專利名稱：用于頭發(fā)的裝置和制劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種頭發(fā)梳理裝置(hair grooming device)和與該裝置一起使用的制劑。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及由頭發(fā)梳理裝置沉積有益物質(zhì)(benefit agent)(特別是聚硅氧烷) 的的問題。因此，本發(fā)明提供了一種頭發(fā)梳理裝置，包括頭部、霧化器(nebuliser)、其電源和包含在使用過程中通過霧化器向頭發(fā)應(yīng)用的組合物的儲庫(reservoir)，該組合物包括包含具有13或更短的平均碳鏈長度的烴和有益物質(zhì)的溶液，和其中該組合物在25°C下具有 5cSt或更低的粘度。優(yōu)選地，頭部是帶剛毛(bristle)或齒的，更優(yōu)選該裝置是梳子或刷子。最優(yōu)選它是刷子。霧化器選自本領(lǐng)域已知的霧化器。優(yōu)選地，霧化器包括由剛性環(huán)限定的絲網(wǎng)、包含待霧化的組合物的儲庫和連接到電源的電路。這種霧化器可以從Aerogen 商購。優(yōu)選地，絲網(wǎng)相對于儲庫凸出。這有利于使用過程中霧化流體向頭發(fā)上移動。優(yōu)選地，霧化器位于頭部中，且頭部還包括在使用過程中向頭發(fā)上釋放霧化流體的孔隙。優(yōu)選地，該孔隙是頭部中的孔或槽。在優(yōu)選的實施方式中，存在多個孔隙。如果該裝置是刷子，則優(yōu)選孔隙在刷頭上位于中心。更優(yōu)選地，孔隙被剛毛圍繞。 在存在一個以上孔隙的情況中，優(yōu)選孔隙對稱地排列在刷頭上，以提供霧化流體的均勻釋放。如果該裝置是梳子，則優(yōu)選存在均勻地位于梳頭上的多個孔隙。優(yōu)選地，霧化器位于裝置的腔室中，且該腔室通過通道與外部連通。優(yōu)選地，該裝置包括容納電源的柄部?；蛘撸娫纯梢允仟毩⒌?，且該裝置可以通過電力網(wǎng)供電。儲庫中所包含的組合物包含具有13或更短的平均碳鏈長度的烴。有益物質(zhì)可以選自保濕劑(moisturiser)、抗皺劑、頭發(fā)營養(yǎng)物等、香料、硅油、蠟、 高級脂肪酸、精油、脂類、皮膚清涼劑(skin coolant)、維生素、遮光劑、甘油、頭發(fā)定型聚合物、著色劑、頭發(fā)調(diào)理劑、頭發(fā)生長促進劑、維生素、頭發(fā)拉直劑、頭發(fā)生長刺激劑、頭發(fā)脫落抑制劑、抗菌化合物、抗真菌化合物、抗炎化合物、止癢劑、皮脂抑制劑、防曬劑及其混合物。有益物質(zhì)優(yōu)選是聚硅氧烷。合適的聚硅氧烷包括聚二有機硅氧烷(polydiorganosiloxane)，特別是CTFA名稱為二甲基硅油(dimethicone)的聚二甲基硅氧烷。優(yōu)選的是聚硅氧烷在25°C時具有低于IOOOcSt的粘度，更優(yōu)選低于700dt的粘度，更優(yōu)選低于500dt的粘度。具有350或以下的粘度的聚硅氧烷為特別優(yōu)選的。具有所需粘度的合適的聚硅氧烷可以從Dow Corning、Wacker、GE和Clearco獲得。這些聚硅氧烷的例子是來自Dow的DC200、Wacker AK 350和來自Clearco的純的 Silicone Fluid 350cSt(食品級)。優(yōu)選地，組合物中的聚硅氧烷的總含量低于2重量％，更優(yōu)選為1重量％或以下。用于本發(fā)明的烴具有13或更短的平均烴鏈長度，優(yōu)選烴鏈具有大于6的平均鏈長度，更優(yōu)選烴具有8至12的平均鏈長度。合適的主要溶劑包括異十二烷和異鏈烷烴 (isoparrafin)H(C9-12) (Isopar H)。在本發(fā)明的某些方面中，溶劑系統(tǒng)可以包括至少兩種成分。用于這種溶劑混合物中的合適的輔助溶劑包括環(huán)戊硅氧烷、棕櫚酸異丙酯和肉豆蔻酸異丙酯。輔助溶劑的含量不應(yīng)超過溶劑混合物的20重量％，優(yōu)選輔助溶劑的含量不應(yīng)超過10重量％。這一組合物中存在的烴優(yōu)選以其中它們能夠溶解有益物質(zhì)的量存在。優(yōu)選烴的含量為高于總組合物的80重量％，更優(yōu)選高于90重量％時，最優(yōu)選高于95重量％。最終組合物的粘度在25°C下為4. 5cSt或更低，更優(yōu)選在25°C下為如乂或更低。 優(yōu)選粘度在25°C下為1. 5cSt或以上，更優(yōu)選高于2dt。優(yōu)選的是，使用這一系統(tǒng)應(yīng)用的組合物在應(yīng)用后留在頭發(fā)上，而不是立刻洗掉 (在應(yīng)用的10分鐘內(nèi))。這類產(chǎn)品被稱為免洗型(leave in)組合物。附圖簡要說明將參照以下非限制性的附圖描述本發(fā)明，其中

