專利名稱：一種硅片清洗劑的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光利用技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
在光伏產(chǎn)業(yè)、硅片生產(chǎn)過程中需將硅片進(jìn)行清洗，才能生產(chǎn)出 合格產(chǎn)品。目前此類清洗劑采用磷酸三鈉、氫氧化鈉、表面活性劑、丙酮等
混合而成，由于PH值高，不利于硅片的長時間的浸泡清洗，容易出現(xiàn)花斑 現(xiàn)象，含有磷酸三鈉，不利于環(huán)境保護(hù)，而且在濃縮液中的溶解度小，為提 高在其中的溶解度，因而時常會采用雙組分配方，給使用帶來不便。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于發(fā)明一種PH值低、不含有機(jī)溶劑、無刺激性氣味、成
本低的清洗劑的生產(chǎn)方法 包括以下步驟-
1) 將硼酸鈉和焦磷酸鉀混合溶于水中；
2) 將氫氧化鉀溶于水中；
3) 分別將椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛垸基苯酚聚氧乙烯醚溶于水 中，再將兩溶液均勻混合；
4) 將以上三種溶液均勻混合，即成硅片清洗劑。
本發(fā)明方法簡單、易于生產(chǎn)，可有效降低生產(chǎn)成本，且生成的清洗劑原 液可長期保存、運(yùn)輸。實際應(yīng)用時，只需以潔凈的水稀釋即可。發(fā)明產(chǎn)品不 含任何有機(jī)溶劑，無任何刺激性氣味，工作液的PH值在9 11，并且清洗效 率高，使用周期長，對硅片無腐蝕性等特點(diǎn)。
3另，本發(fā)明用于溶解硼酸鈉和焦磷酸鉀的水溫為60 80°C。 本發(fā)明用于溶解氫氧化鉀的水為常溫。
本發(fā)明用于溶解椰子油垸基醇酰胺磷酸酯和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚 水為常溫。
本發(fā)明步驟4)的混合溫度為常溫。
具體實施例方式
一、 調(diào)配步驟
1、 將1 2g硼酸鈉和3 5g焦磷酸鉀混合后溶于100ml 60 8(TC的溫 水中，攪拌均勻，制成溶液A。
2、 常溫條件下，將1 2g氫氧化鉀溶于100ml水中，并攪拌均勻，制 成溶液B。
3、 分別先將4 6g椰子油垸基醇酰胺磷酸酯(6503)、 3 5g辛烷基苯 酚聚氧乙烯醚(TX-10)溶于300ml水中，然后將兩液混合，并攪拌均勻， 制成溶液C。
4、 將上述三份溶液A、 B、 C混合，再加入500ml水，并攪拌均勻即成 1000ml硅片清洗劑原液。
二、 應(yīng)用
取10 ml硅片清洗劑原液和清水190ml混合并攪拌均勻用于硅片進(jìn)行清洗。
三、 效果
經(jīng)試驗，本發(fā)明硅片清洗劑可長時間浸泡清洗，不出現(xiàn)花斑現(xiàn)象。工作 環(huán)境環(huán)保，在實際使用過程中，單位清洗成本在1分錢左右。
權(quán)利要求
1、一種硅片清洗劑的制備方法，其特征在于包括以下步驟1)將硼酸鈉和焦磷酸鉀混合溶于水中；2)將氫氧化鉀溶于水中；3)分別將椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚溶于水中，再將兩溶液均勻混合；4)將以上三種溶液均勻混合，即成硅片清洗劑。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述硅片清洗劑的制備方法，其特征在于用于溶解硼 酸鈉和焦磷酸鉀的水溫為60 80°C。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述硅片清洗劑的制備方法，其特征在于用于溶解氫 氧化鉀的水為常溫。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述硅片清洗劑的制備方法，其特征在于用于溶解椰 子油垸基醇酰胺磷酸酯和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚水為常溫。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述硅片清洗劑的制備方法，其特征在于步驟4)的 混合溫度為常溫。
全文摘要
一種硅片清洗劑的制備方法，涉及光利用技術(shù)領(lǐng)域，先將硼酸鈉和焦磷酸鉀混合溶于水中，再將氫氧化鉀溶于水中，再分別將椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、辛烷基苯酚聚氧乙烯醚溶于水中，再將兩溶液均勻混合，最后將以上三種溶液均勻混合，即成硅片清洗劑。本發(fā)明方法簡單、易于生產(chǎn)，可有效降低生產(chǎn)成本，且生成的清洗劑原液可長期保存、運(yùn)輸，產(chǎn)品不含任何有機(jī)溶劑，無任何刺激性氣味，工作液的pH值在9～11，并且清洗效率高，使用周期長，對硅片無腐蝕性等特點(diǎn)。本發(fā)明與傳統(tǒng)的硅片清洗劑相比單位成本下降近60％。
文檔編號C11D1/83GK101602984SQ20081012322
公開日2009年12月16日 申請日期2008年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月13日
發(fā)明者唐玉冰 申請人:唐玉冰