技術(shù)編號：7224372
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種用于濕法化學處理微電子、精密機械和光學4吏用的平 面薄的且易斷裂襯底的方法和裝置，其中在制造微電子元件、太陽能電池 等時，使用連續(xù)過程(在線)中的濕法化學處理如清洗、蝕刻、剝離、涂 層和干燥。背景技術(shù)制造微電子元件時的濕法處理技術(shù)目前主要在處理槽內(nèi)進行，其中將安放在料箱內(nèi)的襯底浸入處理槽內(nèi)。1至50個襯底的處理過程間斷地 進行。例如在太陽能電池生產(chǎn)中，連續(xù)(在線)濕法處理設(shè)備的使用日 益增加，其中村底在輥子或者傳送帶上連續(xù)送入處理槽內(nèi)，或在噴...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。