專(zhuān)利名稱(chēng)：Aer濕式清洗指示劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請(qǐng)涉及用于監(jiān)視清洗處理的污跡標(biāo)規(guī)。
背景技術(shù)：
污染的醫(yī)療儀器和設(shè)備的充分清洗對(duì)于安全滅菌和消毒是必不可少的。在美國(guó)公開(kāi)的專(zhuān)利申請(qǐng)2004-011841381中顯示了自動(dòng)清洗處理的一個(gè)例子，其作為參考結(jié)合于此。清洗標(biāo)規(guī)，含有一種表示自然發(fā)生污跡的已知量的干燥污跡底物，有時(shí)可用于檢查自動(dòng)清洗過(guò)程的效果。然而，優(yōu)選地是在醫(yī)療儀器使用和自動(dòng)清洗過(guò)程之間的時(shí)期段中將醫(yī)療儀器通過(guò)諸如浸泡保持在濕的狀態(tài)中。也可在使用后立即對(duì)其進(jìn)行清洗。典型的，污跡標(biāo)規(guī)應(yīng)用干燥的污跡。然而，這不能精確地復(fù)制清洗過(guò)程之前已經(jīng)浸泡的儀器上的污跡。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的用于監(jiān)視醫(yī)療儀器清洗處理的清洗指示劑包含底物；底物上預(yù)定量的濕污跡；和包繞該濕污跡的可去除的蒸氣不能透過(guò)的屏蔽。該蒸氣不能透過(guò)的屏蔽可僅包繞該污跡并密封在將底物上或者將污跡和底物一同包繞。它維持濕污跡適當(dāng)?shù)乃稀?br> 優(yōu)選的，將濕污跡布置在底物和對(duì)立表面之間。
優(yōu)選的，對(duì)整個(gè)濕污跡提供液體透過(guò)屏蔽。它可以是篩網(wǎng)并能增加去除污跡的要求。
優(yōu)選的，污跡從由有機(jī)污跡、無(wú)機(jī)污跡和它們的混合物所組成的組中選擇。
優(yōu)選的，濕污跡的潮濕量依據(jù)重量從10％到95％，更優(yōu)選地從30％到70％。
該底物優(yōu)選為透明的。
可在蒸氣不可透過(guò)的屏蔽內(nèi)提供潮濕指示劑從而確保濕污跡具有足夠的潮濕量。同樣在蒸氣不可透過(guò)的屏蔽內(nèi)可提供水合吸收物質(zhì)以維持濕污跡的潮濕量。優(yōu)選的，提供用于與待清洗的儀器一起使用的清洗指示劑的規(guī)程以評(píng)估是否清洗處理本該已經(jīng)充分地清洗了該儀器。
根據(jù)本發(fā)明的套裝包含多個(gè)前述清洗指示劑，上述清洗指示劑基本上彼此是相同的。
根據(jù)本發(fā)明的一種在醫(yī)療儀器洗滌設(shè)備中評(píng)估清洗處理效果的方法，該方法包含步驟將醫(yī)療儀器和清洗指示器放入洗滌設(shè)備中，該清洗指示劑包含底物上預(yù)定量的濕污跡；在儀器洗滌設(shè)備中處理醫(yī)療儀器和清洗指示劑以實(shí)現(xiàn)對(duì)其清洗；以及檢查底物來(lái)評(píng)估是否所有預(yù)定量的濕污跡已經(jīng)從其上清洗干凈。
此時(shí)底物是透明的并且評(píng)估是否濕污跡已經(jīng)從底物上清洗干凈的步驟包含將光線穿過(guò)該底物并測(cè)量穿過(guò)其中的光量。


圖1是本發(fā)明裝置一個(gè)實(shí)施例的示意圖，其中可應(yīng)用本發(fā)明的方法。
圖2是本發(fā)明裝置第二實(shí)施例的示意圖，其中可應(yīng)用本發(fā)明的方法。
圖3是本發(fā)明裝置第三實(shí)施例的示意圖，其中可應(yīng)用本發(fā)明的方法。
圖4是本發(fā)明裝置第四實(shí)施例的示意圖，其中可應(yīng)用本發(fā)明的方法。
圖5是本發(fā)明裝置第五實(shí)施例的示意圖，其中可應(yīng)用本發(fā)明的方法。
圖6是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例裝置的示意圖，該裝置具有化學(xué)藥品來(lái)源以方便污跡的探測(cè)。
圖7a-7d是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例裝置的示意圖，該裝置具有用污跡覆蓋的標(biāo)規(guī)。
圖8a-8c是根據(jù)本發(fā)明的清洗指示劑另外實(shí)施例的示意圖，其具有可控的縫隙以模擬配對(duì)手術(shù)儀器。
圖9是根據(jù)本發(fā)明的清洗指示劑另外實(shí)施例的示意圖和其包裝。
圖10是根據(jù)本發(fā)明的清洗指示劑另外實(shí)施例的示意圖，具有對(duì)其的封蓋。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明一方面提供了用于監(jiān)視對(duì)醫(yī)療裝置進(jìn)行清洗處理的設(shè)備。優(yōu)選的，該設(shè)備能夠確定何時(shí)該裝置被充分地清洗使得該裝置能夠進(jìn)行消毒。該設(shè)備包含污跡探測(cè)器，能夠探測(cè)醫(yī)療設(shè)備上或用于清洗或清洗監(jiān)視處理的液體中或污跡覆蓋的標(biāo)規(guī)上無(wú)機(jī)和/或有機(jī)污跡，污跡覆蓋的標(biāo)規(guī)可用作對(duì)醫(yī)療裝置進(jìn)行清洗的代用指示劑。
無(wú)機(jī)污跡包括諸如氯化鈉、氯化鉀、氯化鈣和其他堿及堿土金屬鹽類(lèi)的電解質(zhì)、諸如鐵鹽的無(wú)機(jī)含金屬化合物和所有其他身體中存在的且與在使用后需要消毒的醫(yī)療裝置接觸的已知無(wú)機(jī)化合物。
有機(jī)污跡包括蛋白質(zhì)、糖蛋白、脂蛋白、粘液素、氨基酸、多聚糖、糖、油脂、醣脂類(lèi)和所有其他身體中存在的且與在使用后需要消毒的醫(yī)療裝置接觸的已知有機(jī)化合物。有機(jī)污跡還包括整個(gè)、部分、活的、衰弱的或死的可與醫(yī)療裝置接觸的微生物。微生物包括所有革蘭氏陽(yáng)性、革蘭氏陰性、腸道和非腸道微生物、酵母、真菌和病毒。
本發(fā)明的設(shè)備適于監(jiān)視廣泛的多種醫(yī)療裝置的清洗處理，包括諸如手術(shù)儀器的進(jìn)入無(wú)菌組織的關(guān)鍵項(xiàng)目，諸如內(nèi)窺鏡、關(guān)節(jié)內(nèi)窺鏡、牙科儀器和一些麻醉裝配的接觸破損皮膚或黏膜的半關(guān)鍵項(xiàng)目以及接觸未破損皮膚的非關(guān)鍵項(xiàng)目。
在清洗處理中所用的液體包括清洗和漂洗液體。為了監(jiān)視清洗也可應(yīng)用單獨(dú)利用的不同液體并且這樣可用在包含污跡探測(cè)器的設(shè)備中。清洗處理包括獨(dú)立的洗滌處理、包括清洗處理的綜合系統(tǒng)，該清洗處理包含跟在洗滌步驟之后的消毒步驟以及包括清洗和消毒同時(shí)發(fā)生的清洗處理的綜合系統(tǒng)。
用于監(jiān)視清洗的設(shè)備可與用于醫(yī)療裝置的清洗系統(tǒng)或清洗及消毒系統(tǒng)綜合在一起。
本發(fā)明設(shè)備的污跡探測(cè)器可利用多種探測(cè)技術(shù)以便單獨(dú)或組合地監(jiān)視清洗。從一種分析器所獲得的數(shù)據(jù)可用于驗(yàn)證從其他分析器所獲得的數(shù)據(jù)的可靠性?？蓪⑽圹E探測(cè)技術(shù)分成兩個(gè)基礎(chǔ)污跡類(lèi)(1)適于探測(cè)無(wú)機(jī)污跡的探測(cè)技術(shù)；和(2)適于探測(cè)有機(jī)污跡的探測(cè)技術(shù)。然而，在許多情況下，污跡探測(cè)技術(shù)既可適于探測(cè)無(wú)機(jī)污跡又可適于探測(cè)有機(jī)污跡。
下面是可能的探測(cè)方法。應(yīng)當(dāng)理解的是存在未在此列出的其他合適的污跡探測(cè)技術(shù)。下面是能用在本發(fā)明中的有用技術(shù)的闡述。
無(wú)機(jī)污跡 (例如，NaCl)離子選擇電極氯化物電極方法原理氯化物電極由玻璃體、參考溶液和氯化銀/硫化銀薄膜構(gòu)成。當(dāng)薄膜接觸到氯化物溶液時(shí)，電極勢(shì)能越過(guò)薄膜發(fā)展。利用pH/mV/ion儀表相對(duì)于恒定的參考勢(shì)能測(cè)量這一電極勢(shì)能。通過(guò)Nernst公式描述對(duì)應(yīng)于所測(cè)勢(shì)能的氯離子濃度
E＝Eo-SlogX其中E＝所測(cè)電極勢(shì)能(mV)Eo＝參考勢(shì)能(mV)S＝電極斜率X＝氯離子濃度(M)普通氯化物電極的探測(cè)范圍從1M到5.0×10-5M。
