08的上部適于與線(xiàn)圈506接合，并且支架506的下部適于與床502上的凹部或凸耳接合，以使得在組裝時(shí)線(xiàn)圈508被準(zhǔn)確地定位，從而在使用中放射治療波束512的中心高強(qiáng)度部分穿過(guò)線(xiàn)圈508的中心，并且線(xiàn)圈的邊緣周?chē)拿舾须娮悠骷诓ㄊ?10的外部強(qiáng)度較低部分中(或完全在波束之外)。支架508和/或線(xiàn)圈506設(shè)有MR標(biāo)記物，以使得它們對(duì)MR掃描儀可見(jiàn)，如上文所述那樣。
[0024]圖5示出了線(xiàn)圈和框架的不同布置。圖5a示出了大型前線(xiàn)圈框架，其中，框架508a適于遵循內(nèi)膛504a的輪廓(以便使可容納的患者的體型最大化)并且將線(xiàn)圈506a支撐在體型較大的患者上方。圖5b示出了用于中等體型患者的中型前線(xiàn)圈框架508b，其中，框架508b適于遵循內(nèi)膛504b的輪廓并且明顯小于框架508a，并且(線(xiàn)圈506a和506b是相同的)它具有在患者側(cè)面上方延伸的水平部分。圖5c是用于體型較小的患者的小型前線(xiàn)圈框架508c。圖5d示出了成角度的前線(xiàn)圈框架508d，其中(如在右側(cè)圖中可清楚看出的)框架具有梯形的高度，以使得剛性線(xiàn)圈506d能夠更緊密地遵循具有鼓起的胃部的患者的輪廓。圖5e示出了加長(zhǎng)的前線(xiàn)圈框架508e，其中，線(xiàn)圈506e比前面的圖中更大，以便在腫瘤或待治療的區(qū)域在治療期間偏移時(shí)允許床502e縱向移動(dòng)，這避免了對(duì)框架508e和線(xiàn)圈506e手動(dòng)地重新定位的必要性。其它框架和線(xiàn)圈組合將不時(shí)地被使用，因此該列表不是窮舉性的。
[0025]圖5a至圖5e中的每一個(gè)框架略有不同，并且旨在用于具體的治療計(jì)劃中。如上所述，系統(tǒng)2可自動(dòng)地檢測(cè)、識(shí)別和調(diào)整對(duì)特定框架/線(xiàn)圈組合的波束的影響。如果治療計(jì)劃包括預(yù)期使用的特定組合的細(xì)節(jié)，但使用的是不同的組合(意外地，例如當(dāng)框架看起來(lái)相似(508b和508c)時(shí))，TPS可檢測(cè)與預(yù)定計(jì)劃的偏差，并且進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整，以便患者接受正確的輻射劑量。備選地或另外地，TPS可提示操作者其檢測(cè)到MRL內(nèi)存在的裝置不同于已在預(yù)定治療計(jì)劃中詳述的裝置。然而，這會(huì)浪費(fèi)處理器能力；它可以更快地將支架替換成正確的支架，但即使這樣也會(huì)浪費(fèi)應(yīng)用于治療的時(shí)間。因此，線(xiàn)圈506和支架508設(shè)有可見(jiàn)標(biāo)記物(符號(hào)、文字、色彩、條形碼或它們的組合)，以使得哪個(gè)線(xiàn)圈/框架在使用對(duì)于操作者將顯而易見(jiàn)，從而可以將線(xiàn)圈/框架與預(yù)定的治療計(jì)劃對(duì)照來(lái)證明其是正確的，并且避免浪費(fèi)寶貴的系統(tǒng)時(shí)間和/或處理器努力。
[0026]當(dāng)然應(yīng)當(dāng)理解，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對(duì)上述實(shí)施例做出許多變型。例如，放射治療設(shè)備可包括多于一個(gè)治療輻射源和多于一個(gè)相應(yīng)的多葉準(zhǔn)直儀?？纱嬖谟糜谔囟ǖ难b置/附件的僅一種MR標(biāo)記物，該標(biāo)記物適于實(shí)現(xiàn)識(shí)別功能和指示位置與取向。當(dāng)存在RF線(xiàn)圈和支撐框架時(shí)，與線(xiàn)圈相關(guān)聯(lián)的敏感的電子器件可位于框架中，以便將它們盡可能遠(yuǎn)離最高強(qiáng)度的輻射(其朝向波束512的中心)放置，其中在線(xiàn)圈和框架被組裝以便使用時(shí)進(jìn)行必要的電連接?？梢允褂镁哂泄鈱W(xué)掃描儀的投影系統(tǒng)，和/或可存在帶色彩編碼的部件(凸耳、凹部等)，以用于確保正確的框架或其它裝置相對(duì)于患者支撐器被正確地定位。(多個(gè))標(biāo)記物和/或(多個(gè))MR標(biāo)記物可定位在設(shè)置在裝置上的可見(jiàn)標(biāo)記附近，或者它們與可見(jiàn)標(biāo)記處于已知的位置關(guān)系，從而可以將該信息包括在TPS數(shù)據(jù)庫(kù)中。