技術(shù)編號(hào)：6750161
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種適用于具有沿記錄光道形成的凹槽的光記錄與再現(xiàn)介質(zhì)的光記錄與再現(xiàn)介質(zhì)基底、光記錄與再現(xiàn)介質(zhì)制造壓模(stamper)的制造方法以及光記錄與再現(xiàn)介質(zhì)制造壓模。背景技術(shù) 用于利用光學(xué)方法記錄和/或再現(xiàn)信息的、被形成為盤(pán)形的各種光盤(pán)實(shí)際上可以用作光記錄與再現(xiàn)介質(zhì)。具有事先形成在光盤(pán)基底上的模壓坑的只讀光盤(pán)、用于利用磁光效應(yīng)記錄數(shù)據(jù)的磁光盤(pán)以及用于利用記錄膜的相變記錄數(shù)據(jù)的相變光盤(pán)可以用作這種光盤(pán)。在這些光盤(pán)中，在其中可以寫(xiě)入數(shù)據(jù)(諸如磁光盤(pán)和相變光盤(pán)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
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