技術(shù)編號：5004339
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種讓被處理氣體通過吸附劑，在對該被處理氣體凈化的同時除去水份，生成低露點純凈干燥氣體的減濕系統(tǒng)及使用該減濕系統(tǒng)的減濕方法。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體設(shè)備的制造過程中，要求集成度高的同時，還要求使用不含氣體狀的不純物、且露點溫度為-50℃以下的氣體。作為得到這種低露點純凈干燥氣體用的裝置，廣泛使用干式減濕裝置，這種干式減濕裝置使用具有吸附劑的旋轉(zhuǎn)式轉(zhuǎn)子。例如，在日本特公昭63-50047號公報中，揭示了為得到低露點干燥空氣的干式除濕裝置。這種裝置具有蜂窩...
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