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一種基于陰影掩膜工藝的半導(dǎo)體預(yù)制件及預(yù)制件制備方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):40525398

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制備領(lǐng)域,特別涉及一種基于陰影掩膜工藝的半導(dǎo)體預(yù)制件及預(yù)制件制備方法。背景技術(shù)、shadow?mask(陰影掩膜)工藝為利用shadow?mask作為加工掩膜的工藝,一般作為精密微機(jī)械加工的掩膜,用于在真空室內(nèi)的蒸發(fā)和濺射過(guò)程中將材料沉積到基底上,具體可以應(yīng)用在oled(有機(jī)發(fā)光二極管)面板制造和高分辨率圖案化制備等領(lǐng)域。以mems(微機(jī)電系統(tǒng))器件的圖形化工藝為例,shadow?mask工藝不用光刻刻蝕進(jìn)行圖形化,工藝簡(jiǎn)單低成本,特別是無(wú)需利用濕法刻蝕工藝或干法刻蝕工藝等處理...
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