技術(shù)編號(hào)：8256600
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 為了實(shí)現(xiàn)我國(guó)超大規(guī)模集成電路的跨越式發(fā)展，國(guó)家將2020年實(shí)現(xiàn)45nm?22nm 刻線作為我國(guó)微電子產(chǎn)業(yè)的中長(zhǎng)期發(fā)展規(guī)劃，并由此制定了國(guó)家科技重大專項(xiàng)02專項(xiàng)。過 去的幾十年，微電子產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展，集成電路最小特征尺寸決定了一個(gè)晶片上所能集成的 晶體管數(shù)量，也決定了集成電路運(yùn)行速度和存儲(chǔ)容量。光刻技術(shù)作為集成電路的技術(shù)基礎(chǔ)， 是決定集成電路發(fā)展速度的一個(gè)重要因素。光刻機(jī)分辨率的物理極限R決定了集成電路 的最小特征尺寸，光刻機(jī)分辨率的物理極限R決定了集成電路...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。