裝置可以是用于患者支撐器的墊或覆蓋物，并且它可以在除了 MRL之外的系統(tǒng)(例如，CT掃描儀)中使用，從而可以利用MR標(biāo)記物采集患者的非MRI圖像，該MR標(biāo)記物在這樣的圖像中可見(jiàn)，并且這些圖像可以直接與來(lái)自MR掃描儀的那些相比較，因?yàn)榛颊咴诿糠N情況下定位在相同的墊上，或者該墊可以?xún)H用于非MR系統(tǒng)，但被構(gòu)造成使得其(多個(gè))MR標(biāo)記物的定位和/或取向方式類(lèi)似于設(shè)置在患者隨后被掃描/治療的MRL中的患者支撐器內(nèi)部或之上的(多個(gè))MR標(biāo)記物。雖然上文描述了不同的變型或備選布置，但應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明的實(shí)施例可在任何合適的組合中結(jié)合這樣的變型和/或備選方案。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于與放射治療系統(tǒng)一起使用的系統(tǒng)，包括: 掃描儀，其用于在成像體積內(nèi)產(chǎn)生至少一個(gè)對(duì)象的圖像； 治療輻射源，其適于將輻射束傳送至所述對(duì)象或每個(gè)對(duì)象中； 治療計(jì)劃系統(tǒng)(TPS)，其用于控制所述源以按照用于治療患者的預(yù)定計(jì)劃并按照來(lái)自所述成像體積的所述掃描儀的所述對(duì)象或每個(gè)對(duì)象的圖像來(lái)傳送輻射束；以及 在所述成像體積內(nèi)和/或附近的一個(gè)或多個(gè)裝置， 其中，所述裝置或每個(gè)裝置包括適于對(duì)于所述掃描儀可見(jiàn)的至少一個(gè)標(biāo)記物和適于對(duì)于MR掃描儀可見(jiàn)的至少一個(gè)MR標(biāo)記物，并且其中，所述系統(tǒng)還包括包含數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫(kù)，所述數(shù)據(jù)包括與裝置相關(guān)聯(lián)的所述標(biāo)記物和所述裝置的至少幾何及密度特性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述放射治療設(shè)備為磁共振(MR)引導(dǎo)的放射治療系統(tǒng)，并且所述掃描儀為MR掃描儀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)，其中，對(duì)于所述掃描儀可見(jiàn)的所述標(biāo)記物或每個(gè)標(biāo)記物也對(duì)于MR掃描儀可見(jiàn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)據(jù)庫(kù)包含用于一系列不同裝置的數(shù)據(jù)。
5.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的系統(tǒng)，包括多于一個(gè)裝置，其中至少一個(gè)裝置包括多個(gè)MR標(biāo)記物。
6.一種用于與根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的系統(tǒng)一起使用的裝置，其中，多個(gè)MR標(biāo)記物在空間上設(shè)置在所述裝置的表面之內(nèi)和/或周?chē)?br>7.一種用于與根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的系統(tǒng)一起使用的裝置，其中，所述裝置載有可見(jiàn)的識(shí)別和/或定位標(biāo)記。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，所述MR標(biāo)記物或每個(gè)MR標(biāo)記物相對(duì)于所述可見(jiàn)的識(shí)別/定位標(biāo)記中的一個(gè)或多個(gè)而定位于所述裝置中或所述裝置上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其用于與根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)一起使用，其中，所述數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)的所述數(shù)據(jù)包括至少一個(gè)MR標(biāo)記物相對(duì)于至少一個(gè)可見(jiàn)的識(shí)別標(biāo)記的位置。
