫隙3內(nèi)吹氣，將縫隙3中的粉塵吹到第二側(cè)面的靶材側(cè)面吸塵器6處，同時靶材側(cè)面吸塵器6從第二側(cè)面的縫隙處吸取并收集粉塵。
[0028]本發(fā)明實(shí)施例中的靶材縫隙清潔裝置，通過向縫隙內(nèi)吹氣清除粉塵并使用吸塵器將從縫隙內(nèi)清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產(chǎn)品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
[0029]具體地，上述靶材縫隙清潔裝置還可以包括:封閉罩7，靶材正面吹氣單元4、靶材側(cè)面吹氣單元5和靶材側(cè)面吸塵器6設(shè)置于封閉罩7中。
[0030]具體地，如圖4和圖5所示，封閉罩7為U型結(jié)構(gòu)，U型結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)為開放空間，用于罩住上述的正面吹氣單元、靶材側(cè)面吹氣單元、靶材側(cè)面吸塵器和靶材的縫隙；封閉罩?與靶材1和背板2形成封閉空間，進(jìn)一步防止縫隙清潔過程中粉塵散落到工藝腔室內(nèi)。
[0031]優(yōu)選地，封閉罩7由橡膠材料制成，具有較佳的密封性能。
[0032]具體地，如圖3所示，靶材正面吹氣單元5連接有第一通氣管道51，靶材正面吹氣單元5通過第一通氣管道51連接至磁控派射設(shè)備的壓縮干燥空氣(Compressed Dry Air,CDA)裝置，CDA裝置用于提供干燥氣體，靶材側(cè)面吹起單元6連接有第二通氣管道61，革巴材側(cè)面吹起單元6通過第二通氣管道61連接至CDA裝置，第一通氣管道51和第二通氣管道61分別設(shè)置有氣閥8，靶材縫隙清潔時，可以通過氣閥8可以控制靶材正面吹氣單元5和靶材側(cè)面吹起單元6同時吹氣，或者祀材正面吹氣單元5先吹氣,祀材側(cè)面吹起單元6后吹氣。當(dāng)然，也可以不設(shè)置氣閥8，直接通過CDA裝置控制靶材正面吹氣單元5和靶材側(cè)面吹起單元6同時吹氣。
[0033]本發(fā)明實(shí)施例中的靶材縫隙清潔裝置，通過向縫隙內(nèi)吹氣清除粉塵并使用吸塵器將從縫隙內(nèi)清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產(chǎn)品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
[0034]如圖6所示，本發(fā)明實(shí)施例提供一種靶材縫隙清潔方法，可以用于上述的靶材縫隙清潔裝置，該靶材縫隙清潔方法包括:
[0035]步驟101、向靶材正面的縫隙吹氣；
[0036]步驟102、向靶材第一側(cè)面的縫隙吹氣；
[0037]步驟103、從靶材第二側(cè)面的縫隙吸取粉塵，所述第一側(cè)面為與所述第二側(cè)面相對的面。
[0038]需要說明的是，上述步驟101和步驟102可以是同時進(jìn)行的，也可以先進(jìn)行步驟101，然后再進(jìn)行步驟102。
[0039]本發(fā)明實(shí)施例中的靶材縫隙清潔方法，通過向縫隙內(nèi)吹氣清除粉塵并使用吸塵器將從縫隙內(nèi)清除的粉塵直接收集，縫隙清潔效果好且不會對靶材造成損傷；另外，避免了縫隙清潔過程中粉塵的散落，從而避免散落在工藝腔室中的粉塵在磁控濺射工藝過程中造成產(chǎn)品不良，同時避免了散落在空中的重金屬粒子被人體吸入而對人的健康造成危害。
[0040]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種靶材縫隙清潔裝置，其特征在于，包括:靶材正面吹氣單元、靶材側(cè)面吹氣單元和靶材側(cè)面吸塵器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材縫隙清潔裝置，其特征在于，還包括:封閉罩，所述靶材正面吹氣單元、靶材側(cè)面吹氣單元和靶材側(cè)面吸塵器設(shè)置于所述密封罩中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靶材縫隙清潔裝置，其特征在于，所述封閉罩為U型結(jié)構(gòu)，所述U型結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)為開放空間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的靶材縫隙清潔裝置，其特征在于，所述封閉罩由橡膠材料制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靶材縫隙清潔裝置，其特征在于，所述靶材正面吹氣單元連接有第一通氣管道，所述靶材側(cè)面吹起單元連接有第二通氣管道，所述第一通氣管道和第二通氣管道分別設(shè)置有氣閥。
6.一種靶材縫隙清潔方法，其特征在于，包括:向靶材正面的縫隙吹氣；向靶材第一側(cè)面的縫隙吹氣；從靶材第二側(cè)面的縫隙吸取粉塵，所述第一側(cè)面為與所述第二側(cè)面相對的面。
【文檔編號】B08B5/02GK103639153SQ201310686918
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年12月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月13日
【發(fā)明者】邢宏偉, 穆慧慧, 吳斌, 張鶴群 申請人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司