圖1是本發(fā)明的刷子的示意性截面，和圖h、b和c是本發(fā)明的刷子的平面圖。
具體實施例方式圖1詳細顯示了連接到容納電源3的柄部2的刷頭1。刷頭1容納霧化器10，所述霧化器10由用于絲網(wǎng)7的支架5和包含頭發(fā)護理組合物的儲庫6組成。刷頭1也具有從刷頭垂下的剛毛8和刷頭1中用于釋放霧化的頭發(fā)護理組合物的孔隙9。圖2顯示本發(fā)明的孔隙的3種實施方式。圖加顯示具有在中心沿刷頭向下延伸并在所有側(cè)面被剛毛8圍繞的孔隙9的刷頭1。在圖2b中，存在3個均勻間隔且垂直于刷子的縱向主軸線(general longitudinal axis)(未顯示)的孔隙。在圖2c中，存在6個孔隙，其排列成兩行，每行三個菱形孔隙。以下非限制的實施例說明本發(fā)明的益處。將X克的組合物置于圖1裝置的儲庫中。放置該裝置以使得由其產(chǎn)生的薄霧會沉積在頭發(fā)上。啟動該裝置，直到儲庫變空。使用標(biāo)準(zhǔn)X射線熒光技術(shù)測量沉積到頭發(fā)上的聚硅氧烷的量。實施例1實施例2實施例A實施例3實施例 B實施例 CDC200 (350cSt 25°C)111111Isopar H (9-12)99異十二烷9989棕櫚酸異丙酯9910Isopar P (C13-C16)99環(huán)戊硅氧烷99粘度(cSt @ 25°C)3.00-3.503.50-4.00>5.003.50-4.005.33>4.00通過XRF測量的沉積 DC200 (ppm)可以被霧化可以被霧化 (550±156)不能被霧化可以被霧化不能被霧化不能被霧化
權(quán)利要求
1.一種頭發(fā)梳理裝置，包括頭部、霧化器、其電源和包含在使用過程中通過霧化器應(yīng)用到頭發(fā)上的組合物的儲庫，所述組合物包括包含具有13或更短的平均碳鏈長度的烴和有益物質(zhì)的溶液，且其中所述組合物在25°C下具有4. 5cSt或更低的粘度。
2.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的裝置，其中，所述有益物質(zhì)為聚硅氧烷。
3.根據(jù)權(quán)利要求3的裝置，其中，所述聚硅氧烷在25°C下具有低于500dt的粘度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3的裝置，其中，所述組合物中聚硅氧烷的總含量為1重量％或更低。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的裝置，其中，所述烴具有8至12的平均鏈長度。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的頭發(fā)梳理裝置，其中，所述頭部為帶剛毛或齒的頭部。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的裝置，其是刷子。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的裝置，其中，所述霧化器包括由剛性環(huán)限定的絲網(wǎng)、包含待霧化的組合物的儲庫和連接到電源的電路。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的裝置，其中，所述絲網(wǎng)相對于儲庫凸出。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的裝置，其中，所述霧化器位于所述頭部中，且所述頭部還包括用于在使用過程中向頭發(fā)釋放霧化流體的孔隙。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求任一項的裝置，包括容納電源的柄部。
12.一種用于向頭發(fā)上沉積頭發(fā)有益物質(zhì)的方法，所述方法包括以下步驟i)形成包含具有13或更短的平均碳鏈長度的烴和有益物質(zhì)的組合物，和其中所述組合物在25 °C下具有低于的粘度； )使用任一項前述權(quán)利要求的裝置霧化該制劑。
全文摘要
頭發(fā)梳理裝置包括頭部、霧化器、其電源和包含在使用過程中通過霧化器向頭發(fā)應(yīng)用的組合物的儲庫，該組合物包括包含具有13或更短的平均碳鏈長度的烴和有益物質(zhì)的溶液，且其中該組合物在25℃下具有4.5cSt或更低的粘度。
文檔編號A45D19/16GK102159173SQ200980136223
公開日2011年8月17日 申請日期2009年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月10日
發(fā)明者A·N·扎德拉維科瓦 申請人:荷蘭聯(lián)合利華有限公司