專利名稱：一種易清潔煎烤機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種煎烤機(jī)，屬于對煎烤機(jī)的改進(jìn)技術(shù)。
背景技術(shù)：
目前，市面上銷售的烤盤可分離式煎烤機(jī)，主要有以下兩種結(jié)構(gòu)第一種結(jié)構(gòu)中，烤盤置于電木底座上，烤盤和底座之間設(shè)有對烤盤進(jìn)行加熱的電熱管或電熱絲等發(fā)熱元件，由于電熱管或電熱絲等發(fā)熱元件的熱量輻射大，還要在底座和發(fā)熱元件之間設(shè)有金屬材料的反射板，將發(fā)熱元件向底座輻射的熱量反射到烤盤上。這種結(jié)構(gòu)的煎烤機(jī)，由于發(fā)熱元件的邊緣沒有做任何設(shè)計，污垢容易順著發(fā)熱元件進(jìn)入發(fā)熱元件與反射板之間或反射板與底座之間，因此煎烤機(jī)內(nèi)部、以及加熱體和反射板凹槽之間的間隙，也容易藏污納垢，不容易清潔。第二種結(jié)構(gòu)為中國專利CN200520084462. 2中所公開的結(jié)構(gòu)，本體上設(shè)中央有長方形凹槽的反射板，長方形體的內(nèi)部設(shè)有電加熱器的金屬加熱體浮動設(shè)在凹槽中，烤盤安裝在本體上，背面貼靠金屬加熱體。這種結(jié)構(gòu)的煎烤機(jī)，由于同樣的原因，煎烤機(jī)內(nèi)部、以及加熱體和反射板凹槽之間的間隙，也容易藏污納垢，不容易清潔。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是針對上述現(xiàn)有技術(shù)不足，提供一種不易藏污納垢、易清潔的煎烤機(jī)。本實(shí)用新型進(jìn)一步的目的是提供一種可以省略反射板，更有利用清潔的煎烤機(jī)。一種易清潔煎烤機(jī)，包括烤盤(I)、發(fā)熱盤(2)、底座(3)，發(fā)熱盤(2)安裝在底座中，烤盤(I)可分離的固定在底座上，且烤盤(I)的受熱面與發(fā)熱盤(2 )的頂面相接觸，其特征在于發(fā)熱盤(2)的外周設(shè)有向下延伸的凸圈(22)，底座(3)上對應(yīng)凸圈(22)設(shè)有向上突起的擋墻(32)，發(fā)熱盤安裝后，所述凸圈(22)位于擋墻(32)的外側(cè)。作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述底座擋墻(32)的上沿在垂直方向高于發(fā)熱盤凸圈(22)的下沿。所述底座的中央設(shè)有下凹的裝配部(31)，擋墻(32)沿裝配部(31)的周壁向上延伸，所述發(fā)熱盤(2)安裝在裝配部(31)中。、[0010]所述發(fā)熱盤(2)浮動固定在裝配部(31)中。所述發(fā)熱盤(2)和底座(3)之間設(shè)有彈性元件(5)，裝配部(31)的中心設(shè)有貫穿孔，穿過底座(3)的銷軸(6)將發(fā)熱盤與底座連接成一體，并使彈性元件(5)保持預(yù)壓縮狀態(tài)。作為本實(shí)用新型的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述底座上與擋墻(32)相鄰部分(33)的內(nèi)壁為光滑面。本實(shí)用新型利用發(fā)熱盤與底座裝配處設(shè)置的凸圈和擋墻，有效避免雜物進(jìn)入發(fā)熱盤下部與底座之間的空間；并且，掉落在擋墻外側(cè)的雜物則因為底座上與擋墻相鄰部分的光滑面很容易被清除。同時利用底座的該光滑面提升底座的反射性能，使底座兼具反射板的作用，從而可以減少反射板這一部件及相應(yīng)的模具，降低成本，提高煎烤機(jī)的易清潔性倉泛。

圖I是實(shí)施例中的煎烤機(jī)從產(chǎn)品下方看的結(jié)構(gòu)分解示意圖。圖2是實(shí)施例中的煎烤機(jī)從產(chǎn)品上方看的結(jié)構(gòu)分解示意圖。圖3是實(shí)施例中的煎烤機(jī)在裝配狀態(tài)下的剖視圖。圖4是圖3中A處的局部放大圖。上述圖中未示出與本實(shí)用新型無關(guān)的零部件。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。如圖I至圖3示，本實(shí)施例煎烤機(jī)，包括烤盤I、發(fā)熱盤2、底座3，底座為電木材料制成。發(fā)熱盤2內(nèi)置有發(fā)熱元件21或者底部焊接有發(fā)熱元件21，發(fā)熱盤2的外周設(shè)有向下延伸的凸圈22。底座3的中心設(shè)有下凹的裝配部31，發(fā)熱盤2安裝在裝配部31中，底座3上對應(yīng)凸圈22設(shè)有向上突起的擋墻32，本實(shí)施例中，擋墻32沿裝配部31的周壁向上延伸，發(fā)熱盤2安裝后，凸圈22位于擋墻32的外側(cè)。同時，底座3的擋墻32的上沿在垂直方向高于發(fā)熱盤2的凸圈22的下沿。底座3上與擋墻32相鄰部分33的內(nèi)壁為光滑面?？颈PI可分離地放置或固定在底座3邊緣上，且烤盤I的受熱面(即底面)與發(fā)熱盤2的頂面保持接觸。