技術(shù)編號(hào)：7262463
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開(kāi)一種微型儲(chǔ)能器件電極的形成方法，包括以下步驟制作圖形化的微型掩膜板；提供基底，并準(zhǔn)備電極漿料；將微型掩膜板置于基底上；將電極漿料霧化噴涂在覆有微型掩膜板的基底上；將微型掩膜板與基底分離，待電極漿料干燥后基底上形成圖形化的電極層。本發(fā)明的微型儲(chǔ)能器件電極的形成方法通過(guò)微型掩膜板技術(shù)，使得電極層可以制成復(fù)雜精細(xì)的形狀，精密度很高；通過(guò)噴涂技術(shù)將電極漿料均勻噴涂于基底表面，使最終形成的電極層各處厚度更加均勻；具有技術(shù)簡(jiǎn)單，成本低，易于大規(guī)模推廣的優(yōu)點(diǎn)。...
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