專利名稱：光刻膠噴頭的清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
光刻膠噴頭的清洗裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001 ] 本實(shí)用新型涉及一種集成電路工藝制造設(shè)備，尤其涉及一種用于降低光刻工藝中污染物引起的缺陷問題的光刻膠噴頭的清洗裝置。
背景技術(shù)：
[0002]在集成電路工藝制造中，晶體三極管、二極管、電容、電阻以及金屬層的各種物理部件在晶圓表面或表層內(nèi)構(gòu)成。這些部件通過光刻工藝過程，最終在晶圓上保留特征圖形的部分。光刻工藝(Lithographic Process)生產(chǎn)的目標(biāo)是根據(jù)電路設(shè)計(jì)的要求，生成尺寸精確的特征圖形，并且在晶圓表面的位置正確且與其它部件(parts)的關(guān)聯(lián)正確。[0003]光刻工藝是集成電路工藝制造的基本工藝中最為關(guān)鍵的一個(gè)。光刻工藝確定了器件的關(guān)鍵尺寸。光刻工藝相當(dāng)于高科技版本的照相技術(shù)，是在難以置信的微小尺寸下完成。 然而光刻工藝的許多問題不容忽視，首先光刻過程中產(chǎn)生的錯(cuò)誤能夠造成圖形歪曲或套準(zhǔn)不好，最終會(huì)轉(zhuǎn)化為對(duì)半導(dǎo)體器件的電特性不良影響；光刻工藝圖形的錯(cuò)位也會(huì)導(dǎo)致類似的不良結(jié)果；此外，光刻工藝的另一個(gè)問題是缺陷，在制程中各種污染物會(huì)造成缺陷。例如， 在提供的晶圓表面涂覆光刻膠時(shí)，用于噴涂光刻膠的光刻膠噴頭勻速地在晶圓表面移動(dòng)， 并向晶圓表面均勻地噴涂光刻膠；光刻膠噴頭在噴涂光刻膠過程中，長(zhǎng)時(shí)間處于光刻膠形成的噴霧環(huán)境中，其周圍會(huì)形成大量結(jié)晶顆粒，該結(jié)晶顆粒如果不及時(shí)清除，不慎掉落后續(xù)噴涂光刻膠的晶圓上，輕則造成光刻膠變形，重則引起晶圓劃傷問題，并且光刻工藝在一片晶圓的生產(chǎn)過程中要完成5層至20層甚至更多，故，結(jié)晶顆粒如不及時(shí)清理，產(chǎn)生的污染問題會(huì)進(jìn)一步放大。實(shí)用新型內(nèi)容[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種光刻膠噴頭的清洗裝置，以減少噴涂光刻膠過程中引入的雜質(zhì)，降低光刻工藝中污染物引起的缺陷問題，提高光刻工藝的質(zhì)量。[0005]為解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種光刻膠噴頭的清洗裝置，包括清洗槽、至少一個(gè)沖洗管以及至少一個(gè)排液管，所述清洗槽內(nèi)壁形狀與所述光刻膠噴頭的形狀適配；所述沖洗管設(shè)置于清洗槽上，所述沖洗管的出液管口朝向所述光刻膠噴頭；所述排液管設(shè)置于所述清洗槽底部。[0006]進(jìn)一步的，所述沖洗管的出液管口位于所述清洗槽的側(cè)壁中部。[0007]進(jìn)一步的，在所述清洗槽上相對(duì)位置設(shè)置有兩個(gè)所述沖洗管。[0008]進(jìn)一步的，所述沖洗管的直徑為2mm 5mm。[0009]進(jìn)一步的，所述排液管的直徑大于所述沖洗管的直徑。[0010]進(jìn)一步的，所述排液管的直徑小于所述沖洗管的直徑[0011]進(jìn)一步的，所述清洗裝置的材質(zhì)為特氟龍。[0012]進(jìn)一步的，所述清洗裝置還包括用于烘干所述光刻膠噴頭的烘干裝置，所述烘干裝置設(shè)置于清洗槽上。[0013]相比于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型所提供的光刻膠噴頭的清洗裝置設(shè)置在光刻設(shè)備上，在對(duì)晶圓噴涂光刻膠之前，先清洗去除位于光刻膠噴頭周圍殘留雜質(zhì)，從而減少了噴涂光刻膠過程中引入的雜質(zhì)，降低了光刻工藝中污染物引起的缺陷問題，提高了光刻工藝的質(zhì)量。


[0014]圖1為本實(shí)用新型第一實(shí)施例中光刻膠噴頭的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。[0015]圖2為本實(shí)用新型第二實(shí)施例中光刻膠噴頭的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。[0016]圖3為本實(shí)用新型第三實(shí)施例中光刻膠噴頭的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
[0017]為使本實(shí)用新型的內(nèi)容更加清楚易懂，以下結(jié)合說明書附圖，對(duì)本實(shí)用新型的內(nèi)容作進(jìn)一步說明。當(dāng)然本實(shí)用新型并不局限于該具體實(shí)施例，本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員所熟知的一般替換也涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。[0018]其次，本實(shí)用新型利用示意圖進(jìn)行了詳細(xì)的表述，在詳述本實(shí)用新型實(shí)例時(shí)，為了便于說明，示意圖不依照一般比例局部放大，不應(yīng)以此作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。[0019]實(shí)施例一[0020]圖1為本實(shí)用新型第一實(shí)施例中光刻膠噴頭的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，本實(shí)施例提供一種光刻膠噴頭的清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗槽101、至少一個(gè)沖洗管103以及至少一個(gè)排液管105。