另外，在發(fā)熱盤2和底座3之間設(shè)有彈性元件5，例如彈簧，在底座3的中心設(shè)有貫穿孔34，穿過該貫穿孔34的銷軸6將發(fā)熱盤2與底座3連接成一體，并使彈性元件5保持預(yù)壓縮狀態(tài)，從而使得發(fā)熱盤2浮動地固定在底座3的底部，使得發(fā)熱盤2頂面可以與烤盤I的底面保持較好的接觸。另外，為了更好地控制烤盤的溫度，如附圖3所示，在發(fā)熱盤2的下方固定有溫控器4，溫控器4的感溫面與發(fā)熱盤2接觸?；蛘?，還可以在發(fā)熱盤2上設(shè)置通孔，溫控器4設(shè)置在該通孔內(nèi)，溫控器4的感溫面與烤盤I接觸，直接感知烤盤的溫度，從而準(zhǔn)確掌控煎烤機(jī)的工作溫度。本實(shí)施例中發(fā)熱元件21產(chǎn)生的熱量絕大部分傳遞給發(fā)熱盤2，再由發(fā)熱盤2傳遞給烤盤1，發(fā)熱元件21向底座輻射的熱量少，相應(yīng)底座I的溫升不高，且底座I內(nèi)側(cè)壁設(shè)計為光滑面，提升了反射性能，因此底座I既可以作為結(jié)構(gòu)外觀件，又可以對熱量進(jìn)行反射，集底座與反射板于一體，相比現(xiàn)有技術(shù)中獨(dú)立的反射板和底座要節(jié)約一套模具和一個零件的加工費(fèi)用，大大降低了成本。同時利用發(fā)熱盤2與底座3裝配處設(shè)置的凸圈22和擋墻32，有效避免雜物進(jìn)入發(fā)熱盤2下部與底座3之間的空間；并且，掉落在擋墻32外側(cè)的雜物則因為底座3上與擋墻32相鄰部分的光滑面33很容易被清除，提高煎烤機(jī)的易清潔性能。為保證在工作過程中，烤盤I的受熱面與發(fā)熱盤2的頂面之間充分接觸，本實(shí)施例中發(fā)熱盤2浮動固定在底座中，發(fā)熱盤2和銷軸6可以作為一個整體在外力作用下沿銷軸6的軸向進(jìn)行上、下浮動。銷軸6包括上端的螺紋段、中端的配合段和下端的限位段，限位段為尺寸較大的臺階，卡置于底座外側(cè)，配合段和螺紋段穿過底座，配合段與底座進(jìn)行間隙配 合，螺紋段與發(fā)熱盤鎖緊固定。
權(quán)利要求1.一種易清潔煎烤機(jī)，包括烤盤(I)、發(fā)熱盤(2)、底座(3)，發(fā)熱盤(2)安裝在底座中，烤盤(I)可分離的固定在底座上，且烤盤(I)的受熱面與發(fā)熱盤(2)的頂面相接觸，其特征在于發(fā)熱盤(2)的外周設(shè)有向下延伸的凸圈(22)，底座(3)上對應(yīng)凸圈(22)設(shè)有向上突起的擋墻(32),發(fā)熱盤安裝后,所述凸圈(22)位于擋墻(32)的外側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述易清潔的煎烤機(jī)，其特征在于所述底座擋墻(32)的上沿在垂直方向高于發(fā)熱盤凸圈(22)的下沿。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述易清潔的煎烤機(jī)，其特征在于所述底座的中央設(shè)有下凹的裝配部(31)，擋墻(32)沿裝配部(31)的周壁向上延伸，所述發(fā)熱盤(2)安裝在裝配部(31)中。
4.據(jù)權(quán)利要求3所述易清潔的煎烤機(jī)，其特征在于所述發(fā)熱盤(2)浮動固定在裝配部(31)中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述易清潔的煎烤機(jī)，其特征在于所述發(fā)熱盤(2)和底座(3)之間設(shè)有彈性元件(5)，裝配部(31)的中心設(shè)有貫穿孔，穿過底座(3)的銷軸(6)將發(fā)熱盤與底座連接成一體，并使彈性元件(5)保持預(yù)壓縮狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5任一項所述易清潔的煎烤機(jī)，其特征在于所述底座上與擋墻(32)相鄰部分(33)的內(nèi)壁為光滑面。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種易清潔煎烤機(jī)，包括烤盤(1)、發(fā)熱盤(2)、底座(3)，發(fā)熱盤(2)安裝在底座中，烤盤(1)可分離的固定在底座上，且烤盤(1)的受熱面與發(fā)熱盤(2)的頂面相接觸，其特征在于發(fā)熱盤(2)的外周設(shè)有向下延伸的凸圈(22)，底座(3)上對應(yīng)凸圈(22)設(shè)有向上突起的擋墻(32)，發(fā)熱盤安裝后，所述凸圈(22)位于擋墻(32)的外側(cè)。本實(shí)用新型利用相互配合的凸圈與擋墻，能有效避免雜物進(jìn)入發(fā)熱盤下部與底座之間的空間，且能很容易清除底座上擋墻外側(cè)的雜物。
文檔編號A47J37/10GK202355246SQ20112041209
公開日2012年8月1日 申請日期2011年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月26日
發(fā)明者吳堅, 杜健榮, 杜明輝, 林秀寶, 黃杰泉 申請人:美的集團(tuán)有限公司