鈉電極方法原理鈉電極由玻璃體、參考溶液和感應(yīng)膜構(gòu)成。感應(yīng)膜具有與膠質(zhì)親器官膜相接觸的液態(tài)內(nèi)部填充溶液，其含有鈉選擇離子交換器。當(dāng)該膜接觸鈉溶液時(shí)，電極勢(shì)能越過(guò)該膜發(fā)展。用pH/mV/ion儀表相對(duì)于恒定的參考勢(shì)能測(cè)量這一電極勢(shì)能。通過(guò)Nernst公式描述對(duì)應(yīng)于所測(cè)勢(shì)能的鈉離子濃度。
E＝Eo-SlogX其中E＝所測(cè)電極勢(shì)能(mV)Eo＝參考勢(shì)能(mV)S＝電極斜率X＝鈉離子濃度(M)普通鈉電極的探測(cè)范圍從飽和到1.0×10-6M。
當(dāng)作為污跡探測(cè)器利用時(shí)，將電極探針或者直接放置在洗滌腔內(nèi)接觸洗滌或漂洗液體或者放置在液體導(dǎo)管中，該液體導(dǎo)管與洗滌腔分離并且其用于對(duì)洗滌、漂洗或清洗監(jiān)視液體進(jìn)行采樣。另外，同一時(shí)間可利用不止一個(gè)電極探針。在后面這種情況下，將一個(gè)探針?lè)胖迷谶B續(xù)或間歇或單獨(dú)接觸新的洗滌、漂洗或清洗監(jiān)視液體中。這一探針將用于提供對(duì)無(wú)污跡液體的可控勢(shì)能記錄。第二探針將測(cè)量已經(jīng)接受污濁醫(yī)療裝置的洗滌、漂洗或清洗監(jiān)視液體的勢(shì)能。將兩個(gè)探針的勢(shì)能記錄進(jìn)行比較，以及當(dāng)兩個(gè)勢(shì)能記錄基本相等或彼此在很小的百分比(例如，3％)內(nèi)時(shí)，可認(rèn)為該裝置被充分地清洗。
導(dǎo)電率方法原理通過(guò)測(cè)量電解質(zhì)溶液的導(dǎo)電率可確定并定量溶液中的離子或電解質(zhì)。溶液的導(dǎo)電率由所存在的離子的數(shù)量和離子的移動(dòng)而定。氯化鈉(NaCl)是強(qiáng)電解質(zhì)并在溶液中完全電離。作為它完全電離的結(jié)果，NaCl溶液的導(dǎo)電率與溶液中NaCl的濃度成比例。諸如乙酸的弱電解質(zhì)在溶液中不完全電離，這樣具有低導(dǎo)電率且在稀釋上的電導(dǎo)性巨大地增加，此時(shí)更多的電離發(fā)生。摩爾電導(dǎo)率(Λ)定義為Λ＝k/c其中c所增加電解質(zhì)的摩爾濃度k導(dǎo)電率通常用含有兩個(gè)電極的探針連同用于測(cè)量電極間電流的諸如惠斯通電橋的合適電路來(lái)測(cè)量溶液的導(dǎo)電率。溶液的導(dǎo)電率來(lái)自溶液中離子總數(shù)，該離子總數(shù)來(lái)自于所存在的所有強(qiáng)和弱電解質(zhì)。
當(dāng)作為污跡探測(cè)器利用時(shí)，可將電導(dǎo)探針直接放置在洗滌腔內(nèi)接觸洗滌或漂洗液體或者放置在液體導(dǎo)管中，該液體導(dǎo)管與洗滌腔分離并且其用于對(duì)洗滌、漂洗或清洗監(jiān)視液體進(jìn)行采樣。另外，同一時(shí)間可利用不止一個(gè)電導(dǎo)探針。在后面這種情況下，將一個(gè)探針?lè)胖迷谶B續(xù)或間歇或單獨(dú)接觸新的洗滌、漂洗或清洗監(jiān)視液體中。這一探針將用于提供對(duì)無(wú)污跡液體的可控導(dǎo)電率記錄。第二探針將測(cè)量已經(jīng)受到污濁的醫(yī)療裝置的洗滌、漂洗或清洗監(jiān)視液體的導(dǎo)電率。將兩個(gè)探針的導(dǎo)電率記錄進(jìn)行比較，當(dāng)兩個(gè)導(dǎo)電率記錄基本相等或彼此在很小的百分比(例如，3％)內(nèi)時(shí)，可認(rèn)為該裝置被充分地清洗。
分光光度計(jì)方法氯離子試劑2Cl(-)+Hg(SCN)2→ HgCl2+2SCN(-)SCN(-)+Fe+3→ Fe(SCN)++(紅棕，460nm)原理氯離子與氯化物試劑反應(yīng)以形成在460nm處具有最大吸收率的Fe(SCN)++離子(紅棕色)。優(yōu)選的，將自動(dòng)色度計(jì)或光度自動(dòng)滴定器與基于從所分析的污跡化合物中產(chǎn)生顏色類(lèi)別的分光光度計(jì)技術(shù)結(jié)合使用。
離子色譜法原理涉及通過(guò)在離子交換柱上或浸漬有離子交換劑的薄片上物質(zhì)不同的移動(dòng)來(lái)分離物質(zhì)。在以每種離子為特征的離子交換反應(yīng)的基礎(chǔ)上分離離子(陰離子或陽(yáng)離子)。適于離子色譜法的普通探測(cè)器是電導(dǎo)、UV和電化學(xué)探測(cè)器。離子色譜法可探測(cè)水中所溶解的氯離子，在此其濃度范圍從0.02mg/L的探測(cè)極限到80mg/L。
優(yōu)選的，當(dāng)利用離子色譜法以進(jìn)行污跡探測(cè)時(shí)應(yīng)用自動(dòng)離子色譜儀。
毛細(xì)管電泳原理電泳是在電場(chǎng)中帶電荷體的運(yùn)動(dòng)。毛細(xì)管電泳利用毛細(xì)導(dǎo)管。使用毛細(xì)導(dǎo)管用于電泳的關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)是增強(qiáng)的熱消散，這允許使用高勢(shì)能進(jìn)行分離。高勢(shì)能場(chǎng)的使用導(dǎo)致了具有分析時(shí)間顯著減少的極其高效的分離。
高性能液相色譜法(HPLC)原理涉及在液體流過(guò)裝有特定固體顆粒的柱時(shí)，溶質(zhì)的不同移動(dòng)之后對(duì)溶液成分進(jìn)行分離。分離物之中可能是縮氨酸(通過(guò)反相色譜法)、蛋白質(zhì)和酶(疏水且排除色譜模式之外的尺寸)、氨基酸以及無(wú)機(jī)和有機(jī)金屬化合物。存在一些可選來(lái)用于HPLC系統(tǒng)的探測(cè)器。它們是UV-VIS吸收、IR吸收、熒光測(cè)定、折射率、電導(dǎo)、電化學(xué)和放射性探測(cè)器。根據(jù)樣本和靜止相類(lèi)型可選擇幾種分離柱。普通柱是親和、凝膠過(guò)濾和離子交換柱。
()親和介質(zhì)成功的親和分離需要將生物特異性配體共價(jià)鍵地附著在色譜床物質(zhì)，即基質(zhì)上。
()凝膠過(guò)濾分離是以分析物分子不同的尺寸和/或形狀為基礎(chǔ)的，其支配分析物進(jìn)入裝填有顆粒的柱內(nèi)的孔隙體積。
()離子交換這種方法包括溶質(zhì)與裝載物的帶電荷組進(jìn)行相互作用，跟著用高離子強(qiáng)度或pH值可變的水緩沖液進(jìn)行洗脫。
7、結(jié)論多種不同技術(shù)的任何一種都可用于監(jiān)視無(wú)機(jī)污跡。用于電解測(cè)試的一種方便的產(chǎn)物是結(jié)合從Daile International of Newark，DE所獲得的多傳感器的“MultiPLY”。
有機(jī)污跡(例如，蛋白質(zhì))分光光度計(jì)(Vis到UV，波長(zhǎng)190nm-900nm)
OPA方法蛋白質(zhì)-NH2+o-鄰苯二甲酸二醛+硫醇→1-烷基硫代-2-烷基異吲哚(OPA) (alkylisoindol)(熒光，340nm)原理在存在硫醇成分(N1N-二甲基-2-硫醇基-乙基銨-氯化物)(N1N-dimethyl-2-mercapto-ethylammonium-chloride)的情況下蛋白質(zhì)的氨基基團(tuán)與OPA的乙醛基團(tuán)反應(yīng)形成熒光化合物(1-烷基硫代-2-烷基異吲哚)。該熒光化合物在340nm處具有最大吸收率。
白蛋白試劑法白蛋白+溴甲酚紫→穩(wěn)定的絡(luò)合物(C21H16Br2O5S9FW＝540.24) (610nm)原理溴甲酚紫定量地與血清白蛋白鍵合形成穩(wěn)定的絡(luò)合物，其可在610nm波長(zhǎng)下探測(cè)到。絡(luò)合產(chǎn)物的量與溶液中白蛋白的濃度成線性比例。
Lowry微量法原理稀釋縮二脲試劑與縮氨酸反應(yīng)得到藍(lán)紫絡(luò)合物。這一絡(luò)合物的顏色可用增加苯酚試劑來(lái)進(jìn)一步加強(qiáng)。在550-750nm處進(jìn)行讀取，利用吸收率的增加來(lái)確定樣品中蛋白質(zhì)的濃度。
微蛋白質(zhì)-PR方法原理當(dāng)連苯三酚絡(luò)合物(在微蛋白質(zhì)PR試劑中)鍵合蛋白質(zhì)的氨基基團(tuán)時(shí)，試劑的吸收率發(fā)生偏移。吸收率在600nm處的增加直接與樣品中蛋白質(zhì)的濃度成正比。
