技術(shù)編號：7058021
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及顯示，公開了一種過孔制作方法、陣列基板制作方法及陣列基板、顯示裝置，用以防止在制作過孔時形成倒角，以提高產(chǎn)品質(zhì)量并改善顯示裝置的顯示效果。所述過孔制作方法，包括采用第一刻蝕工藝對電極上方需要形成過孔的區(qū)域的頂層膜層進行部分刻蝕，其中采用第一刻蝕工藝的豎直刻蝕量小于頂層膜層的厚度；采用豎直刻蝕速率大于橫向刻蝕速率的第二刻蝕工藝對需要形成過孔區(qū)域中的剩余部分進行刻蝕至漏出所述電極。專利說明過孔制作方法、陣列基板制作方法及陣列基板、顯示裝置 [0...
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