技術編號：5267279
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種半圓柱形微細溝槽的制備方法，尤其涉及一種利用兩次膜層沉積和濕法腐蝕制備半圓柱形微細溝槽的方法。 背景技術微/納元件尤其是微/納光學元件，在科研、軍事、民用等領域都具有巨大的應用 潛力。微米和亞微米半圓柱形微細溝槽的制備是研究的難點。半圓柱形微細溝槽是制備一 些復雜結構的微/納光學元件的基礎。半圓柱形微細溝槽具有廣闊的應用前景，例如，應用 于超分辨成像、SPP納米光刻等方面。 半圓柱型槽的制備方法一類是灰度曝光刻蝕，利用不同區(qū)域光刻膠的曝光劑量...
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