液相色譜或高性能液相色譜法(HPLC)原理與無(wú)機(jī)種類(lèi)測(cè)量中的相同。
循環(huán)伏安法原理當(dāng)物質(zhì)(金屬、聚合物等)開(kāi)始接觸到血液蛋白質(zhì)時(shí)，在兒秒鐘內(nèi)在界面上形成一層蛋白質(zhì)(大多數(shù)是纖維蛋白原)。作為蛋白質(zhì)吸收的結(jié)果，將蛋白質(zhì)加入到無(wú)蛋白質(zhì)溶液中將改變?cè)谘h(huán)伏安法測(cè)量中金屬電極當(dāng)時(shí)的密度勢(shì)能(I vs.V)的行為。例如，通過(guò)增加蛋白質(zhì)(白蛋白、纖維蛋白原等)到襯托的磷酸鹽電解液來(lái)修正高銅合金(2％鋅)的I-V行為。
放射物法原理用諸如Technicium99或碘125的放射性同位素標(biāo)記蛋白質(zhì)并測(cè)量溶液的放射性以確定蛋白質(zhì)存在的量。例如，利用一氯化碘超出的雙重摩爾將125I對(duì)蛋白質(zhì)纖維蛋白原進(jìn)行標(biāo)記。所標(biāo)記的纖維蛋白原的生物屬性不受這一標(biāo)記法的影響。溶液中纖維蛋白原的濃度與含有標(biāo)記纖維蛋白原的溶液的放射性(或伽馬射線的強(qiáng)度)成正比。
石英晶體微量天平(QCM)法原理石英晶體微量天平是基于振蕩石英晶片的質(zhì)量靈敏的探測(cè)器。在固體-溶液界面處QCM對(duì)質(zhì)量改變的響應(yīng)是極其靈敏的。當(dāng)用石英晶體涂覆的金開(kāi)始接觸到血液蛋白質(zhì)時(shí)，在幾秒鐘內(nèi)在界面上形成一層蛋白質(zhì)。這一細(xì)微的質(zhì)量改變很容易被QCM探測(cè)到。石英晶體上質(zhì)量的增加(或振蕩頻率的減少)與溶液中蛋白質(zhì)的濃度成正比。
FTIR光譜法(傳輸和ATR)可使用傅立葉轉(zhuǎn)換紅外線(FTIR)光譜發(fā)來(lái)鑒別并定量混合物中的蛋白質(zhì)，上述蛋白質(zhì)既有溶液中也有表面上的蛋白質(zhì)。水蛋白質(zhì)溶液的傳輸FTIR研究指出了存在的蛋白質(zhì)的特性和數(shù)量。沉積在表面的蛋白質(zhì)的衰減總量反射比(ATR)FTIR的研究可確定表面上蛋白質(zhì)的特性和數(shù)量。
電泳原理電泳是電場(chǎng)中帶電荷體的運(yùn)動(dòng)。通常，在酸性溶液中蛋白質(zhì)分子獲取氫離子變成帶正電荷。通過(guò)改變電泳介質(zhì)的PH值，可改變蛋白質(zhì)的速率。如果對(duì)于給丁的蛋白質(zhì)，pI(在蛋白質(zhì)是電中性時(shí)的pH值)小于該pH值，則其充電將是負(fù)的并且運(yùn)動(dòng)將朝著正電極進(jìn)行。具有pI＞pH的蛋白質(zhì)成分將充正電荷并且向相反的方向運(yùn)動(dòng)。
毛細(xì)管電泳原理與無(wú)機(jī)種類(lèi)測(cè)量中的相同。
用于探測(cè)無(wú)機(jī)和有機(jī)污跡的另外技術(shù)包括電勢(shì)測(cè)定法，特別是電勢(shì)自動(dòng)滴定器以及用于探測(cè)溶液中顆?；蛉芤呵宄憾鹊募夹g(shù)。溶液清澈度可用濁度計(jì)來(lái)測(cè)量，其包含帶有流動(dòng)室的濁度傳感器。濁度計(jì)典型地結(jié)合光電池操作并提供易于與其他系統(tǒng)，諸如清洗控制系統(tǒng)相結(jié)合的電信號(hào)。可選的，溶液的清澈度可通過(guò)測(cè)量液體的顏色、反射比、吸收率、能見(jiàn)度等來(lái)確定。也可施用采用光纖維以便從激光器傳送到樣本探測(cè)器的激光系統(tǒng)來(lái)用于溶液清澈度或許多其他屬性的評(píng)價(jià)。
優(yōu)選的，本發(fā)明的設(shè)備應(yīng)用探測(cè)技術(shù)來(lái)探測(cè)污跡，其中該探測(cè)技術(shù)適于探測(cè)清洗處理中所用液體內(nèi)污跡的存在。優(yōu)選的，從由清洗處理期間所用的清洗和漂洗液體組成的組中選擇該液體。
本發(fā)明的設(shè)備還可應(yīng)用探測(cè)技術(shù)，其中該探測(cè)技術(shù)適于探測(cè)醫(yī)療裝置的表面上污跡的存在。優(yōu)選的，該適于探測(cè)醫(yī)療裝置表面上污跡存在的探測(cè)技術(shù)在不與裝置的表面接觸的情況下操作。例如，使用纖維光學(xué)技術(shù)，結(jié)合反射比分光光度技術(shù)，人們可直接監(jiān)測(cè)表面的清洗?？蛇x的，適于探測(cè)醫(yī)療裝置的表面上污跡存在的探測(cè)技術(shù)可經(jīng)由直接的表面接觸來(lái)操作。換句話說(shuō)，來(lái)自探測(cè)技術(shù)的探針可實(shí)在地接觸醫(yī)療裝置的表面并從而感測(cè)表面上污跡存在的量以便確定和定量醫(yī)療裝置的清潔狀態(tài)。在大多數(shù)情況下，探針與裝置的實(shí)在接觸是短暫的。適于這一特定應(yīng)用的技術(shù)是衰減總量反射比(ATR)光譜。ART方法應(yīng)用能立即向待監(jiān)視樣本的表面?zhèn)魉透袘?yīng)放射的晶體。該晶體實(shí)在地接觸樣本的表面。ATR光譜可與紫外線(UV)吸收分光光度技術(shù)以及紅外線光譜技術(shù)一同使用。ART-UV技術(shù)將蘭寶石晶體作為采樣探針。傅立葉轉(zhuǎn)換紅外線光譜也可與適當(dāng)?shù)腁RT晶體一同應(yīng)用。
可選的，還可應(yīng)用間接探測(cè)技術(shù)。這一方法應(yīng)用與以前所提到的用于其他方法相同的物理-化學(xué)探測(cè)技術(shù)和方法。然而，不能監(jiān)測(cè)醫(yī)療裝置本身的清洗程度。當(dāng)然，將沉積污跡的標(biāo)規(guī)插入到設(shè)備中并在醫(yī)療裝置本身的適當(dāng)位置處進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
污跡探測(cè)器可應(yīng)用液體或醫(yī)療裝置的表面或污跡覆蓋標(biāo)規(guī)的連續(xù)采樣或者可應(yīng)用前述液體或裝置或標(biāo)規(guī)的周期或單次采樣。周期采樣可在統(tǒng)一或不統(tǒng)一(即，任意的)間隔中進(jìn)行。間隔的數(shù)量可以象單次采樣中的一次那樣少。單次采樣間隔在這樣的情形下是可行的，其中清洗處理進(jìn)行了充分的時(shí)間段，這樣能高度確保充分清洗已經(jīng)發(fā)生，這樣其后該裝置可進(jìn)行消毒。然而，優(yōu)選地污跡探測(cè)器利用兩個(gè)或多個(gè)采樣間隔以評(píng)估已經(jīng)發(fā)生的清洗量。更優(yōu)選的，利用三次或更多的采樣間隔。還更優(yōu)選地，探測(cè)技術(shù)利用四個(gè)或更多采樣間隔。
由于離子選擇電極的靈敏度和專(zhuān)門(mén)用于測(cè)量諸如鈉和氯的相關(guān)電解質(zhì)以及相對(duì)緊湊的電極、電極的耐久性、使用的簡(jiǎn)便、實(shí)時(shí)測(cè)量的能力和操作的電子基礎(chǔ)，因此優(yōu)選地將離子選擇電極方法用在污跡探測(cè)器中。可連續(xù)地或間歇地測(cè)量電極的勢(shì)能并且易于與用于清洗的控制系統(tǒng)或清洗和消毒設(shè)備相結(jié)合。用于控制清洗處理的控制系統(tǒng)也可是本發(fā)明的一部分。
由于與離子選擇電極方法所給出的相同理由，也可優(yōu)選地將導(dǎo)電率方法用在污跡探測(cè)器中。
本發(fā)明的另一方面提供了對(duì)醫(yī)療裝置進(jìn)行監(jiān)視清洗處理的方法，其包含了用包含污跡探測(cè)器的本發(fā)明設(shè)備測(cè)量從醫(yī)療裝置中去除污跡的步驟。
優(yōu)選的，該方法包含確定何時(shí)該裝置得到了充分地清洗使得它能夠進(jìn)行消毒的另外步驟。
優(yōu)選的，從由進(jìn)入無(wú)菌組織的關(guān)鍵項(xiàng)目、接觸破損皮膚或黏膜的半關(guān)鍵項(xiàng)目和接觸無(wú)損皮膚的非關(guān)鍵項(xiàng)目所組成的組中選擇該裝置。更優(yōu)選的，進(jìn)入無(wú)菌組織的關(guān)鍵項(xiàng)目是手術(shù)儀器。更優(yōu)選的，接觸破損皮膚或黏膜的半關(guān)鍵項(xiàng)目包括內(nèi)窺鏡、關(guān)節(jié)內(nèi)窺鏡、牙科儀器和麻醉裝備。
