技術編號：40611526
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于微流控芯片制作，特別涉及利用聚焦激光刻蝕法制備微流控芯片的方法、微流控芯片及應用。背景技術、微流控技術在生物醫(yī)學、化學分析和材料科學等領域具有廣泛應用，其制造工藝中的關鍵環(huán)節(jié)是微流道的制作。微流道的傳統(tǒng)制作方法包括化學刻蝕、軟光刻、紫外光刻、電子束直寫、噴墨打印等。、以上方法在應用中有各自的局限性。例如，軟光刻利用彈性模具進行微結構復制，雖然成本低、操作簡便，但精度受限于模具精度。紫外光刻利用紫外光通過掩模將圖案轉移到光刻膠上，雖然分辨率高，但設備昂貴且工藝復雜。電子束直寫技術利用...
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