技術(shù)編號(hào)：6993234
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在半導(dǎo)體或液晶基板的制造工序中用于清洗基板等的準(zhǔn)分子光照射裝置中，在準(zhǔn)分子燈的保持結(jié)構(gòu)具有特征的燈單元。背景技術(shù)近年來，在半導(dǎo)體或液晶基板的制造工序中，作為除去附著在硅晶片或玻璃基板的表面上的有機(jī)化合物等污垢的方法，使用了紫外線的干洗方法被廣泛利用。尤其是在使用了從準(zhǔn)分子燈放射的真空紫外線的臭氧等活性氧的清洗方法中，提出有各種以更高效率且短時(shí)間進(jìn)行清洗的清洗裝置。圖6是示出日本特開2009-252662號(hào)公報(bào)中公開的紫外線照射裝置100的剖視圖。...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。