適于實(shí)行本發(fā)明的污跡優(yōu)選地從表1中所示的那些物質(zhì)中選擇。按照重量在10％和90％之間的潮濕量，更優(yōu)選地維持在30％到70％以便最佳地模仿在清洗處理期間可能在儀器上存在的污跡。依據(jù)污跡的類(lèi)型，可適當(dāng)?shù)馗淖兂睗窳俊＠硐氲厮匀坏啬M所發(fā)生的污跡。
表1推薦或模仿的污跡

圖1中闡述了用于監(jiān)視醫(yī)療裝置或儀器清洗處理設(shè)備的一個(gè)實(shí)施例，其包含了基于離子選擇電極的污跡探測(cè)器。圖1闡述了設(shè)備10，其含有洗滌腔20用于洗滌醫(yī)療設(shè)備和儀器，諸如帶有內(nèi)腔的醫(yī)療裝置22和手術(shù)儀器24。洗滌腔20還可用來(lái)消毒。洗滌腔20具有帶閥門(mén)41的液體出口40和帶閥門(mén)46的液體入口45。液體出口40和液體入口45用來(lái)將洗滌或漂洗液體送出洗滌腔20以及返回到腔20中。液體出口40經(jīng)閥門(mén)41連接液體導(dǎo)管50，該導(dǎo)管50反過(guò)來(lái)連接液體泵60。液體導(dǎo)管50將洗滌或漂洗液體從洗滌腔20中送到泵60中。泵60將洗滌或漂洗液體從洗滌腔20通過(guò)液體導(dǎo)管40、閥門(mén)41和液體導(dǎo)管50泵送到液體導(dǎo)管55中。液體導(dǎo)管55將液體通過(guò)閥門(mén)46和液體入口45返回到洗滌腔20中。液體導(dǎo)管55還連接含有閥門(mén)57和液體入口56的液體導(dǎo)管58。液體入口56用于洗滌或漂洗處理中所利用的任何液體的入口。例如，液體入口56允許新的洗滌、漂洗或清洗監(jiān)視液體進(jìn)入到導(dǎo)管55使得定位在導(dǎo)管55內(nèi)側(cè)的電極探針70可進(jìn)行勢(shì)能記錄。洗滌腔20還含有連接到閥門(mén)47的液體出口44。閥門(mén)47連接導(dǎo)管54，導(dǎo)管54反過(guò)來(lái)連接排水出口59。液體出口44和前述所連接的部分用作在洗滌或漂洗循環(huán)之后的排水腔20。
電極探針70用于洗滌或漂洗液體中的污跡探測(cè)器。電極探針70含有第一電極72和第二電極74。液體經(jīng)過(guò)第一電極72和第二電極74流過(guò)導(dǎo)管55。液體中的離子產(chǎn)生電流，該電流經(jīng)過(guò)電線76和電線78傳遞到電極探測(cè)器的電路80。電路80經(jīng)由通電線路90連接到洗滌控制系統(tǒng)30。洗滌控制系統(tǒng)30直接連接到洗滌腔20并控制洗滌處理的所有方面。
利用圖1中所闡述的本發(fā)明的設(shè)備，本發(fā)明用于監(jiān)視醫(yī)療裝置清洗處理的方法操作如下將所有閥門(mén)初始在封閉位置。打開(kāi)閥門(mén)57并允許新的清潔的洗滌或漂洗水從洗滌或漂洗水源頭(未顯示)流入入口56。不包含任何污跡的清潔的洗滌或漂洗液體的電極70開(kāi)始進(jìn)行電勢(shì)記錄。優(yōu)選的，在該方法的這一實(shí)施例中，進(jìn)行清潔洗滌液體的勢(shì)能記錄。這表示0時(shí)間的勢(shì)能記錄。其后，打開(kāi)閥門(mén)46允許洗滌水進(jìn)入腔20中，將其充滿準(zhǔn)備洗滌循環(huán)?？蛇x的，可同時(shí)打開(kāi)閥門(mén)46和57，這樣在腔20充水期間可進(jìn)行0時(shí)間記錄。如果需要的話，也可在洗滌循環(huán)期間進(jìn)行0時(shí)間記錄。接著關(guān)閉閥門(mén)46和57并啟動(dòng)洗滌循環(huán)。該洗滌循環(huán)允許運(yùn)行一段時(shí)期，該時(shí)期是按照所存在的醫(yī)療裝置和儀器的種類(lèi)確定的。通常的，這一時(shí)期不到大約一小時(shí)。優(yōu)選的，這一時(shí)期不到大約30分鐘。甚至更優(yōu)選的，這一時(shí)期不到大約15分鐘。在該洗滌循環(huán)末，打開(kāi)閥門(mén)47并允許臟的洗滌水通過(guò)出口59流出腔。在清空腔后關(guān)閉閥門(mén)47。再一次打開(kāi)閥門(mén)45和57，允許新的漂洗水進(jìn)入腔20中。在腔20充滿水后，閥門(mén)45和57再一次關(guān)閉。接著執(zhí)行漂洗循環(huán)。這一循環(huán)通常是洗滌循環(huán)持續(xù)時(shí)間的一小部分或等于洗滌循環(huán)持續(xù)時(shí)間。在漂洗循環(huán)期間或末尾進(jìn)行一個(gè)或多個(gè)勢(shì)能記錄。這可通過(guò)同時(shí)打開(kāi)閥門(mén)41和46并打開(kāi)泵60來(lái)執(zhí)行以將漂洗液體泵入導(dǎo)管50和55中直到含有電極探針70的漂洗液體等同于腔20內(nèi)的漂洗液體。如果跟在洗滌循環(huán)之后的漂洗液體的勢(shì)能基本等于0時(shí)間的勢(shì)能記錄，則已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了充分地清洗。如果沒(méi)有，則重復(fù)漂洗循環(huán)或者洗滌和漂洗循環(huán)直到漂洗溶液的勢(shì)能記錄達(dá)到所需的數(shù)值。在這一階段，腔內(nèi)的醫(yī)療裝置22和儀器24可在兩步相繼的清洗和消毒處理的第二步中進(jìn)行消毒。
圖2中闡述了用于監(jiān)視醫(yī)療裝置或儀器的清洗處理設(shè)備的另一實(shí)施例，其包含了基于離子選擇電極的污跡探測(cè)器。圖2闡述了設(shè)備11，其含有洗滌腔20用于洗滌醫(yī)療設(shè)備和儀器，諸如帶有內(nèi)腔的醫(yī)療裝置22和手術(shù)儀器24。洗滌腔20還可用來(lái)清洗和消毒。該清洗和消毒可同時(shí)或者依次進(jìn)行。優(yōu)選的，在腔20內(nèi)清洗步驟先于消毒步驟進(jìn)行。洗滌腔20具有水入口53，其連接水源(未顯示)并且還通過(guò)閥門(mén)52和導(dǎo)管51連接到閥門(mén)43。閥門(mén)43直接連接到入口42直接導(dǎo)入到洗滌腔20中。洗滌腔20還具有水出口44和48。水出口44連接到閥門(mén)47以及其后連接到導(dǎo)管54從而導(dǎo)入到排水出口59。該排水出口59時(shí)主要用于凈化洗滌腔20臟水的臟水出口。水出口48連接到閥門(mén)49并且其后連接到通向閥門(mén)62的導(dǎo)管61。閥門(mén)62將漂洗水引導(dǎo)到出口63。處于水入口線中的導(dǎo)管51含有帶第一電極65和第二電極66的第一電極探針64。第一電極65連接到電線67而第二電極66連接到電線68。電線67和68將電極探針64引導(dǎo)到包含離子選擇電極電路以及洗滌或洗滌和消毒控制回路的電路31。同樣的，第二電極探針71定位在閥門(mén)49和62之間的漂洗水出口導(dǎo)管61處。電極探針71具有第一電極73的第二電極75。電極73和75分別連接到電線77和79。電線77和79直接連接到電路31。
利用圖2中所闡述的本發(fā)明的設(shè)備，本發(fā)明用于監(jiān)視醫(yī)療裝置的清洗處理的方法操作如下打開(kāi)水入口導(dǎo)管51中的閥門(mén)52和43并且允許水流過(guò)水入口42進(jìn)入洗滌腔20直到腔20充分注滿用于清洗循環(huán)的水。該水是沒(méi)有污跡的新的、清潔的水。用電極探針64進(jìn)行該水的勢(shì)能記錄并且電路31存儲(chǔ)這一記錄。接著關(guān)閉閥門(mén)52和43。在洗滌腔20內(nèi)執(zhí)行第一清洗循環(huán)。該清洗循環(huán)通常不到大約一小時(shí)。優(yōu)選的，這一清洗循環(huán)不到大約30分鐘。更優(yōu)選的，這一清洗循環(huán)不到大約15分鐘。在這一第一清洗循環(huán)末尾打開(kāi)閥門(mén)47。在打開(kāi)閥門(mén)47后將臟的洗滌水從腔20中通過(guò)出口44排出。在所有臟的洗滌水從洗滌腔20中排出后關(guān)閉閥門(mén)47。其后，再一次打開(kāi)閥門(mén)53和43并允許清潔、新的漂洗水通過(guò)入口部分42流入洗滌腔20中。用第一電極探針64可對(duì)流入腔中的清潔、新的漂洗水進(jìn)行第二勢(shì)能記錄。接著關(guān)閉閥門(mén)52和43并在腔20內(nèi)啟動(dòng)漂洗循環(huán)。這一漂洗循環(huán)通常不到大約一小時(shí)。優(yōu)選的，這一漂洗循環(huán)不到大約30分鐘。更優(yōu)選的，這一漂洗循環(huán)不到大約15分鐘。