[0021]所述清洗槽101的內(nèi)壁形狀與所述光刻膠噴頭100的形狀相適配，且所述清洗槽 101的內(nèi)壁環(huán)繞所述光刻膠噴頭100設(shè)置，并且形狀與光刻膠噴頭100形狀近似，但大于所述光刻膠噴頭100的尺寸，所述清洗槽101的內(nèi)壁形狀能夠提高沖洗光刻膠噴頭100的效率，并防止沖洗過程中，沖洗液濺出造成環(huán)境二次污染。[0022]所述沖洗管103設(shè)置于清洗槽101上，所述沖洗管103的出液管口朝向所述光刻膠噴頭100 ；較佳的，所述沖洗管103的出液管口位于所述清洗槽的側(cè)壁中部，能夠盡量全面地沖洗光刻膠噴頭100的周圍，并提高清洗的效率，所述沖洗管103的直徑為2mm 5mm， 可以充分清洗光刻膠噴頭100，且不會(huì)過多浪費(fèi)清洗液；所述沖洗管103的數(shù)量不限。其中， 所述沖洗管103流出的沖洗液例如為丙烯或去離子水。[0023]所述排液管105設(shè)置于所述清洗槽101底部。優(yōu)選地，所述排液管105的直徑大于或等于所述沖洗管105的直徑，實(shí)現(xiàn)所述沖洗管103的總流入量與所述排液管105的流出量相當(dāng)，避免沖洗液積留于清洗槽101內(nèi)。當(dāng)然，排液管105的直徑也可以小于所述沖洗管105的直徑，可通過設(shè)置多個(gè)排液管105來避免沖洗液積留于清洗槽101內(nèi)。[0024]較佳地，所述清洗裝置的材質(zhì)為常見且不易被腐蝕的特氟龍材料或其他不會(huì)被腐蝕產(chǎn)生雜質(zhì)污染的材料。[0025]實(shí)施例二[0026]如圖2所示，其為本實(shí)用新型第二實(shí)施例中光刻膠噴頭的清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，與實(shí)施一不同之處在于，在本實(shí)施例中所述清洗槽101上相對(duì)位置設(shè)置有兩個(gè)沖洗管 103a、103b，能夠較佳地實(shí)現(xiàn)光刻膠噴頭100的全面清洗，此外沖洗管103的數(shù)量可以為四個(gè)或其他，能夠?qū)崿F(xiàn)光刻膠噴頭100全面清洗的數(shù)量都在本實(shí)用新型的思想范圍內(nèi)。[0027]實(shí)施例三[0028]如圖3所示，其為本實(shí)用新型第三實(shí)施例中光刻膠噴頭的清洗裝置的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)示意圖，與上述實(shí)施例不同之處在于，所述清洗裝置還可以設(shè)置烘干裝置107，所述烘干裝置 107設(shè)置于所述清洗槽101上。當(dāng)沖洗管103完成對(duì)光刻膠噴頭100的沖洗后，光刻膠噴頭 100可以向上移出一些，則所述烘干設(shè)備107對(duì)光刻膠噴頭100實(shí)現(xiàn)快速烘干，節(jié)約工藝時(shí)間，并避免光刻膠噴頭100上殘留的沖洗液對(duì)光刻膠噴涂造成污染。[0029]綜上所述，本實(shí)用新型提供一種光刻膠噴頭的清洗裝置，設(shè)置在光刻設(shè)備上，在對(duì)晶圓噴涂光刻膠之前，先清洗去除位于光刻膠噴頭周圍殘留雜質(zhì)，從而減少了噴涂光刻膠過程中引入的雜質(zhì)，降低光刻工藝中污染物引起的缺陷問題，提高光刻工藝的質(zhì)量。[0030]雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本實(shí)用新型，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，包括清洗槽，其內(nèi)壁形狀與所述光刻膠噴頭的形狀適配；至少一個(gè)沖洗管，設(shè)置于清洗槽上，所述沖洗管的出液管口朝向光刻膠噴頭；至少一個(gè)排液管，設(shè)置于所述清洗槽底部。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，所述沖洗管的出液管口位于所述清洗槽的側(cè)壁中部。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，在所述清洗槽上相對(duì)位置設(shè)置有兩個(gè)所述沖洗管。
4.如權(quán)利要求1所述的光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，所述沖洗管的直徑為 2mm 5mm0
5.如權(quán)利要求1或4所述的光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，所述排液管的直徑大于所述沖洗管的直徑。
6.如權(quán)利要求1或4所述的光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，所述排液管的直徑小于所述沖洗管的直徑。
7.如權(quán)利要求1所述的光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置的材質(zhì)為特氟龍。
8.如權(quán)利要求1所述的光刻膠噴頭的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括用于烘干所述光刻膠噴頭的烘干裝置，所述烘干裝置設(shè)置于清洗槽上。
專利摘要本實(shí)用新型一種光刻膠噴頭的清洗裝置，包括清洗槽，其內(nèi)壁形狀與所述光刻膠噴頭的形狀適配；至少一個(gè)沖洗管，設(shè)置于清洗槽上，所述沖洗管的出液管口朝向所述光刻膠噴頭；排液管，設(shè)置于所述清洗槽底部。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型提供一種光刻膠噴頭的清洗裝置，設(shè)置在光刻設(shè)備上，在對(duì)晶圓噴涂光刻膠之前，先清洗去除位于光刻膠噴頭周圍殘留雜質(zhì)，從而減少了噴涂光刻膠過程中引入的雜質(zhì)，降低光刻工藝中污染物引起的缺陷問題，提高光刻工藝的質(zhì)量。
文檔編號(hào)B08B3/02GK202277978SQ20112039579
公開日2012年6月20日 申請(qǐng)日期2011年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月17日
發(fā)明者丁海濤 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司