技術編號：3693944

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本實用新型涉及應用冷凝技術的氣相法生產(chǎn)聚乙烯的領域，即一種能使循環(huán)氣氣體得到較好分布的用于循環(huán)氣系統(tǒng)的導流罩。背景技術以前，在氣相法生產(chǎn)聚乙烯工藝中，常規(guī)的氣相反應器底部的分布盤是一個環(huán)形圓板，在非冷凝工藝中可以防止樹脂陳列堆積和保證較好的氣體分布，但是，對于引進冷凝技術的聚乙烯裝置，冷凝劑注入量較大，注入到反應器中的循環(huán)氣物流中含有較多液體小滴，原有分布盤不再適合冷凝操作的要求。容易造成分布盤底部液相分布不好、局部液相分率過高、氣體進入分布盤時夾帶的液相...
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