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有機涂膜剝離用組合物及剝離有機涂膜的方法

文檔序號:1491820閱讀:431來源:國知局

專利名稱::有機涂膜剝離用組合物及剝離有機涂膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及一種有機涂膜剝離用組合物,且特別涉及用于剝離液晶顯示器和半導(dǎo)體器件中作為保護膜或絕緣膜的有機涂膜的組合物及使用該組合物的剝離方法。
背景技術(shù)
:蝕刻過程可以說是整個液晶顯示器和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的平版印刷工藝(lithographicprocess)中最重要的步驟之一。一般而言,光致抗蝕劑掩模上的組件圖案先通過平版印刷工藝轉(zhuǎn)移到光致抗蝕劑上,然后再利用蝕刻過程來完成整個圖案轉(zhuǎn)移到薄膜的最終目的。這層經(jīng)過平版印刷和蝕刻的薄膜將成為液晶顯示器或半導(dǎo)體組件的一部份。舉例來說,在制造液晶顯示器的常見方法中,通常于包括金屬電極的玻璃基板上形成聚酰亞胺(PI)前體的有機涂膜,然后在此有機涂膜上形成圖案化光致抗蝕劑掩模,再對曝光的有機涂膜進行蝕刻,接著在玻璃^L上采用光致抗蝕劑剝離液,以清除光致抗蝕劑掩模,從而形成蝕刻的聚酰亞胺前體。然后,進行聚酰亞胺前體的加熱處理,以制得聚酰亞胺涂膜。聚酰亞胺是用途極廣的耐高溫塑料,可用作絕緣涂料,也可防止基板上的金屬層氧化。當以此平版印刷工藝制造的組件存在缺陷時,如半導(dǎo)體封裝過程中鋁導(dǎo)線上的保護膜太薄或太厚,或是導(dǎo)電線太窄或太寬時,可將該保護膜去除,以便重新形成保護膜,使得包括金屬電極的玻璃基板可以繼續(xù)回收再利用。從玻璃M上剝離蝕刻的有機涂膜的常規(guī)方法利用諸如加熱的氫氧化鈉水溶液或肼水溶液的危險性堿液。雖然使用堿液可完全剝離有機涂膜,但是必須充分控制剝離時間。此外,某些玻璃M會因堿液而溶出,造成金屬層腐蝕。
發(fā)明內(nèi)容為了消除上述缺點,本發(fā)明的主要目的在于提供一種有機涂膜剝離用組合物,其可以安全、有效地從玻璃基板上去除有機涂膜,并且不會對金屬基板表面造成損傷。本發(fā)明的又一目的在于提供一種剝離有機涂膜的方法,其包括將包括有機涂膜的金屬基板與本發(fā)明的有機涂膜剝離用組合物接觸以自該基板去除有機涂膜,并且不會對金屬^L表面造成損傷。圖l顯示在基板上的蝕刻的聚酰亞胺。圖2顯示圖1的聚酰亞胺以常規(guī)組合物去除后的狀態(tài)。圖3顯示圖1的聚酰亞胺以本發(fā)明實施例1的組合物去除后的狀態(tài)。具體實施例方式本發(fā)明的有機涂膜剝離用組合物以組合物總重量計包含約5重量%至約90重量%的極性溶劑、約0.01重量%至約50重量%的堿性化合物及約100ppm至約15重量%的金屬腐蝕抑制劑??赏ㄟ^本發(fā)明有機涂膜剝離用組合物有效剝離的有機涂膜包括但不限于聚酰亞胺涂膜,由丙烯酸樹脂、酚搭清漆樹脂、環(huán)氧樹脂或聚乙烯醇樹脂形成的涂膜,優(yōu)選為聚酰亞胺涂膜。本發(fā)明所使用的極性溶劑是與有機涂膜具有優(yōu)異的親和性的溶劑,優(yōu)選為非質(zhì)子性水性有機溶劑,包括但不限于二醇類化合物、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、二甲亞砜(DMSO)或其混合物。適用于本發(fā)明中作為極性溶劑的二醇類化合物優(yōu)選是卡必醇及其衍生物,包括但不限于二甘醇單丁醚(BDG)、二甘醇單乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇二丁醚、二甘醇醋酸酯單丁醚或其混合物。本發(fā)明所使用的極性溶劑的含量以組合物總重量計為約5重量%至約90重量%,優(yōu)選為約20重量%至約85重量%。本發(fā)明所使用的堿性化合物優(yōu)選選自由氨基醇化合物、季銨化合物及其混合物所組成的群。