技術(shù)編號：3451517
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于精細化工，涉及到高純氧化物粉體的雜質(zhì)控制技術(shù)，特別涉及到。背景技術(shù)氧化鎂材料具備由離子濺射引起的變化少；二次電子發(fā)射系數(shù)高；放電起始電壓(著火電壓)和放電維持電壓低；透過性高；絕緣性高等一系列優(yōu)越特性作為保護材料被廣泛使用。而降低PDP屏的著火電壓一直是PDP行業(yè)的一項重要課題。燒結(jié)體氧化鎂靶材的雜質(zhì)是影響著火電壓的一項重要參數(shù)，摻入靶材的難揮發(fā)微量金屬雜質(zhì)0. 005%)如鐵、鋁、錳、銅等，會大大提高PDP屏的著火電壓和放電維持電壓， 嚴重影響...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。