技術(shù)編號：9488824
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。微電子與半導體集成電路技術(shù)的蓬勃發(fā)展，推動了與其密切相關(guān)的傳感器技術(shù)的微型化、集成化。目前，無論是微型傳感器的探測器芯片，還是后端的信號處理集成電路，都是基于微電子技術(shù)中的薄膜工藝和光刻工藝。因此，光刻工藝中的極限尺寸和光刻精度就成為制約微型傳感器及集成電路芯片的集成規(guī)模和性能的重要因素。盡管電子束曝光及非接觸式曝光技術(shù)成為提高光刻工藝極限尺寸和光刻精度的可選技術(shù)手段，但其較高的生產(chǎn)成本使得基于光致抗蝕劑的接觸式光刻工藝仍然是目前微電子領(lǐng)域首選的經(jīng)濟型光刻...
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