技術編號：9163634
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。納米壓印光刻技術(Nanoimprint Lithography, NIL)是由美國明尼蘇達大學納米結構實驗室Stephen Y.Zhou教授于1995年開始進行的開創(chuàng)性研究，是一種全新微納米圖形化的方法，使用壓印模具通過抗蝕劑的受力變形實現(xiàn)其圖形化的一種新型技術。隨著近幾年納米壓印技術的發(fā)展，越來越多的領域使用納米壓印設備代替電子束光刻設備。其主要應用領域高亮度光子晶體LED、高密度磁盤介質(HDD)、光學元器件(光波導、微光學透鏡、光柵)、生物微流控器...
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