在該漂洗循環(huán)的末尾，打開(kāi)漂洗水出口線61中的閥門(mén)49和62允許漂洗水經(jīng)過(guò)第二電極探針71流出洗滌腔20。由電極探針71進(jìn)行勢(shì)能記錄并傳遞給電路31。電路31對(duì)由電極探針71所獲得的漂洗水的勢(shì)能與由電極探針64所獲得的新的、清潔漂洗水的勢(shì)能進(jìn)行比較。如果這兩個(gè)數(shù)值基本相等，意味著它們是相同的或者在彼此幾個(gè)百分比之內(nèi)，則無(wú)需進(jìn)一步洗滌和漂洗。一旦所有的漂洗液體已經(jīng)從腔20中排出則關(guān)閉閥門(mén)49和63。然而，如果兩個(gè)記錄在絕對(duì)值上并不基本相等，則啟動(dòng)并執(zhí)行如前所述的額外的漂洗。第二漂洗循環(huán)可以是第一漂洗循環(huán)持續(xù)時(shí)間的一小部分或者可等于第一漂洗循環(huán)持續(xù)時(shí)間。如前述那樣在第一漂洗循環(huán)期間獲得勢(shì)能紀(jì)錄，并且再一次將它接觸到醫(yī)療裝置和儀器之后的漂洗液體的勢(shì)能記錄與新的清潔漂洗液體的勢(shì)能記錄進(jìn)行比較。一旦這兩個(gè)記錄基本相等，則已經(jīng)進(jìn)行了充分地清洗而無(wú)需再進(jìn)一步洗滌和漂洗。在這一階段，腔內(nèi)的醫(yī)療裝置22和儀器24可在兩步相繼的清洗和消毒處理的第二步中進(jìn)行消毒。接著可經(jīng)由門(mén)(未顯示)打開(kāi)腔20并取出裝置22和儀器24用來(lái)使用。
圖3中闡述了用于監(jiān)視醫(yī)療裝置或儀器的清洗處理設(shè)備的另一實(shí)施例，其包含了基于離子選擇電極的污跡探測(cè)器。圖3闡述了設(shè)備12，其含有洗滌腔20，用于洗滌醫(yī)療設(shè)備和儀器，諸如帶有內(nèi)腔的醫(yī)療裝置22和手術(shù)儀器24。洗滌腔20還可用來(lái)消毒。該消毒可與清洗同時(shí)發(fā)生或者可在清洗步驟之后發(fā)生。除了出口48、閥門(mén)49、閥門(mén)62、導(dǎo)管61和漂洗水出口63，設(shè)備12含有圖2中所闡述的設(shè)備11的所有部件。設(shè)備12以與圖2中所闡述的設(shè)備11的相同方式操作。然而，在圖3中所闡述的設(shè)備12的情況下，所有的洗滌和漂洗液體通過(guò)出口44從洗滌腔20中排出。另外，用于監(jiān)視前述清洗處理的本發(fā)明方法的所有步驟和圖2中闡述的設(shè)備11所利用的方法步驟可應(yīng)用到圖3中所闡述的設(shè)備12上。再一次，在跟著洗滌循之后的漂洗循環(huán)期間或末尾，在其已經(jīng)接觸到醫(yī)療裝置和儀器24之后，第二電極探針71將進(jìn)行漂洗液體的勢(shì)能記錄。然而，在這一特定的實(shí)施例中，這些記錄可在洗滌腔20內(nèi)進(jìn)行，而非象圖2中所闡述的設(shè)備11那樣在導(dǎo)管61中進(jìn)行。圖2中闡述的設(shè)備11的主要優(yōu)勢(shì)是具有將第二電極探針71布置在導(dǎo)管61內(nèi)的布置。將第二電極探針71布置在導(dǎo)管61內(nèi)的布置顧及了對(duì)第二電極探針71的完全保護(hù)防止被污跡過(guò)度污染。這確保了電極探針71會(huì)精確并準(zhǔn)確地重復(fù)執(zhí)行勢(shì)能記錄。然而，在一些例子中，不必將第二電極探針71放置在分離的導(dǎo)管61內(nèi)。這樣，圖3中所闡述的設(shè)備12對(duì)一些洗滌應(yīng)用，特別是其中眾所周知的電極探針71的污跡污染不是問(wèn)題的應(yīng)用是有用的。
圖2和3中所闡述的設(shè)備可進(jìn)一步進(jìn)行修改，以便例如包括探測(cè)無(wú)機(jī)污跡的探測(cè)器和探測(cè)有機(jī)污跡的探測(cè)器。該設(shè)備具有與腔20進(jìn)行可控流體連通的第二腔，并且可將探測(cè)器放置在第二腔中。例如，還可在第二腔中提供污跡標(biāo)規(guī)，并且這樣確定清洗條件和污跡標(biāo)規(guī)上的污跡覆蓋使得將標(biāo)規(guī)的清潔程度用作待清洗裝置清洗完全的指示。
圖4闡述了用于監(jiān)視醫(yī)療裝置或儀器清洗處理設(shè)備的另一實(shí)施例，其包含了基于離子選擇電極的污跡探測(cè)器。圖4闡述了設(shè)備13，該設(shè)備含有洗滌腔20用于洗滌醫(yī)療裝置和儀器，諸如帶有內(nèi)腔的醫(yī)療裝置22和手術(shù)儀器24。如同其他實(shí)施例一樣，洗滌腔20也可用于消毒。洗滌腔20具有水入口42，其通過(guò)閥門(mén)43連接到水入口導(dǎo)管51。該水入口導(dǎo)管51連接到水入口53。水入口53連接到水源(未顯示)。洗滌腔20還具有部件44、47、54和59，它們具有與圖2和3中所見(jiàn)的同樣的布置、連接和排水功能。圖4中所闡述的本發(fā)明設(shè)備這一實(shí)施例具有帶第一電極72和第二電極74的單個(gè)電極探針70。電極72和74分別連接到電線76和78。電線76和78直接連接到電路31中。電路31執(zhí)行與圖2和3中闡述的本發(fā)明設(shè)備相同的功能。電極探針70定位在小水槽81內(nèi)，小水槽81直接位于水入口42的下方。將水槽81設(shè)計(jì)成能獲得導(dǎo)入洗滌腔20的第一小體積的水。這允許在它接觸醫(yī)療裝置22和儀器24之前進(jìn)行新的清潔洗滌水的勢(shì)能記錄。水槽81具有連接到水槽出口和入口導(dǎo)管84的水槽出口和入口82。水槽出口和入口導(dǎo)管83含有水槽出口和入口閥門(mén)84以及水槽排水出口和入口85。
利用圖4中所闡述的本發(fā)明的設(shè)備，本發(fā)明用于監(jiān)視醫(yī)療裝置的清洗處理的方法操作如下打開(kāi)閥門(mén)43并允許新的清潔水或其他洗滌或漂洗液體通過(guò)入口42流入洗滌腔20內(nèi)。水槽81充滿水允許電極探針70進(jìn)行新的清潔水的勢(shì)能記錄。這一勢(shì)能記錄存儲(chǔ)在電路31中作為對(duì)照標(biāo)準(zhǔn)的勢(shì)能記錄。水通過(guò)入口42持續(xù)地流入洗滌腔20中并填充水槽81。打開(kāi)水槽閥門(mén)84。接著從水槽81通過(guò)水槽導(dǎo)管83和水槽排水出口和入口85流入洗滌腔20中。洗滌腔20用洗滌水充分地填充使得洗滌循環(huán)可以開(kāi)始。如圖2和3闡述的本發(fā)明設(shè)備所利用的本發(fā)明的方法那樣關(guān)閉水槽閥門(mén)84并啟動(dòng)洗滌循環(huán)。在啟動(dòng)洗滌循環(huán)之前，關(guān)閉閥門(mén)43和47使得沒(méi)有液體能流入洗滌腔20或者從洗滌腔20中排出。
在這一點(diǎn)上，電極探針70可以是全部或者部分地與腔20中的臟洗滌液體隔離。這可通過(guò)多種方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。例如，當(dāng)在腔20內(nèi)實(shí)施清洗時(shí)，用新的洗滌液體填充水槽81并將電極探針70浸入到新的洗滌液體中，以便保護(hù)電極探針免受臟洗滌液體的污染。在另一例子中，電極探針70可移動(dòng)使其接觸和不接觸液體。可選的，在清洗處理期間，水槽81可用能移動(dòng)的帽91覆蓋?？商峁┮幻芊馐一虻诙?，將其制成與腔20處于可控的流體連通，并且將探測(cè)器放置在該密封室內(nèi)。這樣，例如，用閥門(mén)切斷在清洗處理期間腔20和密封室之間的流體連通，并且當(dāng)測(cè)量洗滌液體中的污跡濃度時(shí)，可再次建立該流體連通。
在洗滌循環(huán)的末尾，允許臟洗滌水通過(guò)為了該目的而打開(kāi)的閥門(mén)47通過(guò)出口44和排水出口59(從洗滌腔20中流出。接著關(guān)閉閥門(mén)47并允許新漂洗液體通過(guò)為了該目的而打開(kāi)的閥門(mén)43通過(guò)入口53和入口42流入洗滌腔20。再一次，漂洗液體流入水槽81中，將其填充并且其后填充腔20用于如前述相同處理中的漂洗循環(huán)。如圖2和3闡述的本發(fā)明設(shè)備所利用的本發(fā)明的方法那樣關(guān)閉閥門(mén)43并進(jìn)行漂洗循環(huán)。打開(kāi)閥門(mén)84并允許漂洗液體流入水槽81中?？蛇x的，腔20中漂洗液體的水平可高于水槽81的頂面，允許漂洗液體填充水槽81。以這一方式，在水槽81內(nèi)可進(jìn)行漂洗液體精確的勢(shì)能記錄使得它代表洗滌腔20中的漂洗液體。這一第二勢(shì)能記錄與新的清潔漂洗液體所獲得的勢(shì)能記錄相比較。象與前面此處所描述的確實(shí)一樣地完成勢(shì)能記錄比較并且作出確定是充分地漂洗和/或清洗已經(jīng)發(fā)生還是需要額外地漂洗或者洗滌和漂洗循環(huán)。
