技術(shù)編號(hào)：6905255

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)，特別涉及一種。背景技術(shù)隨著對(duì)超大規(guī)模集成電路高集成度和高性能的需求逐漸增加，半導(dǎo)體技術(shù)向著 65nm甚至更小特征尺寸的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展，而芯片的運(yùn)算速度明顯受到金屬導(dǎo)線所造成的電 阻電容延遲(Resistance Capacitance Delay Time, RC DelayTime)的影響。因此在目前 的半導(dǎo)體制造技術(shù)中，采用具有更低電阻率的銅金屬互連，來(lái)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的鋁金屬互連，以改 善RC延遲的現(xiàn)象。 由于銅具有低電阻率的特性，以...
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