技術(shù)編號(hào):8056642
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及晶片化腐機(jī),特別涉及化腐機(jī)電控系統(tǒng)。 背景技術(shù)化腐機(jī)是晶片生產(chǎn)加工的設(shè)備,由目前國(guó)內(nèi)使用的從日本進(jìn)口化腐機(jī),整體性能可以滿足良好,但在實(shí)際使用中發(fā)現(xiàn),其電控系統(tǒng)仍存在不足,經(jīng)認(rèn)真分析和研究,發(fā)現(xiàn)它的電控系統(tǒng)在程序控制,工藝流程上存在不合理的地方?,F(xiàn)有機(jī)器進(jìn)行化學(xué)腐蝕后流程是對(duì)硅片進(jìn)行水洗,進(jìn)行水洗時(shí)需用水150升?;瘷C(jī)的純水暫存箱的水量是通過電控系統(tǒng)控制的,電控系統(tǒng)包括PLC和傳感器,通過一個(gè)液面?zhèn)鞲衅鱽頊y(cè)量純水液面,液面?zhèn)鞲衅鬟B接PLC,PLC根據(jù)液面數(shù)據(jù)通過換算得到純水暫存箱的儲(chǔ)水量,并...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。