圖5闡述了用于監(jiān)視醫(yī)療裝置或儀器清洗處理設(shè)備的另一實(shí)施例，其包含基于離子選擇電極的污跡探測(cè)器。圖5闡述了設(shè)備14，其再一次含有洗滌腔20用于如前述那樣對(duì)醫(yī)療裝置和儀器進(jìn)行洗滌或者洗滌和消毒。除了部件30、80和90外，圖5中所闡述的設(shè)備14的所有部件與圖4中闡述的設(shè)備13的帶有同樣標(biāo)記數(shù)字的部件相同。
部件30、80和90是相同的并且具有與圖1中所闡述的部件30、80和90相同的連接和功能。部件30是洗滌控制系統(tǒng)。部件80是用于電極探測(cè)器的電路。電路80經(jīng)由電子線路90連接到洗滌控制系統(tǒng)30上。圖4中所闡述的部件31執(zhí)行與圖1和5中所闡述的部件30、80和90的相同功能。
圖4中所闡述的水槽81、水槽出口和入口82、水槽出口和入口閥門(mén)84、水槽出口和入口導(dǎo)管83以及水槽排水出口和入口85也都沒(méi)有用在設(shè)備14上。除了水槽81及其連接的出口和入口部件82-85不用于保持小體積的洗滌或漂洗液體以便進(jìn)行勢(shì)能記錄并隨后將其釋放外，設(shè)備14以與設(shè)備13相同的方式執(zhí)行本發(fā)明的方法。代替的是在腔20內(nèi)直接進(jìn)行所有勢(shì)能記錄。第二探針99或更多的探針也可用于監(jiān)視額外的污跡。
圖6闡述了設(shè)備15，其含有洗滌腔20，用于如前述那樣對(duì)醫(yī)療裝置24和儀器22進(jìn)行洗滌或者洗滌并消毒。設(shè)備15也具有連接腔20的密封室102。密封室102與腔20處于可控的流體連通。優(yōu)選的，腔20和密封室102被閥門(mén)104隔開(kāi)。密封室102裝配有連接到排泄裝置的另一閥門(mén)106。化學(xué)藥品源108通過(guò)閥門(mén)110連接到密封室102。在化學(xué)藥品源中存儲(chǔ)了適于與洗滌液體中的污跡進(jìn)行反應(yīng)以產(chǎn)生可探測(cè)信號(hào)例如顏色的化學(xué)藥品。這種化學(xué)藥品的例子包括但不限于氯離子試劑(Hg(SCN)2)、OPA、鋁試劑、縮二脲和微蛋白-PR。
使用中，當(dāng)進(jìn)行測(cè)量時(shí)，打開(kāi)閥門(mén)104并允許腔20中的洗滌、清洗或漂洗液體進(jìn)入密封室102。導(dǎo)入密封室102中的洗滌液體的量是可以控制的。接著關(guān)閉閥門(mén)104并打開(kāi)閥門(mén)110使得將化學(xué)藥品引入到密封室102中。一旦將化學(xué)藥品引入到密封室102中，腔20和密封室102應(yīng)當(dāng)彼此完全隔離使得沒(méi)有化學(xué)藥品會(huì)進(jìn)入腔20中。在完成測(cè)量后，通過(guò)閥門(mén)106排出密封室102中的液體。密封室102可具有另一個(gè)清潔的洗滌液體入口(未顯示)用于將新的洗滌液體引入到清潔的密封室102中。增加到密封室102中的化學(xué)藥品的量是可控的。優(yōu)選的，密封室102內(nèi)洗滌液中化學(xué)藥品濃度在不同的測(cè)量中大約是相同的，使得由化學(xué)藥品和洗滌液體間的反應(yīng)所產(chǎn)生的信號(hào)的強(qiáng)度將僅反映洗滌液體中污跡的濃度，而不受化學(xué)藥品濃度本身的影響。
提供具有探測(cè)器112和光源114的分光光度計(jì)100以探測(cè)由化學(xué)藥品所產(chǎn)生的信號(hào)?？蓪⑻綔y(cè)器112和光源114放置在密封室102的內(nèi)部或外部。倘若如圖6中所示將它們定位在密封室102的外側(cè)，那么密封室102的至少一部分壁將被來(lái)自光源114的光線穿過(guò)使得該光線可穿過(guò)密封室內(nèi)洗滌液體的主體而到達(dá)探測(cè)器112。當(dāng)所產(chǎn)生的信號(hào)是有顏色的，對(duì)它可進(jìn)行視覺(jué)觀察，這樣，人眼可用作探測(cè)器。
如前述那樣的圖1到5的結(jié)構(gòu)可與設(shè)備15相結(jié)合。任選地，可將腔20連接到真空泵或真空源116上。當(dāng)完成清洗時(shí)，可對(duì)腔20實(shí)施抽真空以方便所清洗的項(xiàng)目22和24的干燥。還可提供消毒系統(tǒng)使得腔20可用作消毒腔。在清洗之后，在不用取出待清洗和消毒的儀器的情況下在同一腔20中可進(jìn)行消毒。關(guān)于與本發(fā)明的清洗處理結(jié)合使用的消毒系統(tǒng)沒(méi)有限制。這樣，任何合適的消毒系統(tǒng)可用于與清洗處理相結(jié)合。如果需要，通過(guò)利用組合的清洗和消毒溶液，諸如具有可溶解的臭氧或二氧化氯可同時(shí)進(jìn)行清洗和消毒。
圖7a-7d顯示了根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例的各種設(shè)備。在這些實(shí)施例中，提供用污跡覆蓋的標(biāo)規(guī)120。污跡覆蓋標(biāo)規(guī)的目的是在清洗處理期間提供待清洗項(xiàng)目清潔的標(biāo)規(guī)化指示。換句話說(shuō)受污染的標(biāo)規(guī)120將與待清洗的一個(gè)項(xiàng)目或多個(gè)項(xiàng)目同時(shí)進(jìn)行清洗，并且將監(jiān)視污跡覆蓋的標(biāo)規(guī)120的清潔度。待清洗項(xiàng)目的清潔度與用于特定設(shè)備構(gòu)造的污跡覆蓋標(biāo)規(guī)120的清潔度之間的關(guān)系可通過(guò)實(shí)驗(yàn)來(lái)建立。這樣，當(dāng)標(biāo)規(guī)清洗到一定程度，將指示已經(jīng)實(shí)現(xiàn)的待清洗項(xiàng)目的全部清洗。
存在結(jié)合污跡標(biāo)規(guī)使用的一些優(yōu)勢(shì)。例如，通過(guò)使用污跡標(biāo)規(guī)，人們可關(guān)注于用于監(jiān)視的標(biāo)規(guī)以及在清洗處理期間從標(biāo)規(guī)上去除或仍保留在標(biāo)規(guī)上的污跡的探測(cè)，這樣監(jiān)視過(guò)程可被標(biāo)準(zhǔn)化。污跡水平和標(biāo)規(guī)120的清洗效果是可控的。標(biāo)規(guī)120可暴露在清洗的環(huán)境中，該環(huán)境與待清洗項(xiàng)目所暴露的環(huán)境具有同樣的效能或更低的效能，或者標(biāo)規(guī)120受到比項(xiàng)目22和24更加嚴(yán)重的污染，使得當(dāng)標(biāo)規(guī)完全清洗時(shí)保證待清洗的項(xiàng)目能完全地清洗。另一種選擇是弄臟標(biāo)規(guī)120，不如項(xiàng)目22和24嚴(yán)重(此處它意味著用更少的污跡覆蓋該標(biāo)規(guī))，但是當(dāng)將標(biāo)規(guī)120放入效能少很多的清洗環(huán)境中，使得在標(biāo)規(guī)清洗之前，待清洗項(xiàng)目將得到完全地清洗。這一選擇允許降低探測(cè)器暴露的污跡水平，這樣，減少了與受污跡污染的探測(cè)器表面相結(jié)合的潛在問(wèn)題。通常，可建立這樣的條件使得當(dāng)將標(biāo)規(guī)120清洗到某一水平時(shí)，項(xiàng)目22和24將完全地清洗。這將允許使用更少的靈敏探測(cè)器。標(biāo)規(guī)120可用如前面所提到的任何合適的污跡或它們的組合來(lái)覆蓋。優(yōu)選的，標(biāo)規(guī)120用與待清洗項(xiàng)目22和24中所含的那些污跡相同的污跡進(jìn)行覆蓋。然而，如果需要，標(biāo)規(guī)120可用不同于待清洗項(xiàng)目22和24的污跡來(lái)覆蓋。這將允許使用標(biāo)規(guī)上的某種污跡以及特別適用于該類(lèi)型污跡的優(yōu)選類(lèi)型的探測(cè)技術(shù)。只要通過(guò)與特定設(shè)備結(jié)構(gòu)有關(guān)的試驗(yàn)建立了標(biāo)規(guī)120的清洗與待清洗項(xiàng)目的清洗之間的適當(dāng)關(guān)系，可利用許多其他的選擇。
