技術(shù)編號：7087049
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及對被處理體進(jìn)行熱處理的。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器設(shè)備的制造中，為了對被處理體例如半導(dǎo)體晶片實(shí)施氧化、擴(kuò)散、CVD(Chemical Vapor Deposition,化學(xué)氣象沉積)、退火等熱處理而使用各種熱處理裝置。使用能夠一次對多個半導(dǎo)體晶片(以下稱為晶片)進(jìn)行熱處理的批量處理式裝置作為上述熱處理裝置，其中公知有立式熱處理裝置。該立式熱處理裝置具備熱處理爐，該熱處理爐用于將載置有多張晶片的保持部從下方搬入(裝載)到下部開口的處理容器內(nèi)，并利用設(shè)置 在...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。