技術編號：40635053
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于納米壓印，具體涉及一種基于聚脲增強抗沖擊性的納米壓印模具及其制造方法。背景技術、納米壓印技術，是在微納米尺度獲得復制結構的一種低成本且快速的方法，該技術可將模板上的結構根據(jù)需求復制到大的表面上，再進行常規(guī)的刻蝕、剝離等工藝流程，最終加工出納米結構或器件。納米壓印技術具有大批量、重復性高、超高分辨率、低成本等技術優(yōu)點，被認為是一種有望代替現(xiàn)有uv光刻、x射線光刻及電子束光刻等技術的加工手段，在半導體、生物醫(yī)學、光學器件微納制造等領域得到了廣泛應用。、納米壓印模具的質量和精度直接影響到...
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