圖7a闡述了具有污跡覆蓋的標(biāo)規(guī)120和定位在密封室102中的污跡探測(cè)器122的設(shè)備16。標(biāo)規(guī)120可以是用污跡覆蓋的任何合適的表面。例如，標(biāo)規(guī)120可以是平板或優(yōu)選可去除地結(jié)合到支持物的一片合適的材料。優(yōu)選的，標(biāo)規(guī)120和支持物124之間的連接以這樣的方式產(chǎn)生使得標(biāo)規(guī)的連接區(qū)域沒(méi)有弄臟。存在幾種方法來(lái)控制相對(duì)于項(xiàng)目22和24的標(biāo)規(guī)120的清洗功效。例如，可將閥門(mén)104調(diào)整到不同的水平上以控制腔20和密封室102之間的流動(dòng)連通。更大的閥門(mén)104將提供更好的流動(dòng)連通，這樣，腔20和密封室102中的清洗功效將彼此更加接近。另一選擇是在密封室102或腔20或者兩者中提供可調(diào)的攪動(dòng)系統(tǒng)。通過(guò)調(diào)整攪動(dòng)水平，可將密封室102或腔20中的清洗功效調(diào)整到預(yù)定的水平。探測(cè)器22可以是任何合適的類(lèi)型，例如，它可以是電極。設(shè)備16的其他部分與圖14中的那些部件相類(lèi)似。在一個(gè)實(shí)施例中，在清洗處理期間將閥門(mén)104在預(yù)定的水平打開(kāi)，并且用探測(cè)器122監(jiān)視密封室102中洗滌溶液的污跡水平。
在另一實(shí)施例中，使用與圖6中所示設(shè)備相類(lèi)似的設(shè)備，唯一的不同在于將污跡覆蓋標(biāo)規(guī)120放置在密封室102中。在這一情況下，標(biāo)規(guī)120由對(duì)預(yù)定的波長(zhǎng)范圍透明的材料制成。優(yōu)選的，標(biāo)規(guī)120具有用污跡覆蓋的平坦表面，該污跡與化學(xué)藥品源108(見(jiàn)圖6)所含有的化學(xué)藥品反應(yīng)，產(chǎn)生吸收某一范圍波長(zhǎng)的光的化合物。還可以在沒(méi)有化學(xué)藥品源的情況下單獨(dú)使用光源114和分光光度計(jì)112。
圖7b顯示了另一實(shí)施例，其中標(biāo)規(guī)120并沒(méi)有放置在密封室中，代替地將其放置在一個(gè)缺口內(nèi)。如這一圖中所示，標(biāo)規(guī)120可去除地連接到支持物122。優(yōu)選的，標(biāo)規(guī)120是具有用污跡覆蓋其表面一側(cè)或兩側(cè)的平板。將支持物122安裝到缺口130的壁上。優(yōu)選的，支持物122是可移動(dòng)的，或者標(biāo)規(guī)可在多個(gè)位置與支持物122結(jié)合，使得標(biāo)規(guī)120在缺口130中的位置可調(diào)。缺口130可具有不同的形狀。例如，它可是傾斜的裂口，具有如圖7b中所示的具有從腔20的壁處分叉的兩個(gè)側(cè)壁132。還可將兩個(gè)側(cè)壁132制成彼此平行。如果需要，缺口130還可具有僅帶一端朝腔20開(kāi)口的環(huán)繞側(cè)壁。由于有限的空間，缺口130內(nèi)的清洗功效低于項(xiàng)目22和24所放置的區(qū)域，并且缺口130越深越窄，清洗功效就越低。這樣，有關(guān)標(biāo)規(guī)120的清洗功效可通過(guò)將其放置在缺口130內(nèi)的不同位置處來(lái)進(jìn)行調(diào)整。腔20內(nèi)的攪動(dòng)水平也可用于調(diào)整清洗功效。
在缺口130相對(duì)的兩側(cè)可提供光源114和探測(cè)器112。側(cè)壁132可由對(duì)來(lái)自光源114的光透明的材料制成。標(biāo)規(guī)120也可由對(duì)來(lái)自光源114的光透明的材料制成。這樣，石英對(duì)于側(cè)壁132和標(biāo)規(guī)120是合適的材料。圖7c和7d闡述了缺口130的兩個(gè)另外的結(jié)構(gòu)。在圖15c中所示的布置中，將缺口130定位在腔20的角落處。將光源114放置在緊鄰缺口130的腔20的外部空間中。在圖7d中所示的布置中，缺口130也可定位在腔20的角落處，但向外突出。將光源114和探測(cè)器112放置在緊鄰缺口130的腔20的外部空間中。如果待用的標(biāo)規(guī)120具有平坦表面，則該表面能以任何適當(dāng)?shù)姆较颉⒋怪?、水平或成一定角度安置。?lái)自光源114的光束可以是垂直的、水平的或者是任意其他角度的。
圖7a-7d所闡述的設(shè)備很容易適合進(jìn)一步包括一個(gè)或多個(gè)其他合適類(lèi)型的探測(cè)器、真空泵或者真空源，以便在清洗、消毒系統(tǒng)后用真空干燥項(xiàng)目。
通常的，本發(fā)明設(shè)備的實(shí)施例可應(yīng)用一個(gè)或多個(gè)額外的污跡探測(cè)器。適于探測(cè)蛋白質(zhì)的污跡探測(cè)器是特別有用的附加部分。在這種實(shí)施例中，優(yōu)選地使用一個(gè)或多個(gè)用于探測(cè)無(wú)機(jī)污跡的探測(cè)器與適于探測(cè)蛋白質(zhì)和其他有機(jī)種類(lèi)的紫外線-可見(jiàn)光光譜探測(cè)器相結(jié)合。后一類(lèi)型的探測(cè)器的例子是應(yīng)用220nm探測(cè)波長(zhǎng)的分光光度計(jì)，該探測(cè)波長(zhǎng)是身體中所發(fā)現(xiàn)的所有蛋白質(zhì)和許多有機(jī)分子共有的紫外線吸收波長(zhǎng)要素的其中一種。許多其他波長(zhǎng)也是合適的，包括260、265和280nm。另一優(yōu)選污跡探測(cè)器組合連同用于探測(cè)蛋白質(zhì)的色度自動(dòng)滴定器，應(yīng)用一個(gè)或多個(gè)探測(cè)器。另一優(yōu)選探測(cè)器組合應(yīng)用離子選擇電極探測(cè)器和濁度探測(cè)器。也可應(yīng)用不同于所列出的那些探測(cè)器的其他探測(cè)器的組合。在此所闡述的所有設(shè)備都可應(yīng)用腔20，其還可用作真空腔，使得在具有真空源的腔中進(jìn)行真空干燥。用于液相或氣相消毒的各種消毒系統(tǒng)可結(jié)合到本發(fā)明的設(shè)備中。當(dāng)將清洗和/或消毒長(zhǎng)且窄的內(nèi)腔裝置時(shí)，可將腔20進(jìn)一步分成兩個(gè)子腔，其中用分別定位在兩個(gè)子腔中的具有兩個(gè)內(nèi)腔開(kāi)口末端的密封界面來(lái)分隔兩個(gè)子腔。在兩個(gè)子腔之間可產(chǎn)生壓力差，使得清洗和消毒劑液體流過(guò)該內(nèi)腔。這樣，內(nèi)腔可更加有效地清洗和消毒。
適當(dāng)?shù)那逑磳?duì)于下面的滅菌和消毒處理是必要的。醫(yī)院工作者在將醫(yī)療儀器放置到滅菌器或消毒器中之前可視覺(jué)觀察所有手工清洗和機(jī)器清洗的醫(yī)療儀器。對(duì)于綜合的洗滌器/滅菌器或者洗滌器/消毒器來(lái)說(shuō)，工作者不能在洗滌階段和滅菌或消毒階段之間通過(guò)取出儀器并檢查儀器的清潔度來(lái)中斷循環(huán)。因此，對(duì)于自動(dòng)洗滌器/滅菌器或者洗滌器/消毒器，確定醫(yī)療儀器清潔度的能力是非常關(guān)鍵的。尤其是，該儀器具有難于清洗的區(qū)域。
關(guān)節(jié)、鉸鏈和匣式簧板的成對(duì)表面被認(rèn)為是要清洗的最具挑戰(zhàn)性的區(qū)域。鑷子、剪刀、止血鉗和夾子的成對(duì)表面的縫隙僅有大約0.05mm小。需要模擬成對(duì)區(qū)域的適當(dāng)?shù)那逑粗甘緞﹣?lái)確定洗滌器、洗滌器/滅菌器和洗滌器/消毒器的清洗功效。
圖8a、8b和8c顯示了根據(jù)本發(fā)明的清洗指示劑，標(biāo)規(guī)，138。這一清洗指示劑可用在上述提到的清洗設(shè)備和方法以及許多其他清洗方法和系統(tǒng)中。在簡(jiǎn)單的形式(圖8a)中，它包含了保持在平行且被一對(duì)隔片144彼此分開(kāi)成不連續(xù)距離的兩個(gè)底物140和142。該隔片144由具有可控公差厚度的觸毛或其他材料制成。污跡146位于底物140和142之間。固定器148將底物140和142還有隔片144固定在一起。
