技術(shù)編號(hào):5271984
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本專利屬于半導(dǎo)體納米材料制備領(lǐng)域,具體涉及一種利用硫脲溶液刻蝕制備ZnO納米結(jié)構(gòu)的方法,特別涉及提出一種與傳統(tǒng)自下而上(bottom-up)法相反的方法即自上而下(top-down)來(lái)制備ZnO納米結(jié)構(gòu)的方法。背景技術(shù)納米材料的制備方法主要分為兩種途徑自上而下(top-down)和自下而上(bottom-up)。自上而下(top-down)是采用大塊晶體通過(guò)腐蝕、刻蝕或者研磨的方式獲得納米材料。自下而上(bottom-up)是從原子或分子出發(fā)來(lái)控制、組裝或...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。