5適用于本發(fā)明中作為堿性化合物的氨基醇化合物優(yōu)選選自由單乙醇胺(MEA)、N-甲基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-甲基畫N國乙基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺及其混合物所組成的群。適用于本發(fā)明中作為堿性化合物的季銨化合物優(yōu)選選自由氫氧化三曱基苯銨、千基三甲基氫氧化銨、氫氧化膽堿、四曱基氫氧化銨(TMAH)、四丙基氫氧化銨及其混合物所組成的群。本發(fā)明所使用的堿性化合物的含量以組合物總重量計為約0.01重量%至約50重量%,優(yōu)選為約O.l重量%至約50重量%。本發(fā)明所使用的金屬腐蝕抑制劑優(yōu)選選自由苯并三唑衍生物、糖醇類衍生物、有機酚類化合物及其混合物所組成的群。適用于本發(fā)明中作為金屬腐蝕抑制劑的糖醇類衍生物優(yōu)選選自由麥芽糖醇、聚糊精(polydextrose)、木糖醇、乳糖醇、甘露醇、麥芽糖醇糖漿、異麥芽糖醇(isomaltitol)、山梨醇及其混合物所組成的群。酚。本發(fā)明所使用的金屬腐蝕抑制劑的含量以組合物總重量計為約100ppm至約15重量%,優(yōu)選為約500ppm至約12重量%。本發(fā)明的有機涂膜剝離用組合物可視需要進一步包括此
技術(shù)領(lǐng)域
中普通技術(shù)人員所熟知的其它組分,例如降低表面張力或防止有機涂膜與14^附著的表面活性劑。由于極性溶劑及堿性化合物與有機涂膜具有優(yōu)異的親和性,因此本發(fā)明組合物可有效地將有機涂膜自玻璃基板剝離。此外,為避免玻璃基板上的金屬層被蝕刻,本發(fā)明組合物包含金屬腐蝕抑制劑,其可防止對金屬基板表面造成損傷,使得經(jīng)有機涂膜剝離后的金屬基板可以再回收利用。本發(fā)明還提供一種剝離有機涂膜的方法,其包括將包括有機涂膜的金屬141與本發(fā)明的有機涂膜剝離用組合物接觸以自該基敗去除有機涂膜,其不會對金屬基板表面造成損傷。在該方法中,優(yōu)選的剝離處理溫度是為約4ox:至約9ox:,優(yōu)選的剝離處理時間為約5分鐘至約30分鐘。6本發(fā)明參照下列非限制性實施例詳細說明。本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員可輕易達成的修改和改變均包括于本說明書公開內(nèi)容和所附權(quán)利要求書之內(nèi)。實施例(1)有機涂膜剝離效果測試A.配制如表l的下列本發(fā)明有機涂膜剝離用組合物。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>B.將含有蝕刻的聚酰亞胺的金屬基板浸漬于此聚酰亞胺剝離組合物中約5分鐘至約30分鐘,溫度為約40'C至約卯1C。結(jié)果如表2所示。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>c.用去離子水清洗金屬M。D.以掃描電子顯微鏡(SEM)觀察以檢查金屬基板上是否有聚酰亞胺的殘留。圖l至圖3為掃描電子顯孩t鏡照片。圖1顯示在M上的蝕刻的聚酰亞胺;圖2為圖1的聚酰亞胺以常規(guī)組合物去除后的狀態(tài),此照片顯示蝕刻的聚酰亞胺未被完全去除;圖3為圖1的聚酰亞胺以本發(fā)明實施例1的組合物去除后的狀態(tài),此照片清楚顯示良好的聚酰亞胺去除效果。(2)金屬腐蝕測試A.配制含有金屬腐蝕抑制劑(如糖醇類衍生物或有機酚類化合物)和不含金屬腐蝕抑制劑的聚酰亞胺剝離用組合物。B.將含有蝕刻的聚酰亞胺的金屬基板浸漬于此聚酰亞胺剝離組合物中約5分鐘至約30分鐘,溫度為約4C至約90X:。C.用去離子水清洗金屬基板。D.以四點探針方法檢測m上金屬導(dǎo)體的蝕刻率。實驗結(jié)果如下表3所示。與使用不包含金屬腐蝕抑制劑的組合物相比,使用本發(fā)明包含金屬腐蝕抑制劑的組合物來剝離有機涂膜可有效降低對金屬基板的蝕刻率,以避免造成金屬基板表面的損傷。表3蝕刻率(埃/分鐘)包含抑制劑的組合物<10不包含抑制劑的組合物>10000雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施方案公開如上,但其并非用以限定本發(fā)明。