技術(shù)編號：6876046
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于制造平板顯示裝置的設(shè)備和方法，更具體地，涉及一種用于對顯示裝置(例如，液晶顯示裝置)中使用的基板進(jìn)行蝕刻的設(shè)備，以及一種使用該設(shè)備的制造方法。背景技術(shù) 通常，薄膜晶體管陣列是通過幾道沉積和蝕刻工藝來完成的。這里，蝕刻工藝分為干蝕刻方法和濕蝕刻方法。干蝕刻方法是通過使用等離子氣體去除半導(dǎo)體層或金屬的方法。干蝕刻方法的例子包括等離子蝕刻、濺射蝕刻和活性離子蝕刻。濕蝕刻方法是這樣一種方法，通過使用能夠與具有待蝕刻層的對象的目標(biāo)層產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)并使其熔...
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