技術(shù)編號:4852374
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了具有低水垢潛在性的具有至少一個消耗室和至少一個濃縮室的電去離子裝置及在具有消耗室和濃縮室的電去離子裝置中處理水的方法。所述裝置的特征至于,至少一個濃縮室包含由陰離子交換介質(zhì)構(gòu)成的第一濃縮層和含陰離子交換介質(zhì)和陽離子交換介質(zhì)的混合物的第二濃縮層,其中所述第二濃縮層位于第一濃縮層下游,其特征還在于,至少一個消耗室包含由陰離子交換介質(zhì)構(gòu)成的第一消耗層和含陰離子交換介質(zhì)和陽離子交換介質(zhì)的混合物的第二消耗層,其中所述第二消耗層位于第一消耗層下游,且其中所...
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