10.一種用于與根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的系統(tǒng)一起使用的裝置，包括基本上相似的至少兩個(gè)MR標(biāo)記物。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述TPS適于使用所述數(shù)據(jù)庫(kù)中的所述幾何和/或密度特性來(lái)確定所述裝置在所述空間中對(duì)所述輻射束的影響，并且來(lái)調(diào)整所述輻射傳送，以便消除所述裝置對(duì)所述預(yù)定治療計(jì)劃的影響。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至5或11中的任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)，其中，所述源為線(xiàn)性加速器。
13.一種用于與包括MR掃描儀的MR引導(dǎo)的放射治療系統(tǒng)的治療計(jì)劃系統(tǒng)一起使用的數(shù)據(jù)庫(kù)，對(duì)于用于在所述MR掃描儀內(nèi)使用的一系列裝置中的至少一個(gè)來(lái)說(shuō)，所述數(shù)據(jù)庫(kù)包括:通過(guò)被包括于所述裝置中或所述裝置上并且對(duì)于所述MR掃描儀可見(jiàn)的一個(gè)或多個(gè)MR標(biāo)記物來(lái)識(shí)別所述裝置的數(shù)據(jù)、以及所述裝置的至少幾何和密度特性。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的數(shù)據(jù)庫(kù)，其包含用于一系列不同裝置的數(shù)據(jù)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的數(shù)據(jù)庫(kù)，其中，所述數(shù)據(jù)庫(kù)包括根據(jù)所述MR標(biāo)記物的性質(zhì)和/或位置而與裝置的取向關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)。
16.一種填充根據(jù)權(quán)利要求13、14或15中的任一項(xiàng)所述的數(shù)據(jù)庫(kù)的方法，包括:掃描包括一個(gè)或多個(gè)MR標(biāo)記物的裝置以確定其幾何和/或密度特性、將這些特性與所述MR標(biāo)記物的性質(zhì)和/或位置關(guān)聯(lián)、以及將這種數(shù)據(jù)包括在所述數(shù)據(jù)庫(kù)中。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括將多個(gè)MR標(biāo)記物以預(yù)定的空間關(guān)系設(shè)置在所述裝置的所述表面之內(nèi)和/或周?chē)某醪讲襟E。
【專(zhuān)利摘要】一種用于與放射治療系統(tǒng)一起使用的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：掃描儀(4)，其用于在成像體積內(nèi)產(chǎn)生至少一個(gè)對(duì)象的圖像；治療輻射源(6)，其適于將輻射束傳送至所述對(duì)象或每個(gè)對(duì)象中；治療計(jì)劃系統(tǒng)(TPS)，其用于控制所述源以按照用于治療患者的預(yù)定計(jì)劃和來(lái)自成像體積的掃描儀的所述或每個(gè)對(duì)象的圖像來(lái)傳送輻射；以及在所述空間內(nèi)和/或附近的一個(gè)或多個(gè)裝置(28)，其中，所述或每個(gè)裝置(28)包括：至少一個(gè)標(biāo)記物(30)，所述至少一個(gè)標(biāo)記物(30)適于對(duì)掃描儀可見(jiàn)并且準(zhǔn)確地識(shí)別所述裝置(28)和其相對(duì)于所述空間的位置；以及至少一個(gè)MR標(biāo)記物，其適于對(duì)MR掃描儀可見(jiàn)，并且其中，所述系統(tǒng)還包括包含數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫(kù)，該數(shù)據(jù)包括與所述裝置相關(guān)聯(lián)的(多個(gè))標(biāo)記物和所述裝置的至少幾何及密度特性。本發(fā)明涵蓋了數(shù)據(jù)庫(kù)、以及用面向裝置的數(shù)據(jù)填充數(shù)據(jù)庫(kù)的方法。
【IPC分類(lèi)】A61N5-10, A61B5-055
【公開(kāi)號(hào)】CN104548386
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410574608
【發(fā)明人】C.C.克諾克斯, N.溫切斯特, D.A.羅伯茨, J.斯蒂夫
【申請(qǐng)人】伊利克塔股份有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年10月24日
【公告號(hào)】EP2865418A1, US20150119625