技術(shù)編號：4486441
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，更準(zhǔn)確地說，本發(fā)明涉及制造膜厚度均勻性得到改進、膜的斷裂大大減少的雙軸取向聚酯膜。由于聚酯膜合乎要求的機械強度、耐熱性、電絕緣性及耐化學(xué)品性，所以聚酯膜已廣泛用作磁記錄介質(zhì)材料、食品包裝材料及電絕緣物。特別是，由于合乎要求的機械強度和耐熱性，聚酯膜在用作磁記錄介質(zhì)的底帶例如視頻或聲頻盒式磁帶和計算機軟盤方面是很有用的。然而，因為磁記錄介質(zhì)要求高的磁記錄密度及高的平滑度，所以在制造聚酯膜時強調(diào)膜的厚度均勻性及機械強度。日本特許公報昭30/5639...
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