對本領(lǐng)域熟練技術(shù)人員而言顯而易見的是,在不脫離本發(fā)明的精神與范圍內(nèi),可以做些許的更改與潤飾。因此本發(fā)明的保護范圍應(yīng)由后附的權(quán)利要求書限定。8權(quán)利要求1.一種有機涂膜剝離用組合物,其以組合物總重量計包含約5重量%至約90重量%的極性溶劑、約0.01重量%至約50重量%的堿性化合物及約100ppm至約15重量%的金屬腐蝕抑制劑。2.如權(quán)利要求l所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述有機涂膜是聚酰亞胺涂膜。3.如權(quán)利要求l所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述極性溶劑選自由二醇類化合物、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、N,N-二曱基甲酰胺(DMF)、二甲亞砜(DMSO)及其混合物所組成的群。4.如權(quán)利要求3所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述二醇類化合物選自由二甘醇單丁醚(BDG)、二甘醇單乙醚、二甘醇二曱醚、二甘醇二乙醚、二甘醇二丁醚、二甘醇醋酸酯單丁醚及其混合物所組成的群。5.如權(quán)利要求l所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述堿性化合物選自由氨基醇化合物、季銨化合物及其混合物所組成的群。6.如權(quán)利要求5所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述氨基醇化合物選自由單乙醇胺(MEA)、N-甲基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N-甲基-N-乙基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺及其混合物所組成的群。7.如權(quán)利要求5所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述季銨化合物選自由氫氧化三甲基苯銨、節(jié)基三甲基氫氧化銨、氫氧化膽堿、四曱基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨及其混合物所組成的群。8.如權(quán)利要求l所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述金屬腐蝕抑制劑選自由苯并三唑衍生物、糖醇類衍生物、有機酚類化合物及其混合物所組成的群。9.如權(quán)利要求8所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述糖醇類衍生物選自由麥芽糖醇、聚糊精、木糖醇、乳糖醇、甘露醇、麥芽糖醇糖漿、異麥芽糖醇、山梨醇及其混合物所組成的群。10.如權(quán)利要求8所述的有機涂膜剝離用組合物,其中所述有機酚類化合物是兒茶酚。11.一種剝離有機涂膜的方法,其包括將包括有機涂膜的金屬I41與如權(quán)利要求i至io中任一項所述的有機涂膜剝離用組合物接觸,以自所述基板去除有機涂膜。全文摘要本發(fā)明提供一種自基板剝離有機涂膜的組合物,其以組合物總重量計包含約5重量%至約90重量%的極性溶劑、約0.01重量%至約50重量%的堿性化合物及約100ppm至約15重量%的金屬腐蝕抑制劑。使用本發(fā)明組合物可以有效地去除有機涂膜,并且不會對金屬基板表面造成損傷。文檔編號C11D11/00GK101578341SQ200880001687公開日2009年11月11日申請日期2008年1月7日優(yōu)先權(quán)日2008年1月7日發(fā)明者涂勝宏,王儷穎,蘇國禎申請人:巴斯夫歐洲公司
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