技術(shù)編號(hào)：6907474
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及高純或超高純(兆位級(jí)或VLSI級(jí))氣體的供應(yīng)系統(tǒng)裝置領(lǐng)域，特別涉 及一種半導(dǎo)體制造業(yè)特種氣體的配制、輸送設(shè)備的內(nèi)部系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)隨著我國(guó)光電產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，高純或超高純氣體作為原材料應(yīng)用于半導(dǎo)體、航天、 醫(yī)藥等各個(gè)領(lǐng)域。尤其是半導(dǎo)體制造業(yè)，半導(dǎo)體前道工序生產(chǎn)線設(shè)備使用了大量高純度、 強(qiáng)腐蝕、劇毒和易燃易爆的特種工藝氣體。這些氣體的輸送系統(tǒng)的設(shè)計(jì)非常復(fù)雜，施工要 求非常嚴(yán)格， 一旦出現(xiàn)問(wèn)題后果將不堪設(shè)想。現(xiàn)今，半導(dǎo)體迎來(lái)了超微細(xì)時(shí)代，半導(dǎo)體...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。