技術(shù)編號：6905310
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路制造技術(shù)，尤其涉及。背景技術(shù)目前，集成電路技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入超大規(guī)模集成電路時代，隨著集成電路的工藝尺 寸向65納米乃至更精細(xì)的結(jié)構(gòu)發(fā)展，對于從晶圓加工到各種后續(xù)處理工藝都提出了更 高更細(xì)致的技術(shù)要求。其中，晶圓的多晶硅薄膜(Poly)的關(guān)鍵尺寸均勻度(Critical Dimensional Uniformity, CDU)正日益成為Poly刻蝕(Etch)過程中的重要參數(shù)，所述的 關(guān)鍵尺寸是否均勻，會在很大程度上影響最終得到的門電路的工作性...
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