技術(shù)編號:7043774
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種電子元器件封裝技術(shù),特別涉及一種硅圓片通孔金屬填充工藝。背景技術(shù)半導(dǎo)體技術(shù)遵循著摩爾定律發(fā)展,其集成度每隔18個月便會增加一倍。但是隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,摩爾定律已經(jīng)開始出現(xiàn)瓶頸。隨著芯片線寬不斷縮小,當線寬達到納米級別時,材料的物理、化學(xué)性能將發(fā)生質(zhì)的變化。同時,單個芯片集成度越來越高,發(fā)熱越來越嚴重,將嚴重影響產(chǎn)品的可靠性。并且,隨著芯片線寬的不斷縮小,對制造設(shè)備的性能要求越來越高,造成產(chǎn)品制造成本的急劇上升。但是人們對于電子產(chǎn)品小型化、...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。