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用于銅的化學(xué)機械拋光(cmp)漿液以及用于集成電路制造的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3764130

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本發(fā)明一般涉及半導(dǎo)體的制造,更具體地說,涉及一種用于拋光在集成電路(ICs)上的銅互連(copper interconnects)的一種漿液組合物,該組合物含有過氧化氫、檸檬酸、檸檬酸銨以及礬土磨料。集成電路(IC)工業(yè)現(xiàn)在正在研究和開發(fā)可用于集成電路(ICs)中的新的金屬互連材料和結(jié)構(gòu)。一種有發(fā)展前途的并將在未來用于集成電路(IC)互連的金屬材料是銅(Cu)。銅是集成電路工業(yè)中所希望的,因為銅具有比現(xiàn)在在集成電路工業(yè)中使用的鋁和其它金屬材料更為改進(jìn)的電遷...
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