標(biāo)規(guī)138的整體形狀可以是長(zhǎng)方形、圓形或者任何其他合適的形狀。優(yōu)選的，它在尺寸上大約是0.5”(W)乘1.5”(L)。底物140和142在形狀或材料上可以是相同的，或者可以是不同的。兩個(gè)底物可具有不同的厚度。可應(yīng)用額外的底物150(圖8b)以形成標(biāo)規(guī)138b來(lái)效仿某些真實(shí)世界的情況。例如，令人滿意的是模型污跡攔截在硅樹(shù)脂表面和不銹鋼表面之間。如果硅樹(shù)脂是柔軟的，則底物150可由硅樹(shù)脂構(gòu)成并且可由堅(jiān)硬底物142b支持，堅(jiān)硬底物142b具有在底物150和底物140b之間攔截且定位在隔片144b之間的污跡146b。固定器148b將所有的薄片固定在一起，其中一個(gè)固定器148b具有定位銷(xiāo)152用于與清洗設(shè)備連接(未顯示在圖8b中)。
底物140、142和150可以是透明的、半透明的或者不透明的，為了易于觀察優(yōu)選具有透明的材料。底物可以是不銹鋼、鋁、聚四氟乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、硅樹(shù)脂、玻璃、石英和任何其他合適的材料和聚合物。優(yōu)選的，底物是堅(jiān)硬的材料。更優(yōu)選的，底物是透明的。污跡146可以是任何人造測(cè)試底物或動(dòng)物的血。污跡可以是任何有機(jī)污跡、無(wú)機(jī)污跡和有機(jī)污跡和無(wú)機(jī)污跡的組合。
隔片144在底物140和142之間產(chǎn)生了界定的縫隙。隔片可以是任何具有界定厚度的堅(jiān)硬材料。它們由與底物140和142相同的材料制成，并可被制成整體部分。優(yōu)選的，隔片144具有大約0.05mm的厚度。
固定器148可以是夾子、別針、束帶、螺釘、橡皮圈、摁扣帽或者任何其他固定方法將所有的薄片固定在一起。比兩個(gè)單獨(dú)固定器148更好的是應(yīng)用單個(gè)固定器設(shè)計(jì)。固定器148可以是可去除的或者是永久的。固定器148可以是膠粘的或者是粘合的。固定器148可以是通過(guò)將底物焊接、粘合、熔合、摁扣在一起的機(jī)構(gòu)，或者是任何其他將底物140和142固定在一起的手段。
圖8c顯示了清洗指示劑138c，其中底物140c和隔片144c各自形成一部分，將它們兩個(gè)合在一起形成指示劑138c。突出156從隔片144c伸出并摁扣到另一同樣的底物140c的開(kāi)口154中。提供了定位銷(xiāo)152c。
適當(dāng)?shù)陌b是重要的以維持污跡的潮濕度。圖9闡述了在底物204上包含污跡202的污跡標(biāo)規(guī)200，其被包裹在屏蔽蒸汽的包裝206中以確保污跡內(nèi)的濕氣不會(huì)溢出。在包裝206中包括潮濕指示劑208，諸如在存在足夠的濕氣時(shí)顯示顏色的指示劑。接著用戶可檢查以確信污跡202沒(méi)有由于包裝損壞或一些其他原因而干燥。當(dāng)然，可提供屏蔽210以保護(hù)污跡202避免在搬運(yùn)和存儲(chǔ)期間從底物204上剝離并且它還增強(qiáng)了從底物204上去除污跡202的清洗難度?？蓪⑽北３植牧?12增加到包裝中幫助維持其中適當(dāng)?shù)某睗瘛?br> 圖10顯示了在底物234上包含污跡232的污跡標(biāo)規(guī)230。底物234是蒸汽不可透過(guò)的，并且密封裝配蓋236可釋放地粘貼于污跡232周?chē)牡孜?。蓋236是蒸汽不可透過(guò)的，并且優(yōu)選地足夠堅(jiān)硬以提供一些污跡232的機(jī)械保護(hù)。
提供前述的例子僅用作闡述并非意旨對(duì)本發(fā)明的限定，在不脫離本發(fā)明精神和范圍內(nèi)，本發(fā)明可有許多變化。
權(quán)利要求
1.一種用于監(jiān)視醫(yī)療儀器清洗處理的清洗指示劑，其包含底物；位于底物上預(yù)定量的濕污跡；和包繞在該污跡周?chē)目扇コ牟煌高^(guò)蒸汽的屏蔽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑，其中將濕污跡布置在底物和相對(duì)表面之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑，并且進(jìn)一步在濕污跡上包含液體可透過(guò)屏蔽。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的清潔指示劑，其中液體可透過(guò)屏蔽是篩網(wǎng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑，其中濕污跡從由有機(jī)污跡、無(wú)機(jī)污跡和它們的混合物所組成的組中選擇。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑，其中濕污跡的潮濕量按照重量從10％到95％。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑，其中濕污跡的潮濕量按照重量從30％到70％。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑，其中底物是透明的。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑并且進(jìn)一步包括在蒸汽不可透過(guò)的屏蔽中的潮濕指示劑籍此確保濕污跡具有足夠的潮濕量。
10.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑并且進(jìn)一步包括在蒸汽不可透過(guò)的屏蔽內(nèi)的含水吸收材料。
11.根據(jù)權(quán)利要求1的清潔指示劑并且進(jìn)一步包括儀器，清潔指示劑連同待清洗儀器一起使用以評(píng)估是否清洗處理已經(jīng)充分地清洗了儀器。
12.包含多個(gè)根據(jù)權(quán)利要求1的清洗指示劑的套裝，其中清洗指示劑基本上彼此相同。
13.一種評(píng)估醫(yī)療儀器洗滌設(shè)備中的清洗處理功效的方法，該方法包含步驟將醫(yī)療儀器和清洗指示劑放入洗滌設(shè)備中，該清洗指示劑包含位于底物上的預(yù)定量的濕污跡；處理儀器洗滌設(shè)備中的醫(yī)療儀器和清洗指示劑以實(shí)現(xiàn)對(duì)其清洗；和檢查底物以評(píng)估是否所有預(yù)定量的濕污跡已經(jīng)從其上清洗掉。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中將濕污跡定位在底物和相對(duì)表面之間。
15.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中清洗指示劑在處理步驟期間在濕污跡上具有液體可透過(guò)屏蔽以增強(qiáng)從底物上清洗濕污跡的要求。
16.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中濕污跡從由有機(jī)污跡、無(wú)機(jī)污跡和它們的混合物所組成的組中選擇。
17.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中在處理步驟之前濕污跡的潮濕量是按照重量從10％到90％。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的方法，其中在處理步驟之前濕污跡的潮濕量是按照重量從30％到70％。
19.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中底物是透明的并且評(píng)估是否濕污跡已經(jīng)從底物上洗掉的步驟包含將光穿過(guò)底物并測(cè)量從中穿過(guò)的光量。
20.根據(jù)權(quán)利要求13的方法，并且進(jìn)一步包含去除蒸汽不可透過(guò)的屏蔽的步驟，在將清洗指示劑放入到洗滌設(shè)備中之前，該屏蔽包繞著濕污跡。
全文摘要
一種用于監(jiān)視對(duì)醫(yī)療儀器進(jìn)行清洗處理的污跡標(biāo)規(guī)，應(yīng)用含有潮濕的污跡以便更精確地效仿可存在于清洗處理中待清洗的儀器上的污跡。
文檔編號(hào)A61L12/00GK1961966SQ20061014649
公開(kāi)日2007年5月16日 申請(qǐng)日期2006年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月30日
發(fā)明者林斯民, R·C·小普拉特, V·米爾錢(qián)達(dá)尼 申請(qǐng)人:伊西康公司