技術(shù)編號：3570236

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本發(fā)明涉及含有具有特定結(jié)構(gòu)的有機含硅化合物的化學氣相沉積用原料以及使用了該原料的通過化學氣相沉積法來形成含硅薄膜的方法。背景技術(shù)含硅薄膜被用作電容器膜、門極膜、阻擋膜、門極絕緣膜等電子部件的電子構(gòu)件或光波導、光開關、光放大器等光通信用設備的光學構(gòu)件。近年來，伴隨著電子設備的高集成化、高密度化，上述電子構(gòu)件和光學構(gòu)件存在微細化的傾向。在這樣的狀況下，要求含硅薄膜更加薄。按照這樣的要求，使用氮化硅薄膜來代替以往的氧化硅薄膜。作為上述含硅薄膜的形成方法，可列舉出...
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