技術(shù)編號：40615170
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種半導體集成電路的制造方法，特別是涉及一種監(jiān)測光刻機(scanner)焦距(focus)的方法。背景技術(shù)、隨著技術(shù)節(jié)點的推進，器件節(jié)點會收縮，光刻焦深(dof)越來越小，光刻工藝的光刻機的焦距工藝窗口變得小得多，焦點誤差對產(chǎn)品性能越來越重要，scanner?focus監(jiān)測也變得越來越重要，目前監(jiān)測scanner?focus通過離線(offline)監(jiān)控(monitor)晶圓(wafer)來監(jiān)測focus無法及時反饋機臺focus。這種通過offline方法獲取scanner?foc...
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